公开(公告)号：CN1318643C

公开(公告)日：2007-05-30

申请号：CN200410036692.1

申请日：2004-04-28

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 片桐宏之 ,  白砂寿康 ,  松冈秀彰

IPC: C23C16/44

CPC classification number: C23C16/4581 ,  G03G5/08278

Abstract: 本发明提供使圆柱形支撑体平滑地旋转，滑动特性良好，抗腐蚀以及耐久性高，电子照相特性的不均匀少的淀积膜的形成方法以及装置，本方法在能够减压的反应容器内设置圆柱形支撑体，通过旋转单元使上述圆柱形支撑体旋转，使用淀积膜形成用原料气体导入单元，在上述反应容器内导入原料气体，把上述圆柱形支撑体加热，施加用于激励上述原料气体的放电能量，把上述反应容器内排气的同时通过等离子体CVD法形成淀积膜，使用具备了非旋转部分的滑动面的至少一部分由固体润滑材料构成的滑动构件的上述旋转单元。

公开(公告)号：CN104007625A

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：CN201410059199.5

申请日：2014-02-21

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 白砂寿康 ,  西村悠

IPC: G03G5/08

CPC classification number: G03G5/08214 ,  G03G5/043 ,  G03G5/0433 ,  G03G5/0525 ,  G03G5/08 ,  G03G5/08221 ,  G03G5/08235 ,  G03G5/14704

Abstract: 本发明涉及电子照相感光构件、其制造方法和电子照相设备。电子照相感光构件的表面层具有其中碳原子数相对于硅原子数与碳原子数之和的比例从光导电层侧朝向电子照相感光构件的表面侧逐渐增加的变化区域，其中变化区域具有包含第13族原子的上部电荷注入阻止部分，和与上部电荷注入阻止部分相比位于更靠近电子照相感光构件的表面侧的位置且不含第13族原子的表面侧部分，并且表面侧部分与上部电荷注入阻止部分之间的边界部分中第13族原子的分布是急剧的。

公开(公告)号：CN1550574A

公开(公告)日：2004-12-01

申请号：CN200410036692.1

申请日：2004-04-28

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 片桐宏之 ,  白砂寿康 ,  松冈秀彰

IPC: C23C16/44

CPC classification number: C23C16/4581 ,  G03G5/08278

Abstract: 本发明提供使圆柱形支撑体平滑地旋转，滑动特性良好，抗腐蚀以及耐久性高，电子照相特性的不均匀少的淀积膜的形成方法以及装置，本方法在能够减压的反应容器内设置圆柱形支撑体，通过旋转单元使上述圆柱形支撑体旋转，使用淀积膜形成用原料气体导入单元，在上述反应容器内导入原料气体，把上述圆柱形支撑体加热，施加用于激励上述原料气体的放电能量，把上述反应容器内排气的同时通过等离子体CVD法形成淀积膜，使用具备了非旋转部分的滑动面的至少一部分由固体润滑材料构成的滑动构件的上述旋转单元。