一种磨抛一体磁流变加工装置及方法

    公开(公告)号:CN117862963A

    公开(公告)日:2024-04-12

    申请号:CN202311325185.9

    申请日:2023-10-13

    Abstract: 本发明公开了一种磨抛一体的磁流变加工装置,所述加工装置包括下部运动组件和上部运动组件,下部运动组件包括下电机、下线圈、极靴、加工件,上部运动件包括磨粒、打磨头、磁流变液、连接杆、上线圈、上电机。上线圈单独通电时在上电机的转动下带动打磨头使磨粒对工件进行研磨;上下线圈同时通电时磁流变液流动至打磨头与工件之间,在磁场作用下磁流变液中磁性颗粒组成柱状结构夹持磨粒在打磨头的旋转带动下对加工件上表面进行抛光;上电机停止转动,下电机带动极靴、工件转动,磁流变液柱状结构被破坏,游离的磨料对加工件上表面进行流体抛光。本发明创造性的将磁流变液打磨与抛光相结合,解决现有装置与方法去除效率低、加工精度不足等问题。

    一种光照强度数据的频谱分析计算方法及计算器

    公开(公告)号:CN104156338B

    公开(公告)日:2017-02-15

    申请号:CN201410394894.7

    申请日:2014-08-12

    Abstract: 本发明公开了一种光照强度数据的频谱分析计算方法,其特征在于,该方法步骤包括将采集得到的光照强度数据进行稀疏格式整理,形成周期稀疏分布的数据;将周期稀疏的光照强度数据规范为2的幂次方的形式;对规范化后的光照强度数据进行部分傅里叶变换;利用快速傅式变换对部分傅里叶变换后的数据进行计算,得到光照强度的频谱。本发明进一步公开了一种光照强度数据的频谱分析计算器。本发明所述技术方案,在不改变数据频谱的分布特性的前提下,对现有的傅里叶变换技术进行改进,充分利用光照强度的“周期稀疏”特性,避免了对其中零元素的冗余计算,形成一种新型的“部分傅里叶变换技术”,从而提高了频谱计算的效率。

    一种光照强度数据的频谱分析计算方法及计算器

    公开(公告)号:CN104156338A

    公开(公告)日:2014-11-19

    申请号:CN201410394894.7

    申请日:2014-08-12

    Abstract: 本发明公开了一种光照强度数据的频谱分析计算方法,其特征在于,该方法步骤包括将采集得到的光照强度数据进行稀疏格式整理,形成周期稀疏分布的数据;将周期稀疏的光照强度数据规范为2的幂次方的形式;对规范化后的光照强度数据进行部分傅里叶变换;利用快速傅式变换对部分傅里叶变换后的数据进行计算,得到光照强度的频谱。本发明进一步公开了一种光照强度数据的频谱分析计算器。本发明所述技术方案,在不改变数据频谱的分布特性的前提下,对现有的傅里叶变换技术进行改进,充分利用光照强度的“周期稀疏”特性,避免了对其中零元素的冗余计算,形成一种新型的“部分傅里叶变换技术”,从而提高了频谱计算的效率。

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