公开(公告)号：CN111290223A

公开(公告)日：2020-06-16

申请号：CN201911232783.5

申请日：2019-12-05

申请人： 佳能株式会社

发明人： 本间英晃 ,  张劬 ,  木岛涉 ,  根谷尚稔

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20

摘要： 本发明涉及成型方法、系统、光刻装置、物品的制造方法及存储介质，提供对提高图案的形成精度有利的技术。使用第一装置和第二装置在基板上的一个层形成图案的成型方法包括：第一测量工序，在第一装置中，测量在所述基板上形成的标记的位置；第一形成工序，基于要形成第一图案的目标位置，在第一装置中在所述基板上形成所述第一图案；第二测量工序，在第二装置中，测量所述标记的位置；第二形成工序，在第二装置中，在所述基板上形成第二图案，其中，在所述第二形成工序中，基于在所述第一测量工序中测量出的所述标记的位置与在所述第二测量工序中测量出的所述标记的位置之差，决定在所述第二装置中在所述基板上形成所述第二图案的位置。

公开(公告)号：CN111290223B

公开(公告)日：2023-08-15

申请号：CN201911232783.5

申请日：2019-12-05

申请人： 佳能株式会社

发明人： 本间英晃 ,  张劬 ,  木岛涉 ,  根谷尚稔

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20

摘要： 本发明涉及成型方法、系统、光刻装置、物品的制造方法及存储介质，提供对提高图案的形成精度有利的技术。使用第一装置和第二装置在基板上的一个层形成图案的成型方法包括：第一测量工序，在第一装置中，测量在所述基板上形成的标记的位置；第一形成工序，基于要形成第一图案的目标位置，在第一装置中在所述基板上形成所述第一图案；第二测量工序，在第二装置中，测量所述标记的位置；第二形成工序，在第二装置中，在所述基板上形成第二图案，其中，在所述第二形成工序中，基于在所述第一测量工序中测量出的所述标记的位置与在所述第二测量工序中测量出的所述标记的位置之差，决定在所述第二装置中在所述基板上形成所述第二图案的位置。