公开(公告)号：CN1049870A

公开(公告)日：1991-03-13

申请号：CN90106809.8

申请日：1990-06-28

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 金井正博 ,  松山深照 ,  中川克已 ,  狩谷俊光 ,  藤风靖 ,  武井哲也 ,  越前裕

IPC: C23C16/48 ,  C23C16/54

CPC classification number: H01L31/076 ,  C23C16/50 ,  C23C16/545 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/3277 ,  H01J2237/3325 ,  H01L31/206 ,  Y02E10/548 ,  Y02P70/521

Abstract: 一种采用微波等离子CVD工艺连续形成大面积功能性淀积薄膜的方法，所述方法包括：按纵向连续移动的基片带；在基片移动过程中通过弯曲和凸起所述移动基片带以形成所述成膜室圆周壁的圆筒形部分从而建立具有成膜空间的基本封闭的成膜室；通过气体输送装置将成膜原材料气体导入所述成膜空间；同时，通过采用微波施加装置将微波能辐射或传播到所述成膜空间，其中微波施加装置能够以垂直于微波能传播方向具有方向性地辐射或传播所述微波能以便在所述成膜空间产生微波等离子区，由此在暴露于所述微波等离子区的所述连续移动圆周壁的内表面上连续形成功能性淀积薄膜。一种适用于实际所述方法的装置。