一种红外焦平面阵列非均匀性自适应校正方法

    公开(公告)号:CN100535618C

    公开(公告)日:2009-09-02

    申请号:CN200710051919.3

    申请日:2007-04-19

    Abstract: 一种红外焦平面阵列非均匀性自适应校正方法,属于红外焦平面探测器领域,目的在于有效地抑制目标退化,提高运算速度,并且易于硬件实现。本发明包括初始化步骤、预处理步骤、粗校正步骤和精校正步骤,本发明采用一点校正和神经网络自适应校正相结合的算法,并且加入边缘提取模块,结合各算法的优点,得出一种组合的校正算法,有效地消除了空间低频噪声,抑制了目标退化,在运算速度上比基于边缘指导的神经网络算法有一定提高。

    一种红外焦平面非均匀性指纹提取及图像校正方法

    公开(公告)号:CN101776487B

    公开(公告)日:2011-05-18

    申请号:CN200910273529.X

    申请日:2009-12-31

    Abstract: 一种红外焦平面非均匀性指纹提取及图像校正方法,属于红外成像技术领域。由生产工艺决定,每个红外焦平面都有相对稳定的非均匀模式及其随温度变化的规律,这两者统称为指纹。本发明提出了非均匀性指纹的定义,并利用小波分解分析焦平面非均匀性在频域中所具有的特征,提炼出属于该焦平面的非均匀性指纹,然后存储在探测器的存储单元中。校正时以环境温度为输入参数,读取出该环境温度下的非均匀性指纹后,便可在指纹的约束下进行非均匀性校正。与常规方法相比较,本方法不需要每次校正时都要用均匀挡板去获取背景帧,校正思路简洁,简化了校正装置和校正过程,校正后的图像非均匀性有明显的改善。

    一种红外焦平面阵列非均匀性自适应校正方法

    公开(公告)号:CN101038209A

    公开(公告)日:2007-09-19

    申请号:CN200710051919.3

    申请日:2007-04-19

    Abstract: 一种红外焦平面阵列非均匀性自适应校正方法,属于红外焦平面探测器领域,目的在于有效地抑制目标退化,提高运算速度,并且易于硬件实现。本发明包括初始化步骤、预处理步骤、粗校正步骤和精校正步骤,本发明采用一点校正和神经网络自适应校正相结合的算法,并且加入边缘提取模块,结合各算法的优点,得出一种组合的校正算法,有效地消除了空间低频噪声,抑制了目标退化,在运算速度上比基于边缘指导的神经网络算法有一定提高。

    一种红外焦平面非均匀性指纹提取及图像校正方法

    公开(公告)号:CN101776487A

    公开(公告)日:2010-07-14

    申请号:CN200910273529.X

    申请日:2009-12-31

    Abstract: 一种红外焦平面非均匀性指纹提取及图像校正方法,属于红外成像技术领域。由生产工艺决定,每个红外焦平面都有相对稳定的非均匀模式及其随温度变化的规律,这两者统称为指纹。本发明提出了非均匀性指纹的定义,并利用小波分解分析焦平面非均匀性在频域中所具有的特征,提炼出属于该焦平面的非均匀性指纹,然后存储在探测器的存储单元中。校正时以环境温度为输入参数,读取出该环境温度下的非均匀性指纹后,便可在指纹的约束下进行非均匀性校正。与常规方法相比较,本方法不需要每次校正时都要用均匀挡板去获取背景帧,校正思路简洁,简化了校正装置和校正过程,校正后的图像非均匀性有明显的改善。

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