公开(公告)号：CN115084291A

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN202210519181.3

申请日：2022-05-12

申请人： 北京邮电大学

发明人： 段晓峰 ,  袁纬方 ,  杨晓伟 ,  李同辉 ,  黄君靖 ,  黄永清 ,  刘凯 ,  蔡世伟

IPC分类号： H01L31/0304 ,  H01L31/0352 ,  H01L31/105 ,  H01L31/18

摘要： 本发明提供一种倒置型光探测器及制备方法，包括自下而上的P型衬底层、P型接触层、掺杂吸收层、本征吸收层、过渡层、N型收集层、N型接触层，其中，所述掺杂吸收层的掺杂浓度沿着自横向中心至横向边缘的方向阶梯式降低。本发明提供的倒置型光探测器及制备方法，掺杂吸收层的掺杂浓度沿着自横向中心至横向边缘的方向阶梯式降低。该横向掺杂分布使得光探测器台面边缘的耗尽区域比光敏面中心的耗尽区域长，可以实现光生载流子的同步输运，缓解了限制高速响应的问题。

公开(公告)号：CN115421230A

公开(公告)日：2022-12-02

申请号：CN202211216915.7

申请日：2022-09-30

申请人： 北京邮电大学

发明人： 段晓峰 ,  杨晓伟 ,  袁纬方 ,  李玉 ,  董晓雯 ,  蔡世伟 ,  刘凯 ,  黄永清

IPC分类号： G02B3/00 ,  G02B7/02 ,  H01L31/0232

摘要： 本发明涉及一种具有支撑结构的集成微透镜及其制备方法，方法包括准备衬底、大孔径光刻版和微透镜直径的光刻版，在衬底上生长掩膜；在掩膜表面匀胶，用大孔径光刻版进行曝光，对衬底进行显影；对显影后的衬底进行掩膜开孔处理，进行高温ICP刻蚀；对高温ICP刻蚀后的衬底进行第二次匀胶，用微透镜直径的光刻版对第二次匀胶的衬底进行第二次曝光，对衬底进行第二次显影；对第二次显影后的衬底进行光刻胶热熔，形成微透镜形貌的胶型；对热熔后的衬底进行低温ICP刻蚀，将光刻胶的微透镜形貌复制到衬底上。本发明实现了受周围支撑的集成微透镜结构，制备过程周围支撑结构无需采取特殊防护处理，提高光探测器的光敏面积，有利于集成和封装。

公开(公告)号：CN115421230B

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN202211216915.7

申请日：2022-09-30

申请人： 北京邮电大学

发明人： 段晓峰 ,  杨晓伟 ,  袁纬方 ,  李玉 ,  董晓雯 ,  蔡世伟 ,  刘凯 ,  黄永清

IPC分类号： G02B3/00 ,  G02B7/02 ,  H01L31/0232

摘要： 本发明涉及一种具有支撑结构的集成微透镜及其制备方法，方法包括准备衬底、大孔径光刻版和微透镜直径的光刻版，在衬底上生长掩膜；在掩膜表面匀胶，用大孔径光刻版进行曝光，对衬底进行显影；对显影后的衬底进行掩膜开孔处理，进行高温ICP刻蚀；对高温ICP刻蚀后的衬底进行第二次匀胶，用微透镜直径的光刻版对第二次匀胶的衬底进行第二次曝光，对衬底进行第二次显影；对第二次显影后的衬底进行光刻胶热熔，形成微透镜形貌的胶型；对热熔后的衬底进行低温ICP刻蚀，将光刻胶的微透镜形貌复制到衬底上。本发明实现了受周围支撑的集成微透镜结构，制备过程周围支撑结构无需采取特殊防护处理，提高光探测器的光敏面积，有利于集成和封装。