制备噻唑化合物的方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101370795B

    公开(公告)日:2011-12-14

    申请号:CN200780002281.2

    申请日:2007-01-11

    CPC classification number: C07D277/32

    Abstract: 本发明公开了一种制备噻唑化合物的简单有利方法,该方法适合工业规模实施。在这种方法中,通过产生大量热的2-卤代-烯丙基异硫氰酸酯和硫酰氯之间的反应制备噻唑化合物,可以抑制噻唑化合物的产率降低。具体公开了制备式(1)表示的2-氯-5-氯甲基噻唑的方法,这种方法特征在于加入硫酰氯与式(2)表示的2-卤代-烯丙基异硫氰酸酯反应,其中Hal表示氯或溴,同时将对反应惰性的气体吹入到反应液体内。

    离子性化合物水溶液的制造方法

    公开(公告)号:CN1683289A

    公开(公告)日:2005-10-19

    申请号:CN200510056339.4

    申请日:2005-03-13

    Abstract: 本发明提供包括以下(a)、(b)和(c)工序的离子性化合物水溶液的制造方法,(a)工序:向含离子性化合物的水溶液中混合疏水性胺以及疏水性有机溶剂,并将水相部的pH调整为0.01~2并分液后,获得含有从离子性化合物生成的阴离子和疏水性胺的盐的有机相,其中,所述离子性化合物具有从-SO3Na基、-SO3K基、-SO3NH4基、-COONa基、-COOK基、-PO3Na基、-PO3K基、-PO3NH4基、以及-COONH4基中选择的至少一种水溶性性基团;(b)工序:在(a)工序中获得的有机相中,将含阳离子化合物作为水溶液进行混合之后,分液,获得含有从离子性化合物生成的阴离子和所述阳离子的盐的水相;(c)工序:用膜分离装置去除无机盐,获得含有从平衡离子为所述阳离子的离子性化合物生成的阴离子的水溶液。

    制备噻唑化合物的方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101370795A

    公开(公告)日:2009-02-18

    申请号:CN200780002281.2

    申请日:2007-01-11

    CPC classification number: C07D277/32

    Abstract: 本发明公开了一种制备噻唑化合物的简单有利方法,该方法适合工业规模实施。在这种方法中,通过产生大量热的2-卤代-烯丙基异硫氰酸酯和硫酰氯之间的反应制备噻唑化合物,可以抑制噻唑化合物的产率降低。具体公开了制备式(1)表示的2-氯-5-氯甲基噻唑的方法,这种方法特征在于加入硫酰氯与式(2)表示的2-卤代-烯丙基异硫氰酸酯反应,其中Hal表示氯或溴,同时将对反应惰性的气体吹入到反应液体内。

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