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公开(公告)号：CN102668052B
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201080039744.4
申请日：2010-09-01
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
Inventor： D·坎戴尔 , V·列文斯基 , A·斯维泽 , J·塞利格松 , A·希尔 , O·巴卡尔 , A·马纳森 , Y-H·A·庄 , I·塞拉 , M·马克维兹 , D·纳格利 , E·罗特姆
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G01N21/47 , G01B11/02 , G01B11/0641 , G01B2210/56 , G01N21/211 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/4792 , G01N2201/06113 , G01N2201/105 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: 提供了各种计量系统以及方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104155313B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201410437602.3
申请日：2010-09-01
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
Inventor： D·坎戴尔 , V·列文斯基 , A·斯维泽 , J·塞利格松 , A·希尔 , O·巴卡尔 , A·马纳森 , Y-H·A·庄 , I·塞拉 , M·马克维兹 , D·纳格利 , E·罗特姆
IPC: G01N21/956
CPC classification number: G01N21/47 , G01B11/02 , G01B11/0641 , G01B2210/56 , G01N21/211 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/4792 , G01N2201/06113 , G01N2201/105 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: 提供了计量系统以及方法。所述计量系统包括：被配置成产生衍射受限光束的光源；变迹器，所述变迹器被配置成在照射光学器件的入射光瞳中使所述光束成形；光学元件，所述光学元件被配置成将所述衍射受限光束从所述变迹器定向到晶片上的光栅靶上的所述照射斑并且收集来自所述光栅靶的散射光；被配置成拒绝一部分所收集散射光的视场光阑；检测器，所述检测器被配置成检测穿过所述视场光阑的散射光并且响应于检测到的散射光生成输出以使所述光栅靶由所述计量系统使用散射计量来测量；以及被配置成使用所述输出来确定所述光栅靶的特性的计算机系统。
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公开(公告)号：CN102668052A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080039744.4
申请日：2010-09-01
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
Inventor： D·坎戴尔 , V·列文斯基 , A·斯维泽 , J·塞利格松 , A·希尔 , O·巴卡尔 , A·马纳森 , Y-H·A·庄 , I·塞拉 , M·马克维兹 , D·纳格利 , E·罗特姆
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G01N21/47 , G01B11/02 , G01B11/0641 , G01B2210/56 , G01N21/211 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/4792 , G01N2201/06113 , G01N2201/105 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: 提供了各种计量系统以及方法。
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公开(公告)号：CN105021632B
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201510350555.3
申请日：2010-09-01
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
Inventor： D·坎戴尔 , V·列文斯基 , A·斯维泽 , J·塞利格松 , A·希尔 , O·巴卡尔 , A·马纳森 , Y-H·A·庄 , I·塞拉 , M·马克维兹 , D·纳格利 , E·罗特姆
IPC: G01N21/956
CPC classification number: G01N21/47 , G01B11/02 , G01B11/0641 , G01B2210/56 , G01N21/211 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/4792 , G01N2201/06113 , G01N2201/105 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: 提供了计量系统以及方法。所述计量系统包括：被配置成产生衍射受限光束的光源；变迹器，所述变迹器被配置成在照射光学器件的入射光瞳中使所述光束成形；光学元件，所述光学元件被配置成将所述衍射受限光束从所述变迹器定向到晶片上的光栅靶上的所述照射斑并且收集来自所述光栅靶的散射光；被配置成拒绝一部分所收集散射光的视场光阑；检测器，所述检测器被配置成检测穿过所述视场光阑的散射光并且响应于检测到的散射光生成输出以使所述光栅靶由所述计量系统使用散射计量来测量；以及被配置成使用所述输出来确定所述光栅靶的特性的计算机系统。
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公开(公告)号：CN105021632A
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201510350555.3
申请日：2010-09-01
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
Inventor： D·坎戴尔 , V·列文斯基 , A·斯维泽 , J·塞利格松 , A·希尔 , O·巴卡尔 , A·马纳森 , Y-H·A·庄 , I·塞拉 , M·马克维兹 , D·纳格利 , E·罗特姆
IPC: G01N21/956
CPC classification number: G01N21/47 , G01B11/02 , G01B11/0641 , G01B2210/56 , G01N21/211 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/4792 , G01N2201/06113 , G01N2201/105 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: 提供了计量系统以及方法。所述计量系统包括：被配置成产生衍射受限光束的光源；变迹器，所述变迹器被配置成在照射光学器件的入射光瞳中使所述光束成形；光学元件，所述光学元件被配置成将所述衍射受限光束从所述变迹器定向到晶片上的光栅靶上的所述照射斑并且收集来自所述光栅靶的散射光；被配置成拒绝一部分所收集散射光的视场光阑；检测器，所述检测器被配置成检测穿过所述视场光阑的散射光并且响应于检测到的散射光生成输出以使所述光栅靶由所述计量系统使用散射计量来测量；以及被配置成使用所述输出来确定所述光栅靶的特性的计算机系统。
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公开(公告)号：CN104155313A
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201410437602.3
申请日：2010-09-01
Applicant: 克拉-坦科股份有限公司
Inventor： D·坎戴尔 , V·列文斯基 , A·斯维泽 , J·塞利格松 , A·希尔 , O·巴卡尔 , A·马纳森 , Y-H·A·庄 , I·塞拉 , M·马克维兹 , D·纳格利 , E·罗特姆
IPC: G01N21/956
CPC classification number: G01N21/47 , G01B11/02 , G01B11/0641 , G01B2210/56 , G01N21/211 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/4792 , G01N2201/06113 , G01N2201/105 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: 提供了计量系统以及方法。所述计量系统包括：被配置成产生衍射受限光束的光源；变迹器，所述变迹器被配置成在照射光学器件的入射光瞳中使所述光束成形；光学元件，所述光学元件被配置成将所述衍射受限光束从所述变迹器定向到晶片上的光栅靶上的所述照射斑并且收集来自所述光栅靶的散射光；被配置成拒绝一部分所收集散射光的视场光阑；检测器，所述检测器被配置成检测穿过所述视场光阑的散射光并且响应于检测到的散射光生成输出以使所述光栅靶由所述计量系统使用散射计量来测量；以及被配置成使用所述输出来确定所述光栅靶的特性的计算机系统。
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