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发明公开
离子注入装置及静电四极透镜装置审中-实审

公开(公告)号：CN114999879A

公开(公告)日：2022-09-02

申请号：CN202210196986.9

申请日：2022-03-02

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 佐佐木玄 , 河合骏 , 稻田耕二

IPC: H01J37/145 , H01J37/30 , H01J37/317

Abstract: 本发明可抑制污垢附着于静电四极透镜装置中所包含的电极体或支承电极体的绝缘部件，以提高射束线的真空度。静电四极透镜装置具备：多个透镜电极(82)，在对置的多个透镜电极之间隔着射束线(BL)在与射束线(BL)所延伸的轴向正交的径向上对置，且在与轴向及径向这两个方向正交的周向上隔着间隔配置；上游侧覆盖电极(84a)，包覆多个透镜电极(82)的射束线上游侧，且具有在轴向开口的射束入射口(92a)；及下游侧覆盖电极(84b)，包覆多个透镜电极(82)的射束线下游侧，且具有在轴向开口的射束射出口(92b)。上游侧覆盖电极(84a)及下游侧覆盖电极(84b)中至少一者具有在径向开口的至少一个气体排出口(94a、94b、96a、96b)。

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