器件制备方法、二维材料器件与MoS2场效应晶体管

    公开(公告)号:CN109920852A

    公开(公告)日:2019-06-21

    申请号:CN201910148943.1

    申请日:2019-02-28

    IPC分类号: H01L29/778 H01L21/336

    摘要: 本发明提供了一种基于激光直写的器件制备方法、二维材料器件与MoS2场效应晶体管,所述的方法,包括:在绝缘衬底结构的中间区域涂覆未掺杂前驱体溶液;对所述中间区域进行激光直写,以在所述中间区域形成有源层;所述有源层为本征过渡金属硫族化合物薄膜;在所述绝缘衬底结构的未形成所述有源层的边缘区域涂覆n型掺杂前驱体溶液;对所述边缘区域进行激光直写,以在所述边缘区域形成源漏区层;所述源漏区层为n型过渡金属硫族化合物薄膜;在所述源漏区层蒸镀电极结构,得到所需的二维材料器件。本发明无需进行光刻等图形化步骤,简化了制备工艺。