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公开(公告)号：CN115552621A
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202180001022.8
申请日：2021-04-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本公开实施例公开了一种显示基板及其制作方法、显示装置，包括：基底，具有走线区；第一走线层，位于基底上，第一走线层在走线区包括间隔设置的多条第一走线，相邻第一走线之间的距离小于2um；绝缘层，位于第一走线层背离基底的一侧，绝缘层具有与各第一走线对应的多个第一过孔；第一平坦层，位于绝缘层背离基底的一侧，第一平坦层具有与各第一过孔对应的第二过孔，第二过孔与第一过孔至少部分重叠。
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公开(公告)号：CN113439299A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN202080000101.2
申请日：2020-01-23
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G09G3/3258
摘要： 一种显示基板及其驱动方法、显示装置。该显示基板(10)包括多个像素驱动单元组(100)。每个像素驱动单元组(100)包括至少两个像素驱动单元(110)，其连接在第一电源电压端(VDD)和同一发光元件(140)的第一端之间，被配置为共同驱动同一发光元件(140)；至少两个像素驱动单元(110)包括具有第一驱动电路(121)和第一数据写入电路(122)的第一像素电路(120)以及具有第二驱动电路(131)和第二数据写入电路(122)的第二像素电路(130)，第一数据写入电路(122)和第二数据写入电路(122)分别被配置为将接收的第一数据信号写入至第一驱动电路(121)以及将接收的第二数据信号写入至第二驱动电路(131)，第一驱动电路(121)和第二驱动电路(131)分别被配置为控制用于驱动同一发光元件(140)的第一驱动电流和第二驱动电流。该显示基板(10)可以提升发光元件(140)的亮度。
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公开(公告)号：CN105549337A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201610077559.3
申请日：2016-02-03
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2053 , G03F7/70025 , G03F7/70383
摘要： 本发明公开一种光刻装置及光刻方法、显示基板的制作方法，涉及显示技术领域，以在简化显示基板制作过程时，提高显示面板的最小解像精度。该光刻装置包括激光发生单元、光线控制单元以及光线校正单元；激光发生单元用于发射激光束，光线控制单元用于按照目标图案改变激光束的传播方向，获取可控激光束；光线校正单元用于将可控激光束校正成用于对目标层进行光刻的光刻激光束。所述光刻方法使用上述技术方案提供的光刻装置。本发明提供的光刻装置用于显示基板的制作中。
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公开(公告)号：CN103107135B
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201310053700.2
申请日：2013-02-19
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
CPC分类号： H01L27/124 , H01L27/1218 , H01L27/1248 , H01L27/1259 , H01L29/66765 , H01L29/78678
摘要： 本发明提供一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示装置，其中，所述阵列基板的制作方法包括：在阵列基板上形成垫高层，所述垫高层位于平坦化层下方，且对应于所述平坦化层的过孔的位置，其中，所述平坦化层为热熔性材料形成。本发明的方案可以局部减小平坦化层的厚度，从而减少过孔形成所需要的曝光能量，进一步增加曝光时的曝光速度，提高生产效率。
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公开(公告)号：CN104299943A
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201410473275.7
申请日：2014-09-16
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
CPC分类号： H01L27/1214 , H01L27/1259
摘要： 本发明提供一种阵列基板的制造方法，所述阵列基板包括像素区和环绕所述像素区的外围区，所述像素区内设置有薄膜晶体管，所述外围区设置有引线，其中，该阵列基板的制造方法包括：形成包括所述薄膜晶体管的源极和漏极的图形；形成平坦化层；形成包括第一透明电极的图形；形成第一过孔，所述第一过孔贯穿所述第一透明电极和所述平坦化层，以暴露所述薄膜晶体管的漏极。本发明还提供一种阵列基板以及一种显示面板。利用所述制造方法制造的阵列基板的平坦化层上不存在云纹缺陷。
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公开(公告)号：CN103353209A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：CN201310246884.4
申请日：2013-06-20
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
CPC分类号： F26B5/04
摘要： 本发明涉及基板制造技术领域，特别涉及一种真空干燥装置及光刻工艺，用于提高光刻精度。本发明公开的真空干燥装置包括：具有排气孔和室门的真空室，与排气孔连通的抽真空装置，以及设置于真空室内的加热组件。采用该真空干燥装置对涂覆有光刻胶的基板进行真空干燥时，使加热和真空干燥同时作用在光刻胶上，以减少硬化膜的产生，从而减少光刻胶中溶剂的残留量，进而提高光刻精度。本发明同时还公开了一种光刻工艺，包括：在基板上涂覆光刻胶；采用具有上述特征的真空干燥装置对涂覆在基板上的光刻胶进行真空干燥及加热，真空度为500Pa～26Pa，加热温度30℃～90℃。
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公开(公告)号：CN110252598B
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201910570348.7
申请日：2019-06-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本申请实施例提供了一种刮刀模组和刮刀装置，刮刀模组包括刀座、夹持件、刮刀和支撑片。刮刀和支撑片层叠设置，夹持件将刮刀的尾部和支撑片的尾部固定于刀座；刮刀的头部沿刮刀的长度方向超出支撑片的头部，刮刀的头部设置有刀刃。在本申请实施例提供的刮刀模组中，增设支撑片相当于提高了刮刀的刚度，附着物向刮刀施加较大的反作用力时，支撑片能够为刮刀提供支撑力抵消该反作用力，显著地减小刮刀的弯曲程度，进而保证刮刀能够继续向附着物施加有效的刮除力，提高了刮除成功率，降低附着物的残留率。
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公开(公告)号：CN112151587A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202011032929.4
申请日：2020-09-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本申请实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置。该显示面板包括：显示基板和平坦层，平坦层位于显示基板的一侧；显示面板中的摄像头区域包括：透明导电结构和第一导电结构；透明导电结构与第一导电结构连接，均位于平坦层远离显示基板的一侧，且均与平坦层接触。本申请实施例有利于将透明导电结构和第一导电结构的制程合并在同一工序中进行，以简化显示产品的工序、缩短生产周期、减少产能损失、降低成本；而且，还有利于显示产品的减薄。
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公开(公告)号：CN103019041A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210489221.0
申请日：2012-11-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70708 , G03F7/2008
摘要： 本发明涉及工程曝光设备技术领域，公开了一种曝光机。所述曝光机包括：载物框，所述载物框的边框内侧设置有固定被曝光物的固定件；光源装置，位于所述载物框所在平面的一侧，且出光方向垂直于所述载物框所在平面。在曝光时载物框不会反射穿过被曝光物的光线，因而避免了载物台斑点。另外，曝光机采用竖直曝光的方式，仅需在现有的光源装置中增加一个三棱镜，就可以实现双向曝光，大大提高了生产效率。
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公开(公告)号：CN118116845A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202410239318.9
申请日：2024-03-01
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明涉及一种工艺炉，包括炉体，所述炉体限定出容纳腔，还包括进气单元和排气单元；所述进气单元包括与所述容纳腔连通的进气管道，所述进气管道位于所述容纳腔内的一端为封闭端，所述进气管道包括位于所述容纳腔内的第一部分，所述第一部分的外周面上设置有进气孔。改变进气管道的进气方向，相较于正对待加工基板吹扫的技术方案，改善了吹扫区域和非吹扫区域温差较大的问题，从而改善显示产品的Mura问题。
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