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公开(公告)号:CN1090522A
公开(公告)日:1994-08-10
申请号:CN93121504.8
申请日:1993-12-28
申请人: 住友化学工业株式会社
CPC分类号: G03F7/30
摘要: 显影液配制装置和方法。该显影液包括将未稀释的显影液与纯水混合得到的具有规定浓度的显影液成分;该装置包括装有用于容纳和混合未稀释的显影液和纯水的装置的混合槽,用于测量混合槽中显影液所含显影液组分的浓度的超声波浓度计,通过超声波浓度计输出的输出信号控制送入混合槽的未稀释的显影液和/或纯水的流量的流量控制装置,用于容纳和存储混合槽中含有规定浓度的显影液成分的显影液的存储罐。
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公开(公告)号:CN1407404A
公开(公告)日:2003-04-02
申请号:CN02142219.2
申请日:2002-08-26
申请人: 住友化学工业株式会社 , 东友法肯株式会社
CPC分类号: C08K5/0008 , C08L61/06
摘要: 本发明涉及一种光刻胶组合物,具有优良的基质和光刻胶界面的紧密粘着性,解决了湿蚀刻中的问题,具有优良的敏感度和分辨率,并且具有优良的光刻胶性能,它含有公式(I)所表示的化合物;其中,R1和R2分别表示一个氢原子或者一个烷基,R3则表示一个氢原子、烷基、芳基、芳烷基、卤代烯烃、羰烷基、羰芳基或者羰芳烷基;n表示1到40之间的一个整数,m表示1到5之间的一个整数,l表示1到5之间的一个整数。
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公开(公告)号:CN100524019C
公开(公告)日:2009-08-05
申请号:CN02142219.2
申请日:2002-08-26
申请人: 住友化学工业株式会社 , 东友法肯株式会社
CPC分类号: C08K5/0008 , C08L61/06
摘要: 本发明涉及一种光刻胶组合物,它在基底与光刻胶的界面处具有良好的结合紧密性、并且可以改善湿蚀刻处理时遇到的问题、具有良好的敏感度、分辨率和光刻胶性能,它含有下面通式(I)所表示的化合物:其中,R1和R2分别表示一个氢原子或者一个烷基,R3则表示一个氢原子、烷基、芳基、芳烷基、卤代烯烃、烷羰基、芳羰基或者芳烷羰基,n表示1到40之间的一个整数,m表示1到5之间的一个整数,l表示1到5之间的一个整数。
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公开(公告)号:CN1497344A
公开(公告)日:2004-05-19
申请号:CN200310101996.7
申请日:2003-10-21
申请人: 住友化学工业株式会社
IPC分类号: G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
摘要: 本发明提供了一种含有树脂成分的化学增幅正性抗蚀剂合成物,该树脂本身不溶或微溶于碱性溶液,但在与酸、产酸源、或某些含有芳香环的化合物反应后可溶于碱性溶剂。这些含有芳香环的化合物,其分子量小于或等于1000,并且在190nm~260nm波长范围内,以摩尔消光系数为计其吸光度大于或等于1000升/(摩尔·厘米),该化合物的含量为树脂重量的0.01%~20%。
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公开(公告)号:CN1407405A
公开(公告)日:2003-04-02
申请号:CN02132225.2
申请日:2002-09-04
申请人: 住友化学工业株式会社
IPC分类号: G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号: C08F8/00 , C08F2800/10 , C08F2800/20 , C08F112/14 , C08F8/12 , C08F212/14
摘要: 一种化学放大型正性抗蚀剂组合物,包括酚醛清漆树脂、在碱性水溶液中本身不可溶或可溶性差但是在碱性水溶液中通过酸的作用而变得可溶的树脂,和酸生成剂,其中当酚醛清漆树脂通过凝胶渗透色谱(GPC)利用254nm UV检测器、以聚苯乙烯作标准物进行测试时,基于除了未反应单体之外的总图案面积计,分子量为1000或更小的组分的面积比为25%或更小。该化学放大型正性抗蚀剂组合物在不恶化基本性能例如灵敏度、分辨率等的情况下能够降低费用,并且由于驻波引起的不均匀性小,能够改善图案轮廓、特别是线边缘粗糙度。
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公开(公告)号:CN100342282C
公开(公告)日:2007-10-10
申请号:CN02132225.2
申请日:2002-09-04
申请人: 住友化学工业株式会社
IPC分类号: G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号: C08F8/00 , C08F2800/10 , C08F2800/20 , C08F112/14 , C08F8/12 , C08F212/14
摘要: 一种化学放大型正性抗蚀剂组合物,包括酚醛清漆树脂、在碱性水溶液中本身不可溶或可溶性差但是在碱性水溶液中通过酸的作用而变得可溶的树脂,和酸生成剂,其中当酚醛清漆树脂通过凝胶渗透色谱(GPC)利用254nm UV检测器、以聚苯乙烯作标准物进行测试时,基于除了未反应单体之外的总图案面积计,分子量为1000或更小的组分的面积比为25%或更小。该化学放大型正性抗蚀剂组合物在不恶化基本性能例如灵敏度、分辨率等的情况下能够降低费用,并且由于驻波引起的不均匀性小,能够改善图案轮廓、特别是线边缘粗糙度。
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