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公开(公告)号：CN113485072B
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202110691354.5
申请日：2021-06-22
申请人： 北京科华微电子材料有限公司 , 北京科华丰园微电子科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
IPC分类号： G03F7/004
摘要： 本申请提供了一种光刻胶组合物及其用途，该光刻胶组合物，以重量份计，包括以下成分：酚醛树脂10‑50份、感光剂1‑10份、塑化剂0.1‑5份、添加剂0.1‑5份和有机溶剂40‑100份，添加剂包括结构式(I)所示化合物中的至少一种。将本申请的光刻胶作为G线光刻胶或I线光刻胶使用，具有较低的回流温度，能避免高温对器件造成不利影响，在较低的温度下迅速回流形成形貌良好的微镜阵列，可用于对温度要求苛刻的生产工艺中。而且较小尺寸、或者较大高宽比的图形也能回流成形貌良好的微镜阵列。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN113485072A
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN202110691354.5
申请日：2021-06-22
申请人： 北京科华微电子材料有限公司 , 北京科华丰园微电子科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
IPC分类号： G03F7/004
摘要： 本申请提供了一种光刻胶组合物及其用途，该光刻胶组合物，以重量份计，包括以下成分：酚醛树脂10‑50份、感光剂1‑10份、塑化剂0.1‑5份、添加剂0.1‑5份和有机溶剂40‑100份，添加剂包括结构式(I)所示化合物中的至少一种。将本申请的光刻胶作为G线光刻胶或I线光刻胶使用，具有较低的回流温度，能避免高温对器件造成不利影响，在较低的温度下迅速回流形成形貌良好的微镜阵列，可用于对温度要求苛刻的生产工艺中。而且较小尺寸、或者较大高宽比的图形也能回流成形貌良好的微镜阵列。
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公开(公告)号：CN113105330A
公开(公告)日：2021-07-13
申请号：CN202110409013.4
申请日：2021-04-15
申请人： 北京科华微电子材料有限公司 , 北京科华丰园微电子科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
摘要： 本申请提供一种酚类化合物以及制备方法和应用、光刻胶，属于光刻技术领域。本申请的酚类化合物能够对光刻胶的分辨率进行改善，同时使得光刻胶具有较好的光刻性能，具体表现为较好的感光度、更大的对比度、侧壁角较垂直的形貌及更大的工艺窗口。光刻胶包括10～30wt％酚醛树脂、2～10wt％重氮萘醌感光剂、0.1～5wt％流平剂、40～80wt％溶剂和0.1～10wt％酚类化合物。
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公开(公告)号：CN115793391A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211513745.9
申请日：2022-11-29
申请人： 北京科华微电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
摘要： 本申请提供一种光刻胶及其应用，属于半导体及集成电路技术领域。光刻胶包括10wt％～30wt％酚醛树脂、2wt％～10wt％重氮萘醌感光剂和0.1wt％～10wt％添加剂。本申请在重氮萘醌型光刻胶中加入含卤素的添加剂，添加剂能够和光刻胶中的其他成分相互作用，从而提高光刻胶的光敏感度，且能够使得光刻胶具有较好的光刻性能，具体表现为侧壁较垂直的形貌。
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公开(公告)号：CN115877662A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211649375.1
申请日：2022-12-21
申请人： 北京科华微电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
摘要： 本申请提供一种倒梯形正性光刻胶，属于光刻技术领域。倒梯形正性光刻胶按质量百分比计包括：20％～40％的线性酚醛树脂、≤5％的重氮萘醌类感光剂、≥1.5％的溶解促进剂以及50％～80％的溶剂；其中，线性酚醛树脂为聚合单体包括间甲酚、对甲酚和3,5‑二甲酚的酚醛树脂，线性酚醛树脂的结构式如以下式I所示。该光刻胶采用特定结构的线性酚醛树脂，配合特定质量比例的溶解促进剂和具有强抑制性的重氮萘醌类感光剂，能够有效地形成易于剥离的、倒梯形的正性光刻胶，光刻胶在室温下通过丙酮、丙二醇甲醚醋酸酯等一般的有机溶剂即可有效实现去胶，使得去胶的工艺更简单、成本更低。
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