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公开(公告)号：CN115340360A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202211043880.1
申请日：2014-12-18
申请人： 出光兴产株式会社
IPC分类号： C04B35/01 , C04B35/622 , C23C14/08 , C23C14/34
摘要： 本申请提供氧化物烧结体、该烧结体的制造方法及溅射靶。本申请提供适合在显示装置用氧化物半导体膜的制造中使用的氧化物烧结体及溅射靶，所述溅射靶具有高导电性、放电稳定性优异。一种氧化物烧结体，其包含由In2O3构成的方铁锰矿相和A3B5O12相，式中，A为选自Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb和Lu中的一种以上的元素，B为选自Al和Ga中的一种以上的元素。
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公开(公告)号：CN115340360B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202211043880.1
申请日：2014-12-18
申请人： 出光兴产株式会社
IPC分类号： C04B35/01 , C04B35/622 , C23C14/08 , C23C14/34
摘要： 本申请提供氧化物烧结体、该烧结体的制造方法及溅射靶。本申请提供适合在显示装置用氧化物半导体膜的制造中使用的氧化物烧结体及溅射靶，所述溅射靶具有高导电性、放电稳定性优异。一种氧化物烧结体，其包含由In2O3构成的方铁锰矿相和A3B5O12相，式中，A为选自Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb和Lu中的一种以上的元素，B为选自Al和Ga中的一种以上的元素。
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公开(公告)号：CN108886149A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780022320.9
申请日：2017-04-06
申请人： 出光兴产株式会社
发明人： 石原悠
IPC分类号： H01M4/62 , C08L101/02 , H01G11/38 , H01M2/16 , H01M4/13
CPC分类号： C08L101/02 , H01G11/38 , H01M2/16 , H01M4/13 , H01M4/62 , Y02E60/122 , Y02E60/13 , Y02T10/7011
摘要： 电化学元件用粘接剂，其含有：具有羧基和/或其盐的聚合物以及具有酰胺基和/或酰胺键的聚合物；或者，具有羧基和/或其盐以及酰胺基和/或酰胺键的聚合物。
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公开(公告)号：CN105873881A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201480070391.2
申请日：2014-12-18
申请人： 出光兴产株式会社
IPC分类号： C04B35/00 , C23C14/08 , C23C14/34 , H01L21/363
CPC分类号： H01J37/3429 , C04B35/01 , C04B35/64 , C04B2235/3217 , C04B2235/3222 , C04B2235/3224 , C04B2235/3225 , C04B2235/3227 , C04B2235/3229 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C04B2235/5445 , C04B2235/602 , C04B2235/604 , C04B2235/6562 , C04B2235/6567 , C04B2235/762 , C04B2235/764 , C04B2235/786 , C04B2235/80 , C23C14/08 , C23C14/083 , C23C14/086 , C23C14/3414 , H01J37/3426 , H01J37/3491 , H01L21/02565 , H01L21/02631 , H01L29/66969 , H01L29/7869
摘要： 一种氧化物烧结体，其包含由In2O3构成的方铁锰矿相和A3B5O12相，式中，A为选自Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb和Lu中的一种以上的元素，B为选自Al和Ga中的一种以上的元素。
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