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公开(公告)号：CN111458978A
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN202010305848.0
申请日：2020-04-17
申请人： 北京北旭电子材料有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明实施例提供一种光刻胶组合物，光刻胶组合物包括：酚醛树脂、丙烯酸树脂和感光化合物，感光化合物包括第一感光化合物、第二感光化合物中的至少一个。在半色调掩膜版工艺中，利用双组分成膜树脂酚醛树脂和丙烯酸树脂，利用酚醛树脂和丙烯酸树脂溶解速率的差异性，产生“双重对比度”，解决了半保留区域的膜厚度很难达到较好的均一性问题，在一定范围内的曝光能量下，使得半保留区域的膜厚度具有较好的均一性，能够满足半色调掩膜版工艺的要求。
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公开(公告)号：CN114047670A
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN202111460811.6
申请日：2021-12-02
申请人： 北京北旭电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
摘要： 本申请提供了一种正型光刻胶组合物，其包含酚醛树脂、感光化合物以及混合溶剂，其中，混合溶剂包含第一溶剂和第二溶剂，第一溶剂选自乳酸乙酯、3‑乙氧基丙酸乙酯、4‑甲基‑2‑戊酮和2‑庚酮中的至少一种；第二溶剂选自乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚乙酸酯、乙酸乙酯和乙酸正丁酯中的至少一种。本申请提供的光刻胶组合物，其稳定性优于使用单一溶剂的光刻胶组合物，可以更好的应用于有机电致发光显示器中。
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公开(公告)号：CN113341650A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202110707464.6
申请日：2021-06-24
申请人： 北京北旭电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
摘要： 本申请提供一种光刻胶及图案化方法，属于光刻技术领域。光刻胶包括树脂材料和感光剂，树脂材料发生去保护反应时能够产生羧酸和/或酚羟基。感光剂包括第一感光化合物和第二感光化合物，第一感光化合物的结构如式I所示，第二感光化合物如式II所示。图案化方法包括：采用光刻胶形成光刻胶层，并采用包括G线、H线和I线的混合光源通过掩模板对光刻胶层进行曝光，然后显影去除光刻胶层的曝光部分形成光刻胶图案。光刻胶在具有较好的光敏性和固化后透过率的情况下，能够兼具较好的曝光后环境稳定性。
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公开(公告)号：CN111458978B
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202010305848.0
申请日：2020-04-17
申请人： 北京北旭电子材料有限公司
摘要： 本发明实施例提供一种光刻胶组合物，光刻胶组合物包括：酚醛树脂、丙烯酸树脂和感光化合物，感光化合物包括第一感光化合物、第二感光化合物中的至少一个。在半色调掩膜版工艺中，利用双组分成膜树脂酚醛树脂和丙烯酸树脂，利用酚醛树脂和丙烯酸树脂溶解速率的差异性，产生“双重对比度”，解决了半保留区域的膜厚度很难达到较好的均一性问题，在一定范围内的曝光能量下，使得半保留区域的膜厚度具有较好的均一性，能够满足半色调掩膜版工艺的要求。
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公开(公告)号：CN113341650B
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202110707464.6
申请日：2021-06-24
申请人： 北京北旭电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
摘要： 本申请提供一种光刻胶及图案化方法，属于光刻技术领域。光刻胶包括树脂材料和感光剂，树脂材料发生去保护反应时能够产生羧酸和/或酚羟基。感光剂包括第一感光化合物和第二感光化合物，第一感光化合物的结构如式I所示，第二感光化合物如式II所示。图案化方法包括：采用光刻胶形成光刻胶层，并采用包括G线、H线和I线的混合光源通过掩模板对光刻胶层进行曝光，然后显影去除光刻胶层的曝光部分形成光刻胶图案。光刻胶在具有较好的光敏性和固化后透过率的情况下，能够兼具较好的曝光后环境稳定性。
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