公开(公告)号：CN101198719B8

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：CN200680021460.6

申请日：2006-06-01

申请人： 京瓷株式会社

发明人： 池田昭彦 ,  大久保大五郎 ,  川上哲哉 ,  中村隆 ,  笹原正光 ,  长浜大辅 ,  深谷知已

IPC分类号： C23C16/515 ,  C23C16/24 ,  G03G5/08

摘要： 本发明供一种感光体的制造方法及能够实现该方法的装置，该感光体的制造方法包括将基体(10)收容在反应室(4)的第一步骤、向反应室(4)供给反应性气体的第二步骤、对在反应室(4)中间隔开配置的第一导体(3)和第二导体(40)之间施加脉冲状直流电压的第三步骤。优选是在第三步骤中，将第一导体(3)和第二导体(40)之间的电位差设定在50V以上3000V的范围，对第一及第二导体(3、40)施加的脉冲状直流电压的脉冲频率设定为300kHz以下。脉冲状直流电压的脉冲的占空比例如设定为20％以上90％以下。

公开(公告)号：CN1979347B

公开(公告)日：2010-07-21

申请号：CN200510128940.X

申请日：2005-12-02

申请人： 施乐公司

发明人： H·B·古德布兰德 ,  N·-X·胡

IPC分类号： G03G5/07 ,  G03G5/08

CPC分类号： C07F7/1892

摘要： 一种形成基本无低聚物的硅烷酯的工艺或方法。该方法包括使无水羧酸盐与硅烷在两相反应体系中进行反应。所述硅烷包含卤代烷基取代基。所述两相反应体系包含第一溶剂和第二溶剂，其中第二溶剂是基本不混溶于第一溶剂的溶剂。本文也产生使用由此形成的硅烷酯形成的成像元件。

公开(公告)号：CN100444038C

公开(公告)日：2008-12-17

申请号：CN200580001536.4

申请日：2005-02-28

申请人： 京瓷美达株式会社

发明人： 永井孝

IPC分类号： G03G15/08 ,  G03G5/08 ,  G03G9/083

CPC分类号： G03G15/0914 ,  G03G9/0808 ,  G03G9/081 ,  G03G9/0815 ,  G03G9/0819 ,  G03G9/0821 ,  G03G9/0823 ,  G03G9/0827 ,  G03G9/0835 ,  G03G9/0836 ,  G03G9/0837 ,  G03G9/0839

摘要： 本发明的目的在于提供一种显影方法及采用该方法的显影装置，即使在显影套筒的表面粗糙度(Rz)发生了变化的场合下、以及使用非晶硅感光体的场合下，也可以使磁性单组分调色剂从显影套筒有效地飞向感光体，从而可获得良好的图像质量等。为此，在这种磁性单组分跳跃显影方法及采用该方法的显影装置中，使用根据体积基准的粒度分布而算出的中心粒径为6.0～7.8μm这一范围内的值、球形化度为0.92～0.98、且平均粒径小于等于5.04μm的调色剂处于2.5～10.0体积%这一范围的调色剂，而且，还使用当将调色剂像的单位面积的调色剂量设为A时、满足下述关系式(1)的磁性单组分调色剂：0.6mg/cm2≤A≤0.9mg/cm2(1)。

公开(公告)号：CN1979347A

公开(公告)日：2007-06-13

申请号：CN200510128940.X

申请日：2005-12-02

申请人： 施乐公司

发明人： H·B·古德布兰德 ,  N·-X·胡

IPC分类号： G03G5/07 ,  G03G5/08

CPC分类号： C07F7/1892

摘要： 一种形成基本无低聚物的硅烷酯的工艺或方法。该方法包括使无水羧酸盐与硅烷在两相反应体系中进行反应。所述硅烷包含卤代烷基取代基。所述两相反应体系包含第一溶剂和第二溶剂，其中第二溶剂是基本不混溶于第一溶剂的溶剂。本文也产生使用由此形成的硅烷酯形成的成像元件。

公开(公告)号：CN1906544A

公开(公告)日：2007-01-31

申请号：CN200580001535.X

申请日：2005-02-25

申请人： 京瓷美达株式会社

发明人： 永井孝

IPC分类号： G03G9/08 ,  G03G5/08 ,  G03G9/083 ,  G03G15/08

CPC分类号： G03G13/08 ,  G03G9/0827 ,  G03G9/09708 ,  G03G2215/0609

摘要： 本发明的目的在于提供一种静电潜像显影用调色剂及使用该调色剂的显影方法，能够长期间维持调色剂的性能、或者良好地调节显影套筒上的调色剂的传送性，因此能够防止调色剂附着在感光体上，从而可长期获得高品质的图像。为此，在包含调色剂粒子及无机粒子的静电潜像显影用调色剂及显影方法中，调色剂粒子的形状系数SF－1为115≤SF－1≤150，SF－2为115≤SF－2≤145，而且，使处于浮游状态的无机粒子量，相对于包含附着于调色剂粒子的无机粒子在内的总量，为10重量％～25重量％这一范围内的值。

公开(公告)号：CN1791843A

公开(公告)日：2006-06-21

申请号：CN200480013901.9

申请日：2004-03-26

申请人： 株式会社理光

发明人： 中山慎也 ,  望月贤 ,  岩本康敬 ,  朝比奈安雄 ,  梅村和彦 ,  杉浦英树 ,  中岛久志 ,  市川智之 ,  内海知子 ,  坂田宏一 ,  小番昭宏 ,  内野仓理 ,  石井雅之

IPC分类号： G03G9/087 ,  G03G5/08 ,  G03G9/097 ,  G03G15/20

摘要： 本发明的目的在于提供一种带电量分布窄，带电装置、显影装置、感光体、中间转印体不会由于显影剂而被污染并可以获得高品质的图像，特别是，即使长时间、多片反复使用也可获得适当的图像浓度并且印刷版面沾污极少的显影剂，还提供使用它的电子照相图像形成装置。

公开(公告)号：CN1101008C

公开(公告)日：2003-02-05

申请号：CN96107242.3

申请日：1996-03-29

申请人： 富士电机株式会社

发明人： 井口靖 ,  野上纯孝 ,  北川恭子

IPC分类号： G03G5/08 ,  C07D333/20

CPC分类号： C07C50/24 ,  C07D333/20 ,  G03G5/0525 ,  G03G5/142

摘要： 一种电子照相光电导体，包括：一个导体基板；一个置于导体基板上的底涂层；和一个置于底涂层上具有电荷发生与电荷转移功能的感光层。底涂层包括：聚酰胺树脂和甲基氢基聚硅氧烷处理过的氧化钛，最好还有苯乙烯-马来酸半酯共聚物。该光电导体可以用下列步骤制作：将聚酰胺树脂和甲基氢基聚硅氧烷处理过的氧化钛且最好还有苯乙烯-马来酸半酯分散到醇类溶剂与卤代烃类溶剂的混合溶剂中，从而制备出底涂层涂覆液；将该涂覆液涂在导体基板上，从而在基板上形成一个底涂层；以及在底涂层上形成一感光层。

公开(公告)号：CN1013004B

公开(公告)日：1991-06-26

申请号：CN86108453

申请日：1986-12-11

申请人： 佳能株式会社

发明人： 广冈政昭 ,  石原俊一 ,  半那纯一 ,  清水勇

IPC分类号： G03G5/08 ,  G03G5/082

CPC分类号： G03G5/08278

摘要： 具有所需的光接收层的改进电子摄影光敏元件，此光接收层的制备是在无等离子体的情况下利用一种能对形成淀积膜层有所贡献的物质与一种电子氧化剂完成的。用来制备此电子摄影光敏元件的方法和设备。

公开(公告)号：CN1037405A

公开(公告)日：1989-11-22

申请号：CN89103212.6

申请日：1989-04-03

申请人： 夏普公司

发明人： 早川尚志 ,  成川志郎 ,  大桥邦夫

IPC分类号： G03G5/08 ,  G03G5/085

摘要： 本发明公开了一种电摄影用的光敏器件，它包括导电基片和一层形成在所说基片上的光导层，其中光导层是由含氢和/或卤素按原子数计占40％或以上的非晶形硅构成的。

公开(公告)号：CN87102632A

公开(公告)日：1988-01-20

申请号：CN87102632

申请日：1987-04-08

申请人： 佳能株式会社

发明人： 天田搏 ,  武井哲也 ,  白井直子

IPC分类号： G03G5/08

CPC分类号： G03G5/08235 ,  G03G5/0825 ,  G03G5/08278

摘要： 提供一种改进的用铝材料作为基底的、用于电子摄影和其它各类装置中的光接收元件，其特征在于，在基底和光接收层之间设有一层缓冲层，以改善在铝基底和设在其上的光接收层之间的粘结力。改进的光接收元件满意地解决了常规的光接收元件中由于在铝基底和压在其上的光接收层之间粘结力不足，而产生的各种问题。