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发明公开
反射型光掩模坯以及反射型光掩模有权转让

公开(公告)号：CN112997116A

公开(公告)日：2021-06-18

申请号：CN201980073304.1

申请日：2019-11-01

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 古沟透 , 福上典仁 , 渡边原太 , 成田英辅

IPC: G03F1/24 , G03F1/54

Abstract: 本发明提供具有良好的耐照射性，并且能够得到良好的转印性能的反射型光掩模坯以及反射型光掩模。反射型光掩模坯(10)在基板(1)的一个面上依次形成有反射入射光的反射层(2)、以及吸收入射光的吸收层(4)。吸收层(4)至少在最表层中含有：从锡、铟、碲的组中选择的第1材料，以及由从过渡金属、铋、硅的组中选择的1种或2种以上的材料构成的第2材料。第2材料的含量在同一层内大于20原子％且小于50原子％。

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