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公开(公告)号：CN107017177B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201710277788.4
申请日：2017-04-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种成膜速率检测模组、成膜设备、成膜速率检测方法，属于成膜速率检测技术领域，其可至少部分解决现有的成膜速率检测技术检测准确率低的问题。本发明的成膜速率检测模组包括：多个主传感器，其用于检测其上形成薄膜的速率；遮蔽各主传感器且具有主开口的主挡板，其能运动以使主开口轮流对应每个主传感器；辅传感器，其用于检测其上形成薄膜的速率；遮蔽辅传感器且具有辅开口的辅挡板，其能周期运动，在周期运动过程中辅开口经过对应辅传感器的位置，且辅开口面积与其在一个运动周期中累积扫过面积的比为k，k小于等于1/n，n为主传感器个数。
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公开(公告)号：CN107017177A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201710277788.4
申请日：2017-04-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种成膜速率检测模组、成膜设备、成膜速率检测方法，属于成膜速率检测技术领域，其可至少部分解决现有的成膜速率检测技术检测准确率低的问题。本发明的成膜速率检测模组包括：多个主传感器，其用于检测其上形成薄膜的速率；遮蔽各主传感器且具有主开口的主挡板，其能运动以使主开口轮流对应每个主传感器；辅传感器，其用于检测其上形成薄膜的速率；遮蔽辅传感器且具有辅开口的辅挡板，其能周期运动，在周期运动过程中辅开口经过对应辅传感器的位置，且辅开口面积与其在一个运动周期中累积扫过面积的比为k，k小于等于1/n，n为主传感器个数。
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公开(公告)号：CN104867450B
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201510303114.8
申请日：2015-06-05
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G09G3/3225 , H01L27/32
CPC分类号： H01L27/3276 , G09G3/3208 , H01L27/3248 , H01L27/3258 , H01L2227/323 , H01L2251/5315
摘要： 一种阵列基板及其制作方法、显示装置，该阵列基板包括：衬底基板；设置于所述衬底基板上且构成发光区的多个发光单元；设置于所述衬底基板上且与所述多个发光单元电连接的显示区驱动电路；以及设置于所述衬底基板上并且设置于所述驱动电路周边的外围电路，至少一个所述发光单元位于所述外围电路之上，且所述至少一个发光单元在所述衬底基板上的正投影与所述外围电路在所述衬底基板上的正投影有重叠部分。该阵列基板可以充分利用外围电路区域的空间，从而扩大显示区域的范围，实现窄边框设计。
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公开(公告)号：CN104867450A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201510303114.8
申请日：2015-06-05
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
CPC分类号： H01L27/3276 , G09G3/3208 , H01L27/3248 , H01L27/3258 , H01L2227/323 , H01L2251/5315
摘要： 一种阵列基板及其制作方法、显示装置，该阵列基板包括：衬底基板；设置于所述衬底基板上且构成发光区的多个发光单元；设置于所述衬底基板上且与所述多个发光单元电连接的显示区驱动电路；以及设置于所述衬底基板上并且设置于所述驱动电路周边的外围电路，至少一个所述发光单元位于所述外围电路之上，且所述至少一个发光单元在所述衬底基板上的正投影与所述外围电路在所述衬底基板上的正投影有重叠部分。该阵列基板可以充分利用外围电路区域的空间，从而扩大显示区域的范围，实现窄边框设计。
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公开(公告)号：CN107358871B
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201710744739.7
申请日：2017-08-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
摘要： 本发明公开了一种显示器件，所述显示器件包括：盖板，所述盖板上设有盖板止裂槽；背板，所述背板上设有背板止裂槽；封装胶，所述封装胶夹持在所述盖板和所述背板之间以对所述盖板和所述背板进行密封，所述封装胶与所述盖板和所述背板的外边沿间隔设置，所述盖板止裂槽位于所述封装胶和所述盖板的外边沿之间，所述背板止裂槽位于所述封装胶和所述背板的外边沿之间。根据本发明实施例的显示器件具有防止磕碰损伤效果好、可靠性高等优点。
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公开(公告)号：CN107358871A
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201710744739.7
申请日：2017-08-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
摘要： 本发明公开了一种显示器件，所述显示器件包括：盖板，所述盖板上设有盖板止裂槽；背板，所述背板上设有背板止裂槽；封装胶，所述封装胶夹持在所述盖板和所述背板之间以对所述盖板和所述背板进行密封，所述封装胶与所述盖板和所述背板的外边沿间隔设置，所述盖板止裂槽位于所述封装胶和所述盖板的外边沿之间，所述背板止裂槽位于所述封装胶和所述背板的外边沿之间。根据本发明实施例的显示器件具有防止磕碰损伤效果好、可靠性高等优点。
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公开(公告)号：CN107457152B
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201710812962.0
申请日：2017-09-11
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
摘要： 本发明提供了一种涂布装置及涂布方法。其中，本发明提供的涂布装置，可以在涂布针头对待涂布对象涂布粘合剂之前，通过吸附组件对待涂布对象表面异物进行吸附，大幅提高待涂布对象表面的洁净度，从而增强粘合剂与待涂布对象的粘合力。而且，通过刀轮组件在待涂布对象表面切割出凹槽，可以容置更多的粘合剂，增加粘合剂与待涂布对象接触的比表面积，从而进一步增强该位置处的粘合力。
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公开(公告)号：CN107457152A
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：CN201710812962.0
申请日：2017-09-11
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
CPC分类号： B05C5/0216 , B05C9/10 , B08B15/04 , B26D3/06
摘要： 本发明提供了一种涂布装置及涂布方法。其中，本发明提供的涂布装置，可以在涂布针头对待涂布对象涂布粘合剂之前，通过吸附组件对待涂布对象表面异物进行吸附，大幅提高待涂布对象表面的洁净度，从而增强粘合剂与待涂布对象的粘合力。而且，通过刀轮组件在待涂布对象表面切割出凹槽，可以容置更多的粘合剂，增加粘合剂与待涂布对象接触的比表面积，从而进一步增强该位置处的粘合力。
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公开(公告)号：CN104992945A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201510284300.1
申请日：2015-05-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
CPC分类号： H01L29/78666 , H01L27/1218 , H01L27/1222 , H01L27/124 , H01L27/1248 , H01L27/1259 , H01L27/3246 , H01L29/42364 , H01L29/45 , H01L29/458 , H01L29/513 , H01L29/518 , H01L29/66757 , H01L51/525 , H01L27/1214
摘要： 本发明涉及一种显示基板及其制作方法以及显示装置，上述显示基板包括：多个像素，设置于下基板之上；像素界定层，设置于多个像素的相邻像素之间，与多个像素的上基板相接触，用于界定每个像素，还用于支撑上基板和下基板之间的间隙。通过本发明的技术方案，由于像素界定层既可以界定每个像素，还可以支撑上基板和下基板之间的间隙，相当于同时起到了现有技术中像素界定层和隔垫物的作用，节省了一道制作隔垫物的工艺，简化了制作流程，并且像素界定层比现有技术中隔垫物的横截面积大，可以更好地支撑上基板和下基板之间的间隙。
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公开(公告)号：CN104630704A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201510104512.7
申请日：2015-03-10
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
CPC分类号： C23C14/042 , H01L51/0011 , C23C14/24
摘要： 本发明公开了一种消除掩膜板自磁化方法、基板制作方法、掩膜板检测装置，该掩膜板包括多个相互间隔开的金属条，该消除掩膜板自磁化方法包括：向掩膜板加电，使多个金属条带上同种电荷，从而使发生粘接的相邻金属条分离。本发明使产生粘接的掩膜板带上电荷，根据同性电荷相斥的原理使发生粘接的金属条自行分离。本发明不仅可以在掩膜板检测设备使用，缩短掩膜板检测设备查找Mask产生不良的周期；还可以应用于蒸镀设备中消除掩膜板在搬运途中因震动而再次发生的粘接不良，从而有效地降低实际生产过程中发生的EV Mask产生不良，进而提升AMOLED产品的良率，降低生产成本。
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