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公开(公告)号：CN111290223B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN201911232783.5
申请日：2019-12-05
申请人： 佳能株式会社
摘要： 本发明涉及成型方法、系统、光刻装置、物品的制造方法及存储介质，提供对提高图案的形成精度有利的技术。使用第一装置和第二装置在基板上的一个层形成图案的成型方法包括：第一测量工序，在第一装置中，测量在所述基板上形成的标记的位置；第一形成工序，基于要形成第一图案的目标位置，在第一装置中在所述基板上形成所述第一图案；第二测量工序，在第二装置中，测量所述标记的位置；第二形成工序，在第二装置中，在所述基板上形成第二图案，其中，在所述第二形成工序中，基于在所述第一测量工序中测量出的所述标记的位置与在所述第二测量工序中测量出的所述标记的位置之差，决定在所述第二装置中在所述基板上形成所述第二图案的位置。
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公开(公告)号：CN115343923A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202210504569.6
申请日：2022-05-10
申请人： 佳能株式会社
摘要： 公开了标记检测装置、标记学习装置和基板加工装置。标记检测装置，包括：成像单元，被配置成通过对物体上的对准标记成像来生成对准标记图像；检测单元，被配置成检测对准标记图像中的对准标记；以及调节单元，被配置成基于如下的学习模型来调节与成像相关的参数，所述学习模型是通过使用其中不能检测到对准标记的对准标记图像和作为用于对其中能够检测到对准标记的对准标记图像成像的参数的第一参数进行学习而生成的。调节单元取得作为基于学习模型的推断处理的结果的第二参数。成像单元在参数被调节为第二参数的状态下执行成像。
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公开(公告)号：CN117706884A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202311159843.1
申请日：2023-09-08
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 本发明涉及光刻装置、光刻装置的控制方法、物品制造方法以及存储介质。提供有利于提高最佳聚焦位置推定精度的技术。光刻装置具有观察光学系统，经由投影光学系统检测包含原版侧标记和基板侧标记的图像；获取部件，获取基于在多个散焦位置分别由观察光学系统检测出的图像的评价值集合；决定部件，基于评价值集合，求出表示散焦位置与评价值的关系的近似函数作为对比度曲线，获取部件包括第1部件，从图像得到分别包含原版侧标记或基板侧标记的多个部分图像；第2部件，对多个部分图像分别进行直方图扩展；第3部件，求出进行了直方图扩展的多个部分图像各自的评价值即部分评价值；第4部件，使用多个部分图像各自的部分评价值，求出图像的评价值。
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公开(公告)号：CN111338186A
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN201911278438.5
申请日：2019-12-13
申请人： 佳能株式会社
摘要： 决定方法、曝光方法、曝光装置以及物品制造方法，决定用于接合曝光的关于基板的第1拍摄区及第2拍摄区的对位的校正量，接合曝光对第1拍摄区曝光形成第1像，对与第1拍摄区的一部分重复的第2拍摄区曝光形成第2像，得到叠接第1像和第2像的像，求出用于上下层的重叠的重叠标志间的位置偏移量即第1位置偏移量，求出用于第1拍摄区和第2拍摄区的对位的接合位置测量标志间的位置偏移量即第2位置偏移量，将第1位置偏移量加上预定比例的第2位置偏移量的位置偏移量决定为第1拍摄区和第2拍摄区重复的接合区域中的第1像的校正量，将从第1位置偏移量减相对预定比例的剩余比例的第2位置偏移量的位置偏移量决定为接合区域中的第2像的校正量。
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公开(公告)号：CN111338186B
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN201911278438.5
申请日：2019-12-13
申请人： 佳能株式会社
摘要： 决定方法、曝光方法、曝光装置以及物品制造方法，决定用于接合曝光的关于基板的第1拍摄区及第2拍摄区的对位的校正量，接合曝光对第1拍摄区曝光形成第1像，对与第1拍摄区的一部分重复的第2拍摄区曝光形成第2像，得到叠接第1像和第2像的像，求出用于上下层的重叠的重叠标志间的位置偏移量即第1位置偏移量，求出用于第1拍摄区和第2拍摄区的对位的接合位置测量标志间的位置偏移量即第2位置偏移量，将第1位置偏移量加上预定比例的第2位置偏移量的位置偏移量决定为第1拍摄区和第2拍摄区重复的接合区域中的第1像的校正量，将从第1位置偏移量减相对预定比例的剩余比例的第2位置偏移量的位置偏移量决定为接合区域中的第2像的校正量。
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公开(公告)号：CN114859663A
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202210096981.9
申请日：2022-01-27
申请人： 佳能株式会社
摘要： 本公开涉及信息处理装置、信息处理方法以及物品的制造方法。【课题】缩短装置中的异常的原因分析的时间。【解决手段】一种信息处理装置，累积对基板进行处理的基板处理装置中的日志，信息处理装置具有：累积部，累积日志；控制部，以从累积于所述累积部的日志中选择特定的日志的方式进行控制；以及发送部，将由所述控制部选择的日志发送给外部，所述控制部当在所述基板处理装置中发生了错误时，根据已学习模型，选择累积于所述累积部的日志中的相关度超过阈值的日志。
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公开(公告)号：CN112904677A
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN202011383185.0
申请日：2020-12-01
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本公开涉及搬送装置、曝光装置以及物品的制造方法。为了提供能够削减追踪处理来提高吞吐量的搬送装置，本发明的搬送装置具备：搬送部，将搬送物搬送至目标位置；测量部，测量搬送部的位置；存储部，存储将搬送物搬送至目标位置时的目标位置与搬送部的位置之间的位置偏移；以及控制部，根据存储于存储部的位置偏移的历史数据计算偏置驱动量，并将偏置驱动量与基准驱动量相加，从而设定搬送部的直至目标位置的驱动量，其特征在于，控制部根据搬送部的直至目标位置的移动距离、移动方向及移动速度、以及搬送装置内的温度、搬送装置内的振动的大小、搬送物的质量、以及搬送装置的运行时间中的至少一个，对历史数据进行运算处理，从而计算偏置驱动量。
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公开(公告)号：CN111290223A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201911232783.5
申请日：2019-12-05
申请人： 佳能株式会社
摘要： 本发明涉及成型方法、系统、光刻装置、物品的制造方法及存储介质，提供对提高图案的形成精度有利的技术。使用第一装置和第二装置在基板上的一个层形成图案的成型方法包括：第一测量工序，在第一装置中，测量在所述基板上形成的标记的位置；第一形成工序，基于要形成第一图案的目标位置，在第一装置中在所述基板上形成所述第一图案；第二测量工序，在第二装置中，测量所述标记的位置；第二形成工序，在第二装置中，在所述基板上形成第二图案，其中，在所述第二形成工序中，基于在所述第一测量工序中测量出的所述标记的位置与在所述第二测量工序中测量出的所述标记的位置之差，决定在所述第二装置中在所述基板上形成所述第二图案的位置。
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