一种用于气相沉积薄膜的装置

    公开(公告)号:CN105369220A

    公开(公告)日:2016-03-02

    申请号:CN201510923920.5

    申请日:2015-12-14

    IPC分类号: C23C16/44

    摘要: 本发明公开了一种用于气相沉积薄膜的装置,包括反应腔体上盖、反应腔体底座以及加热器;所述反应腔体底座用于承载基片,其与反应腔体上盖活动链接形成气相沉积反应腔,其背部与加热器接触导热;所述反应腔体底座为圆形且具有环形凹槽。本发明提供的装置用于气相沉积薄膜,可保证反应腔体整体不会产生太大变形,从而保证薄膜的均匀程度。

    一种原位椭圆偏振测量装置

    公开(公告)号:CN103674252B

    公开(公告)日:2015-06-17

    申请号:CN201310571593.2

    申请日:2013-11-15

    IPC分类号: G01J4/00 G01B11/06

    摘要: 一种原位椭圆偏振测量装置,包括密封盖(100)上设置供偏振光入射与反射的入射孔(106)和反射孔(107),并在外开口处设置密封的入射透光口(108)和反射透光口(109),从而可以保持薄膜反应腔密闭状态下,在整个原子层沉积过程中随时测量薄膜厚度,并且通过光路孔的腔内开口与反应腔的进气口与出气口错开设置,使反应腔的气体流动不易进入光路孔,从而避免在光路孔内壁沉积反应物,无需复杂的定期清洗,整个测量装置结构简单、紧凑,使用方便。

    一种多元物质原子层沉积膜制备方法及装置

    公开(公告)号:CN103668120A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201310636805.0

    申请日:2013-12-02

    摘要: 本发明公开了一种多元物质原子层沉积膜制备方法和装置,所述方法,即使基片相对于原子层沉积反应腔直线运动,依次通过其内用于完成不同原子层沉积的原子层沉积系统,基片通过每个原子层沉积系统时:调整基片温度为相应原子层沉积反应最适温度。所述装置,包括原子层沉积反应腔、基片承载台、运动平台和温度控制装置;原子层沉积反应腔依次设置有多个原子层沉积系统;基片承载台,设置在原子层沉积反应腔下方;运动平台,与基片承载台连接,带动基片承载台运动;温度控制装置,设置在基片承载台下方。所述方法能高效快速的制备多元物质原子层沉积膜,所述装置,能方便的通过现有原子层沉积系统组装,兼容性强,功耗低,沉积效率高。

    一种变温薄膜沉积系统
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105543807B

    公开(公告)日:2018-06-26

    申请号:CN201510932643.4

    申请日:2015-12-15

    IPC分类号: C23C16/54 C23C16/46

    摘要: 本发明公开了一种变温薄膜沉积系统,包括多个沉积装置和基片转移装置,所述多个沉积装置均匀布设在基片转移装置周围;所述多个沉积装置具有基片温度控制机构,用于分别维持基片承载台温度恒温;所述基片转移装置,包括三维移动装置,所述三维移动装置的末端设有保护气体喷头,所述保护气体喷头两侧设有抓取装置,所述抓取装置用于抓取基片承载台。本发明提供的变温薄膜沉积系统能高效高质量的沉积多元物质沉积膜。

    一种变温薄膜沉积系统
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105543807A

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:CN201510932643.4

    申请日:2015-12-15

    IPC分类号: C23C16/54 C23C16/46

    摘要: 本发明公开了一种变温薄膜沉积系统,包括多个沉积装置和基片转移装置,所述多个沉积装置均匀布设在基片转移装置周围;所述多个沉积装置具有基片温度控制机构,用于分别维持基片承载台温度恒温;所述基片转移装置,包括三维移动装置,所述三维移动装置的末端设有保护气体喷头,所述保护气体喷头两侧设有抓取装置,所述抓取装置用于抓取基片承载台。本发明提供的变温薄膜沉积系统能高效高质量的沉积多元物质沉积膜。

    一种用于制作原子层沉积膜的可拆卸喷头及装置

    公开(公告)号:CN103628045B

    公开(公告)日:2015-09-23

    申请号:CN201310636874.1

    申请日:2013-12-02

    IPC分类号: C23C16/455

    摘要: 本发明公开了一种用于制作原子层沉积膜的可拆卸喷头及装置。用于制作原子层沉积膜的喷头,包括进气管路、进气口和出气口;所述进气口内部为空腔;所述出气口内部形成空腔,分为上半部分和下半部分,其上半部分与下半部分之间设有漏斗形结构;进气管路与进气口固定连接,进气口与出气口可拆卸密闭连接。用于制作原子层沉积膜的装置,包括所述喷头、腔体支撑架、基片承载台和运动平台,腔体支撑架中间形成长条状镂空,可顺序设置多个可拆卸喷头,基片承载台设置在墙体支撑架下方,运动平台带动基片承载台。本发明能适应不同的原子层沉积反应,通过气体隔离原子层沉积法,高效快速的制作原子层沉积膜。

    一种用于制作原子层沉积膜的可拆卸喷头及装置

    公开(公告)号:CN103628045A

    公开(公告)日:2014-03-12

    申请号:CN201310636874.1

    申请日:2013-12-02

    IPC分类号: C23C16/455

    摘要: 本发明公开了一种用于制作原子层沉积膜的可拆卸喷头及装置。用于制作原子层沉积膜的喷头,包括进气管路、进气口和出气口;所述进气口内部为空腔;所述出气口内部形成空腔,分为上半部分和下半部分,其上半部分与下半部分之间设有漏斗形结构;进气管路与进气口固定连接,进气口与出气口可拆卸密闭连接。用于制作原子层沉积膜的装置,包括所述喷头、腔体支撑架、基片承载台和运动平台,腔体支撑架中间形成长条状镂空,可顺序设置多个可拆卸喷头,基片承载台设置在墙体支撑架下方,运动平台带动基片承载台。本发明能适应不同的原子层沉积反应,通过气体隔离原子层沉积法,高效快速的制作原子层沉积膜。

    一种用于气相沉积薄膜的装置

    公开(公告)号:CN105369220B

    公开(公告)日:2018-06-19

    申请号:CN201510923920.5

    申请日:2015-12-14

    IPC分类号: C23C16/44

    摘要: 本发明公开了一种用于气相沉积薄膜的装置,包括反应腔体上盖、反应腔体底座以及加热器;所述反应腔体底座用于承载基片,其与反应腔体上盖活动链接形成气相沉积反应腔,其背部与加热器接触导热;所述反应腔体底座为圆形且具有环形凹槽。本发明提供的装置用于气相沉积薄膜,可保证反应腔体整体不会产生太大变形,从而保证薄膜的均匀程度。

    一种多元物质原子层沉积膜制备方法及装置

    公开(公告)号:CN103668120B

    公开(公告)日:2016-04-13

    申请号:CN201310636805.0

    申请日:2013-12-02

    摘要: 本发明公开了一种多元物质原子层沉积膜制备方法和装置,所述方法,即使基片相对于原子层沉积反应腔直线运动,依次通过其内用于完成不同原子层沉积的原子层沉积系统,基片通过每个原子层沉积系统时:调整基片温度为相应原子层沉积反应最适温度。所述装置,包括原子层沉积反应腔、基片承载台、运动平台和温度控制装置;原子层沉积反应腔依次设置有多个原子层沉积系统;基片承载台,设置在原子层沉积反应腔下方;运动平台,与基片承载台连接,带动基片承载台运动;温度控制装置,设置在基片承载台下方。所述方法能高效快速的制备多元物质原子层沉积膜,所述装置,能方便的通过现有原子层沉积系统组装,兼容性强,功耗低,沉积效率高。

    一种原位椭圆偏振测量装置

    公开(公告)号:CN103674252A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201310571593.2

    申请日:2013-11-15

    IPC分类号: G01J4/00 G01B11/06

    摘要: 一种原位椭圆偏振测量装置,包括密封盖(100)上设置供偏振光入射与反射的入射孔(106)和反射孔(107),并在外开口处设置密封的入射透光口(108)和反射透光口(109),从而可以保持薄膜反应腔密闭状态下,在整个原子层沉积过程中随时测量薄膜厚度,并且通过光路孔的腔内开口与反应腔的进气口与出气口错开设置,使反应腔的气体流动不易进入光路孔,从而避免在光路孔内壁沉积反应物,无需复杂的定期清洗,整个测量装置结构简单、紧凑,使用方便。