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公开(公告)号：CN107099784B
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201710336412.6
申请日：2017-05-13
申请人： 华中科技大学
IPC分类号： C23C16/455
摘要： 本发明公开了一种用于空间隔离原子层沉积的模块化喷头及装置。模块化喷头包括：前驱体通道组件、密封组件；前驱体通道组件包括板状基体、前驱体通道、气体管路；前驱体通道布置于板状基体正面，自上而下延伸，前驱体通道的顶端连通气体管路；密封组件设于板状基体正面，用于对前驱体通道进行密封，防止前驱体泄露。本发明的模块化喷头，由多个部件构成整体模块，并且通过前躯体通道对喷入的气体进行分流和缓冲，实现沉积均匀，且可以根据实际需求选取任意数量进行组合。本发明的装置包括多个模块化喷头，以一定的间隔排列，分别通入氧化物前驱体源和金属前驱体源，使得基底在前驱体单元下运动一个来回沉积多层薄膜，大大提高了薄膜沉积效率。
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公开(公告)号：CN108754456A
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201810503730.1
申请日：2018-05-23
申请人： 华中科技大学
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/45548 , C23C16/45519 , C23C16/45568 , C23C16/52
摘要： 本发明属于微纳制造相关设备领域，并公开了一种常压下曲面基底的原子层沉积薄膜制备设备，它包括喷头模块及对应配备的液压传动模块，其中该喷头模块用于对基底进行原子层沉积，具有空间隔离的作用，并且四周的气浮区可以帮助喷头在经过曲面时改变方向达到曲面沉积的作用；该液压传动模块通过转阀来实时获取喷头转动角度的信息，并通过改变进出油口的相对连接位置而使得喷头总体上升或者下降或者保持不动。通过本发明，能够可获得一种开放式、具有自调整功能的原子层沉积薄膜制备设备，其不仅可在常温常压下即可执行各类曲面沉积操作，而且喷头能够根据曲面曲率的不同而快速改变角度及升降运动，进而与现有设备相比可显著提高作业效率和适用性。
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公开(公告)号：CN107099784A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201710336412.6
申请日：2017-05-13
申请人： 华中科技大学
IPC分类号： C23C16/455
CPC分类号： C23C16/45544 , C23C16/45563
摘要： 本发明公开了一种用于空间隔离原子层沉积的模块化喷头及装置。模块化喷头包括：前驱体通道组件、密封组件；前驱体通道组件包括板状基体、前驱体通道、气体管路；前驱体通道布置于板状基体正面，自上而下延伸，前驱体通道的顶端连通气体管路；密封组件设于板状基体正面，用于对前驱体通道进行密封，防止前驱体泄露。本发明的模块化喷头，由多个部件构成整体模块，并且通过前躯体通道对喷入的气体进行分流和缓冲，实现沉积均匀，且可以根据实际需求选取任意数量进行组合。本发明的装置包括多个模块化喷头，以一定的间隔排列，分别通入氧化物前驱体源和金属前驱体源，使得基底在前驱体单元下运动一个来回沉积多层薄膜，大大提高了薄膜沉积效率。
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公开(公告)号：CN107017193A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201710311755.7
申请日：2017-05-05
申请人： 华中科技大学
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/683
摘要： 本发明公开了一种基片取放及转移装置，包括：第一取放组件、第二取放组件以及转移组件；第一取放组件的第一直线动子通过第一气缸带动第一真空吸盘，依次在初始位置、第一反应位置、第一取放位置之间往复运动；第二取放组件的第二直线动子通过第二气缸带动第二真空吸盘，依次在第二取放位置、第二反应位置之间往复运动，第二反应位置对应第二反应区设置；转移组件的基片支撑板设于第一取放位置和第二取放位置之间，转移组件的第三直线动子带动基片支撑板在第一取放位置和第二取放位置之间往复运动。本发明通过转移组件和第一、第二取放组件自动完成基片的转移及取放，避免了人工操作的低效率和危险性，可以实现基片安全、高效转移地转移及取放。
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公开(公告)号：CN107017193B
公开(公告)日：2019-08-20
申请号：CN201710311755.7
申请日：2017-05-05
申请人： 华中科技大学
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/683
摘要： 本发明公开了一种基片取放及转移装置，包括：第一取放组件、第二取放组件以及转移组件；第一取放组件的第一直线动子通过第一气缸带动第一真空吸盘，依次在初始位置、第一反应位置、第一取放位置之间往复运动；第二取放组件的第二直线动子通过第二气缸带动第二真空吸盘，依次在第二取放位置、第二反应位置之间往复运动，第二反应位置对应第二反应区设置；转移组件的基片支撑板设于第一取放位置和第二取放位置之间，转移组件的第三直线动子带动基片支撑板在第一取放位置和第二取放位置之间往复运动。本发明通过转移组件和第一、第二取放组件自动完成基片的转移及取放，避免了人工操作的低效率和危险性，可以实现基片安全、高效转移地转移及取放。
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公开(公告)号：CN108754456B
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201810503730.1
申请日：2018-05-23
申请人： 华中科技大学
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52
摘要： 本发明属于微纳制造相关设备领域，并公开了一种常压下曲面基底的原子层沉积薄膜制备设备，它包括喷头模块及对应配备的液压传动模块，其中该喷头模块用于对基底进行原子层沉积，具有空间隔离的作用，并且四周的气浮区可以帮助喷头在经过曲面时改变方向达到曲面沉积的作用；该液压传动模块通过转阀来实时获取喷头转动角度的信息，并通过改变进出油口的相对连接位置而使得喷头总体上升或者下降或者保持不动。通过本发明，能够可获得一种开放式、具有自调整功能的原子层沉积薄膜制备设备，其不仅可在常温常压下即可执行各类曲面沉积操作，而且喷头能够根据曲面曲率的不同而快速改变角度及升降运动，进而与现有设备相比可显著提高作业效率和适用性。
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公开(公告)号：CN105543807B
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201510932643.4
申请日：2015-12-15
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明公开了一种变温薄膜沉积系统，包括多个沉积装置和基片转移装置，所述多个沉积装置均匀布设在基片转移装置周围；所述多个沉积装置具有基片温度控制机构，用于分别维持基片承载台温度恒温；所述基片转移装置，包括三维移动装置，所述三维移动装置的末端设有保护气体喷头，所述保护气体喷头两侧设有抓取装置，所述抓取装置用于抓取基片承载台。本发明提供的变温薄膜沉积系统能高效高质量的沉积多元物质沉积膜。
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公开(公告)号：CN105543807A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201510932643.4
申请日：2015-12-15
申请人： 华中科技大学
CPC分类号： C23C16/54 , C23C16/45544 , C23C16/46
摘要： 本发明公开了一种变温薄膜沉积系统，包括多个沉积装置和基片转移装置，所述多个沉积装置均匀布设在基片转移装置周围；所述多个沉积装置具有基片温度控制机构，用于分别维持基片承载台温度恒温；所述基片转移装置，包括三维移动装置，所述三维移动装置的末端设有保护气体喷头，所述保护气体喷头两侧设有抓取装置，所述抓取装置用于抓取基片承载台。本发明提供的变温薄膜沉积系统能高效高质量的沉积多元物质沉积膜。
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