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公开(公告)号：CN113725269A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202110996995.1
申请日：2021-08-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
摘要： 本申请公开一种发光器件的制备方法、发光器件及发光装置，涉及半导体技术领域，能够解决现有发光器件在点亮测试过程中，测试探针容易划伤驱动引脚的膜层，造成驱动引脚的损伤，进而影响发光器件的生产良率的问题。发光器件的制备方法，包括：在衬底基板上设置发光单元和驱动引脚，其中，所述发光单元与所述驱动引脚连接；在所述驱动引脚远离所述衬底基板的一侧设置导电胶，其中，所述驱动引脚在所述衬底基板上的正投影落入所述导电胶在所述衬底基板上的正投影范围内；通过所述导电胶向所述驱动引脚传输电信号，以对所述发光单元进行通电测试。
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公开(公告)号：CN113421523A
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN202110676406.1
申请日：2021-06-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
IPC分类号： G09G3/3208 , G09G3/3258
摘要： 本发明提供一种显示模组和显示装置。显示模组包括驱动模组和显示面板，所述显示面板包括多列数据线、多行B列像素电路和N行负载电路；B和N都为正整数；所述负载电路包括多列负载子电路；所述驱动模组包括多级驱动电路和N级伪驱动电路；第n行负载电路包括B列负载子电路；第n行负载电路包括的第b列负载子电路包括第n行第b列开关电路和第n行第b列储能电路；n为小于或等于N的正整数，b为小于或等于B的正整数；第n行第b列开关电路用于在第n级伪驱动电路的输出端提供的信号的控制下，控制第b列数据线与第n行第b列储能电路之间连通或断开。本发明改善显示面板显示时底部发暗的不良。
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公开(公告)号：CN108265267B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：CN201810253706.7
申请日：2018-03-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
IPC分类号： C23C14/24
摘要： 本发明涉及有机电致发光领域，公开了一种线性蒸发源及蒸镀装置，该线性蒸发源中，包括坩埚组件，坩埚组件包括第一坩埚本体和第二坩埚本体，第一坩埚本体和第二坩埚本体间设有至少一个连接组件；盖体，盖体上设有多个喷嘴，喷嘴包括至少一个第一喷嘴和至少一个第二喷嘴，第一喷嘴和第二喷嘴处均设有第一挡板组件。上述线性蒸发源中，通过第一挡板组件将喷嘴的出料口密封，避免蒸镀材料的浪费，同时，连接组件将第一坩埚本体的内腔与第二坩埚本体的内腔连通，气化的蒸镀材料在非加热状态的坩埚本体的内腔中固化沉积，避免了坩埚组件内压力过大产生安全隐患，实现了对气化的蒸镀材料的收集，避免了蒸镀材料的浪费，提高了产能，节约了生产成本。
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公开(公告)号：CN108265267A
公开(公告)日：2018-07-10
申请号：CN201810253706.7
申请日：2018-03-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
IPC分类号： C23C14/24
摘要： 本发明涉及有机电致发光领域，公开了一种线性蒸发源及蒸镀装置，该线性蒸发源中，包括坩埚组件，坩埚组件包括第一坩埚本体和第二坩埚本体，第一坩埚本体和第二坩埚本体间设有至少一个连接组件；盖体，盖体上设有多个喷嘴，喷嘴包括至少一个第一喷嘴和至少一个第二喷嘴，第一喷嘴和第二喷嘴处均设有第一挡板组件。上述线性蒸发源中，通过第一挡板组件将喷嘴的出料口密封，避免蒸镀材料的浪费，同时，连接组件将第一坩埚本体的内腔与第二坩埚本体的内腔连通，气化的蒸镀材料在非加热状态的坩埚本体的内腔中固化沉积，避免了坩埚组件内压力过大产生安全隐患，实现了对气化的蒸镀材料的收集，避免了蒸镀材料的浪费，提高了产能，节约了生产成本。
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公开(公告)号：CN113725269B
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202110996995.1
申请日：2021-08-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
摘要： 本申请公开一种发光器件的制备方法、发光器件及发光装置，涉及半导体技术领域，能够解决现有发光器件在点亮测试过程中，测试探针容易划伤驱动引脚的膜层，造成驱动引脚的损伤，进而影响发光器件的生产良率的问题。发光器件的制备方法，包括：在衬底基板上设置发光单元和驱动引脚，其中，所述发光单元与所述驱动引脚连接；在所述驱动引脚远离所述衬底基板的一侧设置导电胶，其中，所述驱动引脚在所述衬底基板上的正投影落入所述导电胶在所述衬底基板上的正投影范围内；通过所述导电胶向所述驱动引脚传输电信号，以对所述发光单元进行通电测试。
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公开(公告)号：CN113937112A
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN202111189248.3
申请日：2021-10-12
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
IPC分类号： H01L27/12 , H01L27/32 , G02F1/1362 , G02F1/133
摘要： 本公开的一些实施例提供了一种阵列基板、显示面板及显示装置，涉及显示技术领域，能够降低粘合剂周围金属信号线短接的几率，提高显示装置的产品良率。所述阵列基板包括衬底，第一绝缘层和设置于第一绝缘层远离衬底一侧的第一金属层。第一金属层包括位于周边区的第一信号线和第二信号线。沿第一方向，第一信号线的端部与第二信号线的至少部分相对设置，第一信号线的端部与第二信号线之间具有间隔。其中，周边区包括围绕显示区的封装区，封装区被配置为设置粘合剂，粘合剂覆盖第一信号线和/或第二信号线的至少部分。第一绝缘层中位于间隔处的部分设置有第一凹槽。本公开一些实施例提供的阵列基板、显示面板及显示装置用于图像显示。
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公开(公告)号：CN108203812B
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201810074497.X
申请日：2018-01-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
摘要： 本发明公开一种基板固定载具、蒸镀设备及蒸镀方法，涉及蒸镀技术领域，以提高蒸镀过程的效率，并提高对待蒸镀基板进行蒸镀后的良率。该基板固定载具包括支撑框架和冷却板，支撑框架中部具有中空区域，支撑框架对应于中空区域的内壁上设置有支撑部；冷却板与支撑框架可相向移动，冷却板与支撑框架相向移动时，冷却板落入中空区域内，冷却板的边缘与支撑部相对；对待蒸镀基板蒸镀时，待蒸镀基板位于中空区域内，待蒸镀基板的边缘位于支撑部上，待蒸镀基板呈长方形结构，冷却板对应于待蒸镀基板的长边的边缘与对应的支撑部之间的间距大于或等于待蒸镀基板的厚度，冷却板对应于待蒸镀基板的短边的边缘与对应的支撑部之间的间距小于待蒸镀基板的厚度。
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公开(公告)号：CN108203812A
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201810074497.X
申请日：2018-01-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
摘要： 本发明公开一种基板固定载具、蒸镀设备及蒸镀方法，涉及蒸镀技术领域，以提高蒸镀过程的效率，并提高对待蒸镀基板进行蒸镀后的良率。该基板固定载具包括支撑框架和冷却板，支撑框架中部具有中空区域，支撑框架对应于中空区域的内壁上设置有支撑部；冷却板与支撑框架可相向移动，冷却板与支撑框架相向移动时，冷却板落入中空区域内，冷却板的边缘与支撑部相对；对待蒸镀基板蒸镀时，待蒸镀基板位于中空区域内，待蒸镀基板的边缘位于支撑部上，待蒸镀基板呈长方形结构，冷却板对应于待蒸镀基板的长边的边缘与对应的支撑部之间的间距大于或等于待蒸镀基板的厚度，冷却板对应于待蒸镀基板的短边的边缘与对应的支撑部之间的间距小于待蒸镀基板的厚度。
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公开(公告)号：CN113327946B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202110626066.1
申请日：2021-06-04
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
IPC分类号： H01L27/12 , H10K59/131 , H10K59/80 , H10K50/84
摘要： 本公开提供的一种显示面板及显示装置，包括：基板；封装胶基底，设置于所述基板上；信号引线，设置于所述基板上，且在所述基板上的正投影与所述封装胶基底在所述基板上的正投影不交叠，向所述封装胶基底方向延伸，被配置为于所述封装胶基底设定距离位置处通过过孔连接设置在所述基板的其他功能层的走线；隔离结构，被配置为使所述封装胶基底远离所述信号引线。本公开通过在信号引线与封装胶基底之间的隔离结构使信号引线在过孔位置处远离封装胶基底，使显示面板即使在封装胶基底处发生封装胶偏移量和宽度的改变，也不会使封装胶与信号引线发生接触，从而造成信号引线与封装胶基底的短路问题，以此消除此种不良造成的显示异常问题。
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公开(公告)号：CN114023913A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111314222.7
申请日：2021-11-08
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
摘要： 本公开实施例提供了一种OLED显示面板、及其像素电路基板和加工方法，像素电路基板至少包括：多个像素结构，相邻像素结构的阳极区域通过预定分割区域分割，预定分割区域内的预定位置设置有凸起结构，预定位置的宽度小于或等于阳极层的刻蚀区域的宽度，预定位置的长度大于或等于阳极层的刻蚀区域的长度。本公开实施例的将原有预定分割区域内设置了一个凸起结构，在设置阳极层和PR胶层时，原有处于平面的阳极层和PR胶层被凸起结构支撑起，原有PR胶层的厚度被凸起结构占据一部分，导致预定分割区域内的PR胶层变薄，因此在进行曝光显影时，能够将PR胶完全洗掉，进而在刻蚀阳极层时，阳极层能够被完全刻蚀掉，不会再出现阳极残留问题。
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