一种晶化纳米结构氧化锌透明导电薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN107394023B

    公开(公告)日:2019-08-20

    申请号:CN201710585131.4

    申请日:2017-07-18

    IPC分类号: H01L33/42 H01L21/02

    摘要: 本发明公开了一种晶化纳米结构氧化锌透明导电薄膜的制备方法,其包括以下步骤:生长衬底预处理、生长氧化锌种子层、第一次晶化处理、生长氧化锌电流扩展层、第二次晶化处理、生长纳米结构氧化锌表面层、第三次晶化处理。本发明制备方法通过在生长衬底上生长三层氧化锌并分别进行晶化处理而制备一种晶化纳米结构氧化锌透明导电薄膜结构,其解决了现有LED技术中TCL性能和结构不足而无法满足高亮度、大功率和高可靠性应用领域需求的问题。

    一种紫外透明导电薄膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN106968015B

    公开(公告)日:2019-08-06

    申请号:CN201710195510.2

    申请日:2017-03-29

    IPC分类号: C30B25/18 C30B29/16

    CPC分类号: C23C16/40 C30B25/08 C30B25/18

    摘要: 本发明提供一种氧化铟基透明导电薄膜及其制备方法,该氧化铟基透明导电薄膜包括基底材料、氧化铟籽晶层和氧化铟主体层;所述氧化铟籽晶层附着在基底材料的表面,所述氧化铟主体层附着在氧化铟籽晶层的表面。其通过金属有机化学气相沉积的方式制备,以有机金属三甲基铟作为铟源、高纯氧气作为氧源,四(二甲氨基)锡作为掺杂源制备获得。本发明的氧化铟基透明导电薄膜厚度为20nm~1μm,电阻率小于5×10‑4Ω·cm,具有4.1~4.7eV的光学带隙,在300nm处的透过率大于50%,且光谱透射区域延伸到深紫外波段,还能精准控制表面形貌,适用于作为近紫外‑深紫外波段的透明导电薄膜。

    一种MOCVD设备喷淋头及包含其的MOCVD设备和进气方式

    公开(公告)号:CN106591805B

    公开(公告)日:2019-01-15

    申请号:CN201611046665.1

    申请日:2016-11-23

    IPC分类号: C23C16/455 C23C16/458

    摘要: 一种MOCVD设备喷淋头及包含其的MOCVD设备和进气方式。本发明提供一种MOCVD设备喷淋头,包括进气装置、反应腔和旋转基座,所述进气装置包括输运通道、氧源和载气入口、MO源喷射格栅、静态混合器、可调节导流板和整流器,所述整流器设置于反应腔内的顶部;所述MO源喷射格栅包括设置于输运通道中的喷射格栅和部分设置于输运通道外的MO源入口管;所述氧源和载气入口设置于输运通道的初始端;所述输运通道中,从起始端开始依次设置有喷射格栅、静态混合器和可调节导流板,所述可调节导流板位于输运通道的拐角处。本发明提供的输运通道将氧源与MO源在反应腔外掺混完成,防止了预反应的进行,提高了薄膜生长质量,且掺混后的混合气体通过整流器直接均匀喷淋至基片表面,提高生长速率。

    氧化锌MOCVD设备间歇式喷淋工艺调整薄膜生长均匀性的方法

    公开(公告)号:CN107641800A

    公开(公告)日:2018-01-30

    申请号:CN201710823646.3

    申请日:2017-09-13

    IPC分类号: C23C16/52 C23C16/40

    摘要: MOCVD是一个庞大的系统,生长的过程中同时发生着许多物理和化学现象。半导体薄膜的生长与MOCVD系统本身的结构设计、反应物的选择、各项生长参数(例如反应室压力、衬底温度、气体流量等)、生长步骤等紧密相关,所有这些因素共同作用,达到理想状态才能得到高质量的薄膜。本发明的目的在于提供一种氧化锌MOCVD设备间歇式喷淋工艺调整薄膜生长均匀性的方法,通过计算机对符合实验结果的MOCVD设备模型进行数值模拟,对MFC入口开关进行间歇式控制,从而直观看出间歇式控制对MOCVD薄膜生长均匀性的影响。

    一种齿状的透镜结构
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106678736A

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201611050840.4

    申请日:2016-11-24

    发明人: 王钢 罗滔

    IPC分类号: F21V5/04 F21Y115/10

    CPC分类号: F21V5/04

    摘要: 本发明公开了本发明一种齿状的透镜结构,包含辐射状延伸的齿状结构,辐射状延伸的齿状结构包覆在透镜的外侧面;每个齿状结构的外形轮廓相同,依次按照以下规则生成,1)由一条从内向外延展的曲线作为母线U,选定母线的中点O和光轴I;2)在该母线所在平面内做母线中点O的法线方向矢量L和切线方向矢量N;3)将L绕N方向分别旋转角度α和‑α,形成两条射线L1和L2;4)将母线U分别沿L1和L2延展,形成类似一个V字形状凹槽;5)将凹槽绕I旋转角度β和‑β,生成交叉的3个V字形槽状结构;6)去掉中间V字形凹槽与其他两个V字形凹槽交叉的部分,保留剩下的部分即为所述外形轮廓。本发明齿面的透镜替代反射器的作用,节省成本。

    基于FED原理的三维打印装置及其打印方法

    公开(公告)号:CN107553894B

    公开(公告)日:2020-01-10

    申请号:CN201710890912.4

    申请日:2017-09-27

    摘要: 本发明公开了一种基于FED原理的三维打印装置及其打印方法,其包括计算机系统、控制器、场致发射器、料槽、成型台和升降装置。计算机系统将三维模型分割得到的截面图形通过控制器传送到场致发射器中,场致发射器发射出相应的电子束图像,轰击料槽中的固化树脂,固化树脂吸收了电子束的能量固化成型得到对应图像的薄层结构,薄层结构通过升降装置累加得到光固化三维打印制品。本发明采用场致发射电子束来进行电子束固化,实现了三维打印装置成型速度快、精度高、能耗小、占用空间小等功能。

    MOCVD设备进气装置和反应腔的结构及该设备的薄膜生长方法

    公开(公告)号:CN107699864A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201710827333.5

    申请日:2017-09-14

    IPC分类号: C23C16/455 C23C16/18

    摘要: 金属有机化学气相沉积法,是一种广泛用来生长半导体和氧化物外延薄膜的技术,目前这项生长技术已经发展的相当成熟,在工业化生产中得到了广泛的应用,MOCVD方法最大的优点在于它生长速度快,容易实现大规模生产,而且此方法对均匀掺杂控制非常方便,同时生长速率和温度的控制范围都很大,所以可以方便地生长出复杂组分的精细结构,现有技术中的MOCVD设备,通入反应腔中的气体流场分布比较复杂,难以定向控制,影响薄膜生长质量,效率低下,同时消耗了反应物,提高了成本,也降低了薄膜的外延速度,为了解决上述问题本发明提供了一种MOCVD设备进气装置和反应腔的结构,以克服上述缺点。