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公开(公告)号：CN107132856B
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201710335125.3
申请日：2017-05-12
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
摘要： 本发明的目的在于提供一种水平度调整装置及水平度调整方法，所述水平度调整方法用于将多个待调整部件的测量点位置调整至处于同一预定水平面上；所述方法包括：在各待调整部件的测量点位置处设置待触发物，所述待触发物能够被预设光线触发而发出预设触发信号；发射所述预设光线，且所述预设光线为在所述预定水平面上传播的准直光线；调整每一待调整部件的位置，直至每一待调整部件的测量点处的待触发物发出所述预设触发信号。本发明所提供的水平度调整方法和装置测量方法方便，节省作业时间，提高作业效率，且能够提高水平度调整精度。
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公开(公告)号：CN108277465B
公开(公告)日：2020-03-10
申请号：CN201810084682.7
申请日：2018-01-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
摘要： 本发明公开一种磁控溅射设备及其遮挡板组件，其中遮挡板组件包括相互搭接的第一遮挡板和第二遮挡板，第一遮挡板和第二遮挡板设置为弧形结构，第一遮挡板的圆心与第二遮挡板的圆心分别设置于遮挡板组件的两侧。由于第一遮挡板和第二遮挡板预先设置为弧形结构，有利于遮挡板自身内力的释放，从而可以降低遮挡板变形的风险。
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公开(公告)号：CN108277465A
公开(公告)日：2018-07-13
申请号：CN201810084682.7
申请日：2018-01-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
摘要： 本发明公开一种磁控溅射设备及其遮挡板组件，其中遮挡板组件包括相互搭接的第一遮挡板和第二遮挡板，第一遮挡板和/或第二遮挡板设置为弧形结构，第一遮挡板的圆心与第二遮挡板的圆心分别设置于遮挡板组件的两侧。由于第一遮挡板和第二遮挡板预先设置为弧形结构，有利于遮挡板自身内力的释放，从而可以降低遮挡板变形的风险。
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公开(公告)号：CN107132856A
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：CN201710335125.3
申请日：2017-05-12
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
摘要： 本发明的目的在于提供一种水平度调整装置及水平度调整方法，所述水平度调整方法用于将多个待调整部件的测量点位置调整至处于同一预定水平面上；所述方法包括：在各待调整部件的测量点位置处设置待触发物，所述待触发物能够被预设光线触发而发出预设触发信号；发射所述预设光线，且所述预设光线为在所述预定水平面上传播的准直光线；调整每一待调整部件的位置，直至每一待调整部件的测量点处的待触发物发出所述预设触发信号。本发明所提供的水平度调整方法和装置测量方法方便，节省作业时间，提高作业效率，且能够提高水平度调整精度。
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公开(公告)号：CN206750371U
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201720320531.8
申请日：2017-03-29
申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本实用新型实施例提供一种基板搬运装置及镀膜设备，涉及液晶显示器制作领域，能够方便弹簧定位块的安装，节省安装时间。所述基板搬运装置包括相对设置的内框架和外框架，外框架上设有基板押元；基板押元上设有多个弹性定位块，弹性定位块用于支撑和定位基板；弹性定位块包括支撑底座、支撑垫和弹性件；支撑底座的支撑面上设置有第一凹槽，支撑垫和弹性件均设置在第一凹槽内；弹性件的两端分别与第一凹槽的底面和支撑垫的底面抵接，弹性件可支撑支撑垫上下移动；弹性定位块还包括插入件，支撑底座的侧面上设置有插口，支撑垫上设置有与插入件配合的限位结构，插入件可插入插口和限位结构中，以限制支撑垫的位移量。本实用新型用于基板搬运。
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公开(公告)号：CN206706198U
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201720526166.6
申请日：2017-05-12
申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： C23C14/35
摘要： 本实用新型提供一种磁控溅射装置和磁控溅射设备。该装置包括：用于固定靶材的靶材承载结构；用于固定待镀膜基板的基板承载结构；多个遮挡结构，多个所述遮挡结构围设为一腔体，所述腔体设置于所述靶材承载结构与所述基板承载结构之间，形成为所述靶材承载结构上的靶材放电产生的等电子体溅射至待镀膜基板的通道；其中所述遮挡结构中的第一遮挡结构包括至少两个工作状态，在不同工作状态时，不同表面朝向所述腔体的内部。该装置通过设置可活动形式的遮挡结构，能够延长使用寿命，减少更换周期，从而提高磁控溅射设备使用的嫁动率。
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公开(公告)号：CN206157224U
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201621280567.X
申请日：2016-11-24
申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： C23C14/50
CPC分类号： C23C14/50 , C23C14/35 , C23C14/54 , C23C14/56 , C23C14/564 , G02F1/133305 , H01J37/3405 , H01J2237/2001
摘要： 本实用新型公开一种真空加热装置，涉及显示技术领域中，解决了现有技术中的托盘由于在大气环境下保存吸附了大量杂质气体，当吸收有杂质气体的托盘再次被使用时造成了镀膜环境的气氛异常，从而导致产品良率降低的问题。真空加热装置包括：真空腔室，真空腔室内设有用于加热托盘的加热单元，真空腔室连通有氮气发生单元。本实用新型提供的真空加热装置用于显示技术领域中。
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公开(公告)号：CN212127975U
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN202020805123.3
申请日：2020-05-14
申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： C03B33/03
摘要： 本实用新型提供一种基板处理装置和显示基板生产设备。该基板处理装置包括收集部和切割部，收集部和切割部分设于待处理基板的上下两侧，且收集部和切割部相对设置；切割部用于将待处理基板切割为碎片；收集部用于收集并容纳碎片。该基板处理装置，能够方便G6代线及以上大世代线玻璃基板发生破损后大块碎片(或整张基板)在设备区域内的处理；在大块碎片(或整张基板)在设备区域内的裁切及收集处理过程中，该装置的使用可以有效的避免二次碎片的发生及因此造成的良率、稼动等各项损失，有效的保护处理人员人身安全，提高碎片处理效率，从而能够更加安全、快速、有效的对碎片进行处理。
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公开(公告)号：CN104404466A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201410828442.5
申请日：2014-12-26
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： C23C14/35
CPC分类号： H01J37/3417 , C23C14/086 , C23C14/3407 , C23C14/352 , C23C14/505 , C23C14/562 , H01J37/3447 , H01J37/3473 , H01J37/3488
摘要： 本发明提供了一种磁控溅射镀膜方法及系统，属于显示技术领域。其中，该磁控溅射镀膜系统包括溅射腔室，还包括设置在所述溅射腔室内的由多条靶材拼接形成的靶材组；与所述靶材组相对设置、用于承载待成膜基板的基板载体；带动所述基板载体沿所述靶材排列方向往复运动的传动装置。本发明的技术方案能够有效提高磁控溅射成膜的均匀性，进而保证显示基板的性能和品质。
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公开(公告)号：CN105677106A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201610014290.4
申请日：2016-01-11
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G06F3/041
CPC分类号： G06F3/0412 , G02F1/13338 , G06F3/041 , G06F2203/04103
摘要： 本发明的实施例提供了触摸基板、触摸面板以及包括该触摸面板的显示装置。触摸基板包括：衬底基板；以及，位于衬底基板之上的触摸感应层，所述触摸感应层包括光敏银浆。本发明的实施例还提供了一种触摸基板的制造方法，包括：提供衬底基板；以及，在衬底基板之上形成触摸感应层，所述触摸感应层包括光敏银浆。通过利用光敏银浆材料形成触摸感应层，无需像制作常规的ITO触摸感应层那样额外地形成光刻胶图案。由此，可以简化工艺流程，提高生产效率并且降低生产成本。
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