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公开(公告)号：CN105359255B
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201480038079.5
申请日：2014-08-28
Applicant: 凸版印刷株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F1/24
Abstract: 反射型光掩模(10)具有基板(11)；形成在该基板(11)上的多层反射膜(12)，该多层反射膜反射平版印刷用的包含波长5nm以上15nm以下的光的曝光光；形成在该多层反射膜(12)上的吸收膜(14)，该吸收膜吸收曝光光且同时形成有电路图案(15)或者电路图案形成预定区域；在电路图案(15)或者电路图案形成预定区域的外周侧，通过除去基板(11)上的多层反射膜(12)和吸收膜(14)的一部分而形成的遮光区域(B)，该遮光区域遮蔽由多层反射膜(12)反射的曝光光的一部分；以及在该遮光区域(B)的露出的基板表面(11b)的一部分上以3000nm以下的间距形成的多个凸部(1)，该多个凸部抑制曝光光所含的入射到遮光区域(B)的带外光的反射，所述带外光具有140nm以上800nm以下的波长。
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公开(公告)号：CN103748660A
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：CN201280041142.1
申请日：2012-08-24
Applicant: 凸版印刷株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F1/24
Abstract: 本发明提供一种具有遮光性能高的遮光框的反射型掩模及其制造方法。在具有对多层反射层进行刻入而成的遮光框的反射型掩模中，通过仅对多层反射层进行侧蚀、或者仅将多层反射层加工成倒锥形形状，能够抑制EUV光（极端紫外线光）在遮光框边缘附近的反射，能够提供具有高遮光性的反射型掩模，能够形成高精度的转印图案。
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公开(公告)号：CN103748660B
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201280041142.1
申请日：2012-08-24
Applicant: 凸版印刷株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F1/24
Abstract: 本发明提供一种具有遮光性能高的遮光框的反射型掩模及其制造方法。在具有对多层反射层进行刻入而成的遮光框的反射型掩模中，通过仅对多层反射层进行侧蚀、或者仅将多层反射层加工成倒锥形形状，能够抑制EUV光（极端紫外线光）在遮光框边缘附近的反射，能够提供具有高遮光性的反射型掩模，能够形成高精度的转印图案。
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公开(公告)号：CN105359255A
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201480038079.5
申请日：2014-08-28
Applicant: 凸版印刷株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F1/24
CPC classification number: G03F1/24
Abstract: 反射型光掩模(10)具有基板(11)；形成在该基板(11)上的多层反射膜(12)，该多层反射膜反射平版印刷用的包含波长5nm以上15nm以下的光的曝光光；形成在该多层反射膜(12)上的吸收膜(14)，该吸收膜吸收曝光光且同时形成有电路图案(15)或者电路图案形成预定区域；在电路图案(15)或者电路图案形成预定区域的外周侧，通过除去基板(11)上的多层反射膜(12)和吸收膜(14)的一部分而形成的遮光区域(B)，该遮光区域遮蔽由多层反射膜(12)反射的曝光光的一部分；以及在该遮光区域(B)的露出的基板表面(11b)的一部分上以3000nm以下的间距形成的多个凸部(1)，该多个凸部抑制曝光光所含的入射到遮光区域(B)的带外光的反射，所述带外光具有140nm以上800nm以下的波长。
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公开(公告)号：CN112997116A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201980073304.1
申请日：2019-11-01
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明提供具有良好的耐照射性，并且能够得到良好的转印性能的反射型光掩模坯以及反射型光掩模。反射型光掩模坯(10)在基板(1)的一个面上依次形成有反射入射光的反射层(2)、以及吸收入射光的吸收层(4)。吸收层(4)至少在最表层中含有：从锡、铟、碲的组中选择的第1材料，以及由从过渡金属、铋、硅的组中选择的1种或2种以上的材料构成的第2材料。第2材料的含量在同一层内大于20原子％且小于50原子％。
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