-
公开(公告)号：CN101644894A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200910160391.2
申请日：2009-08-05
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要： 本发明提供了一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，其包含：树脂(A)，其包含具有酸不稳定性基团的结构单元，并且本身不溶于或微溶于碱性水溶液，但是在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液；树脂(B)，其包含由结构式(I)表示的结构单元和在侧链中具有氟原子的结构单元，其中，R1代表氢原子、卤素原子、C1-C4烷基或C1-C4全氟化烷基；Z代表单键或-(CH2)k-CO-X4-，k代表1至4的整数；X1、X2、X3和X4各自独立地代表氧原子或硫原子；m代表1至3的整数；而n代表0至3的整数；以及产酸剂。
-
公开(公告)号：CN101566797A
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200910135319.4
申请日：2009-04-20
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/2041 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要： 本发明提供了一种化学放大型抗蚀剂组合物，所述组合物包含树脂(A)、树脂(B)和产酸剂，所述树脂(A)不含氟原子而含侧链中有酸不稳定性基团的结构单元(a1)，所述树脂(B)含侧链中有含氟基团的结构单元(b2)和至少一种选自有酸不稳定性基团的结构单元(b1)、有羟基的结构单元(b3)和侧链中有内酯结构的结构单元(b4)的结构单元，其中基于所述树脂(B)的所有单元，所述结构单元(b1)的含量低于10摩尔％。
-
公开(公告)号：CN101845008A
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN201010144660.9
申请日：2010-03-24
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： C07C381/12 , C07C309/17 , C07C303/32 , C07D307/93 , C07D307/33 , G03F7/039
CPC分类号： C07C381/12 , C07C309/17 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要： 本发明提供由式(Ia)表示的锍化合物、包含该锍化合物和树脂的化学放大型光致抗蚀剂组合物以及制备该锍化合物的方法。在式(Ia)表示的锍化合物中，Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，R1表示具有β-酮酯结构的C5-C42有机基团，并且A+表示有机抗衡离子。本发明的化学放大型光致抗蚀剂组合物包含上述锍化合物和树脂，所述树脂包含具有酸不稳定基团的结构单元，并且不溶于或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液。
-
公开(公告)号：CN101614958A
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200910139499.3
申请日：2009-06-24
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046
摘要： 本发明提供一种化学放大型正性抗蚀剂组合物，其包含：树脂(A)，所述树脂(A)本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，并且所述树脂(A)包含在侧链中具有酸不稳定基团的结构单元，以及由式(I)表示的结构单元，其中R1表示氢原子或甲基，环X1表示具有－COO－的未取代或取代的C3－C30环烃基，并且k表示1至4的整数；树脂(B)，所述树脂(B)包含由式(II)表示的结构单元，其中R2表示氢原子、甲基或三氟甲基；以及酸生成剂。
-
公开(公告)号：CN102067041A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200980122599.3
申请日：2009-06-10
申请人： 住友化学株式会社
CPC分类号： G03F7/0035 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/40
摘要： 本发明的目的在于提供一种抗蚀剂处理方法，在双图案法等多图案法中，以极其微细且精度良好的方式形成由第一抗蚀剂图案形成用的抗蚀剂组合物得到的图案。本发明是一种抗蚀剂处理方法，(1)将含有树脂(A)、光产酸剂(B)及交联剂(C)的第一抗蚀剂组合物涂布在基体上并干燥，得到第一抗蚀剂膜，所述树脂(A)具有对酸不稳定的基团，不溶或难溶于碱水溶液，并且与酸作用能溶解于碱水溶液，再将第一抗蚀剂膜进行预烘烤、曝光处理、曝光后烘烤、显影，将第一抗蚀剂图案在比所述第一抗蚀剂组合物的玻璃化温度低的温度下保持规定时间，然后，在所述玻璃化温度以上的温度下保持规定时间进行硬烘烤，在其上涂布第二抗蚀剂组合物并干燥，得到第二抗蚀剂膜，再进行预烘烤，曝光处理，曝光后烘烤，显影。
-
公开(公告)号：CN101168509A
公开(公告)日：2008-04-30
申请号：CN200710167318.9
申请日：2007-10-22
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： C07C69/74 , H01L21/027 , G03F7/004
CPC分类号： C07C39/15 , C07C67/31 , C07C69/712 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： 本发明提供一种由式(I)表示的多元酚化合物，其中选自R1、R2、R3、R4和R5中的至少一个是由式(II)表示的基团，其中X1、X2、X3和X4分别独立地表示氢原子或C1～C4烷基，n表示0～3的整数，Z1表示C1～C6烷基或C3～C12环烷基，环Y表示脂环烃基，并且其它的是氢原子，以及一种含有该化合物的化学放大型光刻胶组合物。
-
公开(公告)号：CN102043336A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010516733.2
申请日：2010-10-13
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/00 , C08F120/34 , C08F220/34 , C08F222/24 , C08F222/14 , C08F122/22 , C08F220/18 , C08F220/28 , C07C251/66
CPC分类号： C08F120/34 , C07C251/66 , C07C309/70 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要： 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，其包含：一种包含衍生自通式(I)所示化合物的结构单元的聚合物：其中，R1表示氢原子或甲基；R2表示可具有一个以上取代基的C6-C12芳烃基；R3表示氰基或者可具有一个以上取代基并可包含一个以上杂原子的C1-C12烃基；A1表示单键、-(CH2)g-CO-O-*或-(CH2)h-O-CO-(CH2)i-CO-O-*，其中g、h和i各自独立表示1至6的整数，并且*表示与氮原子的成键位置，一种具有酸不稳定性基团并且不溶于或微溶于碱性水溶液的树脂，但是该树脂通过酸的作用可变得溶于碱性水溶液；以及一种产酸剂。
-
公开(公告)号：CN101566798A
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200910135320.7
申请日：2009-04-20
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/2041 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要： 本发明提供了一种化学放大型抗蚀剂组合物，所述组合物包含树脂(A)、树脂(B)和产酸剂，所述树脂(A)不含氟原子而含侧链中有酸不稳定性基团的结构单元(a1)，所述树脂(B)含侧链中有含氟基团的结构单元(b2)和至少一种选自有酸不稳定性基团的结构单元(b1)、有羟基的结构单元(b3)和侧链中有内酯结构的结构单元(b4)的结构单元，其中所述树脂(B)的量为2重量份或更少每100重量份树脂(A)。
-
公开(公告)号：CN101130510A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710142634.0
申请日：2007-08-20
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： C07C321/12 , C07C323/10 , C07C309/17 , G03F7/039
CPC分类号： C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07D313/06 , C07D333/46 , C07D335/00 , G03F7/0045 , G03F7/0397
摘要： 本发明提供一种式(I)表示的盐，其中，X表示含有至少一个二价脂环族烃基的C3－C30二价基团，并且在所述C3－C30二价基团中的至少一个－CH2－可以被－O－或－CO－取代；Y表示可以被选自C1－C6烷氧基、C1－C4全氟烷基、C1－C6羟烷基、羟基和氰基中的至少一个基团取代的C3－C30环烃基，并且在所述C3－C30环烃基中的至少一个－CH2－可以被－O－或－CO－取代；Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1－C6全氟烷基，并且A+表示有机抗衡离子。
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
9 条记录 (耗时 0.03 秒)
