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公开(公告)号：CN115874073B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202211506652.3
申请日：2022-11-28
申请人： 先导薄膜材料(广东)有限公司
摘要： 本发明属于合金材料制备技术领域，公开了一种高熵合金的熔炼方法。所述方法包括如下步骤：(1)根据高熵合金所需配比备好原料，再按照真空感应熔炼坩埚温度分布图，将各组元按照熔点高低进行放置；(2)将真空感应炉腔体内抽真空，然后充入惰性气体，升温进行熔炼，然后升温至金属完全熔化温度以上20～50℃时进行浇铸出炉，得到一次铸锭；(3)将步骤(2)的一次铸锭直接放回原有坩埚，依次抽真空、充入惰性气体并升温进行熔炼，待一次铸锭完全熔化后，升温至初步熔化温度以上20～50℃时开始浇铸，浇铸过程开启震动装置，出炉后得到高熵合金。本发明方法无需制粉，可显著提高熔炼均匀性，降低铸锭缩孔和成分偏析。
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公开(公告)号：CN115992342B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202211631292.X
申请日：2022-12-15
申请人： 先导薄膜材料(广东)有限公司
摘要： 本发明属于溅射靶材技术领域，具体涉及一种高纯银溅射靶材及其制备方法，本发明通过将银锭于500℃～900℃均匀化热处理后进行锻造，将锻造后的银锭于300℃～400℃退火冷却至室温，再进行冷轧，将冷轧后的靶坯经热处理后冷却制得高纯银溅射靶材，本发明通过控制制备方法中的热处理温度、退火温度及冷轧工艺参数如道次变形量和总变形量，有效细化了高纯银溅射靶材的晶粒尺寸，使得平均晶粒尺寸＜15μm，低至8μm，且组织均匀，内部无缺陷。
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公开(公告)号：CN115992342A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202211631292.X
申请日：2022-12-15
申请人： 先导薄膜材料(广东)有限公司
摘要： 本发明属于溅射靶材技术领域，具体涉及一种高纯银溅射靶材及其制备方法，本发明通过将银锭于500℃～900℃均匀化热处理后进行锻造，将锻造后的银锭于300℃～400℃退火冷却至室温，再进行冷轧，将冷轧后的靶坯经热处理后冷却制得高纯银溅射靶材，本发明通过控制制备方法中的热处理温度、退火温度及冷轧工艺参数如道次变形量和总变形量，有效细化了高纯银溅射靶材的晶粒尺寸，使得平均晶粒尺寸＜15μm，低至8μm，且组织均匀，内部无缺陷。
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公开(公告)号：CN115874073A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211506652.3
申请日：2022-11-28
申请人： 先导薄膜材料(广东)有限公司
摘要： 本发明属于合金材料制备技术领域，公开了一种高熵合金的熔炼方法。所述方法包括如下步骤：(1)根据高熵合金所需配比备好原料，再按照真空感应熔炼坩埚温度分布图，将各组元按照熔点高低进行放置；(2)将真空感应炉腔体内抽真空，然后充入惰性气体，升温进行熔炼，然后升温至金属完全熔化温度以上20～50℃时进行浇铸出炉，得到一次铸锭；(3)将步骤(2)的一次铸锭直接放回原有坩埚，依次抽真空、充入惰性气体并升温进行熔炼，待一次铸锭完全熔化后，升温至初步熔化温度以上20～50℃时开始浇铸，浇铸过程开启震动装置，出炉后得到高熵合金。本发明方法无需制粉，可显著提高熔炼均匀性，降低铸锭缩孔和成分偏析。
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