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公开(公告)号：CN105633015A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610134916.5
申请日：2016-03-09
申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
CPC分类号： H01L27/1288 , G02F1/13394 , H01L27/124 , H01L27/1248 , H01L21/77 , H01L27/1214 , H01L2021/775
摘要： 本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置，以减少彩膜工艺的加工工序，并进一步减少显示装置的制造工序，节省生产成本和时间。阵列基板的制造方法包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管；通过半色调掩模构图工艺，在薄膜晶体管的前侧形成具有过孔的钝化层，及在所述钝化层的前侧形成隔垫物。采用该方法制造阵列基板，无需在彩膜基板背侧制备隔垫物，减少了彩膜工艺的加工工序，进而减少了显示装置的制备工序，节省了生产成本和加工时间。
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公开(公告)号：CN108277465B
公开(公告)日：2020-03-10
申请号：CN201810084682.7
申请日：2018-01-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
摘要： 本发明公开一种磁控溅射设备及其遮挡板组件，其中遮挡板组件包括相互搭接的第一遮挡板和第二遮挡板，第一遮挡板和第二遮挡板设置为弧形结构，第一遮挡板的圆心与第二遮挡板的圆心分别设置于遮挡板组件的两侧。由于第一遮挡板和第二遮挡板预先设置为弧形结构，有利于遮挡板自身内力的释放，从而可以降低遮挡板变形的风险。
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公开(公告)号：CN108277465A
公开(公告)日：2018-07-13
申请号：CN201810084682.7
申请日：2018-01-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
摘要： 本发明公开一种磁控溅射设备及其遮挡板组件，其中遮挡板组件包括相互搭接的第一遮挡板和第二遮挡板，第一遮挡板和/或第二遮挡板设置为弧形结构，第一遮挡板的圆心与第二遮挡板的圆心分别设置于遮挡板组件的两侧。由于第一遮挡板和第二遮挡板预先设置为弧形结构，有利于遮挡板自身内力的释放，从而可以降低遮挡板变形的风险。
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公开(公告)号：CN105633015B
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201610134916.5
申请日：2016-03-09
申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
CPC分类号： H01L27/1288 , G02F1/13394 , H01L27/124 , H01L27/1248
摘要： 本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置，以减少彩膜工艺的加工工序，并进一步减少显示装置的制造工序，节省生产成本和时间。阵列基板的制造方法包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管；通过半色调掩模构图工艺，在薄膜晶体管的前侧形成具有过孔的钝化层，及在所述钝化层的前侧形成隔垫物。采用该方法制造阵列基板，无需在彩膜基板背侧制备隔垫物，减少了彩膜工艺的加工工序，进而减少了显示装置的制备工序，节省了生产成本和加工时间。
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公开(公告)号：CN117075394A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202311116737.5
申请日：2023-08-31
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 武汉京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1343 , G02F1/1362 , G02F1/1368 , G02F1/1333
摘要： 本申请公开了阵列基板、制备方法和显示装置，该阵列基板包括衬底基板；像素电极层，像素电极层位于衬底基板的一侧；中间层，中间层位于位于像素电极层远离衬底基板的一侧，中间层远离衬底基板的一侧表面具有平面部和多个凸起部；公共电极层，公共电极层位于中间层的凸起部远离衬底基板的一侧表面。该结构可以降低公共电极层与像素电极层在沿驱动电场方向上的间距，使得驱动电场的强度得到增强，在相同透过率下，仅需要较低的液晶驱动电压即可获得较好的显示效果，使得阵列基板的功耗降低。
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