一种大尺寸单晶氧化亚锡及其制备方法

    公开(公告)号:CN108777250B

    公开(公告)日:2021-05-14

    申请号:CN201810527383.6

    申请日:2018-05-29

    Abstract: 本发明属于半导体器件领域,公开了一种大尺寸单晶氧化亚锡及其制备方法。将SnCl2·2H2O溶解在酸溶液中,然后滴加碱性溶液,调节溶液pH值范围为11.5~12.5,生成白色溶胶物质Sn6O4(OH)4,然后超声处理或加热处理,得到黑色沉淀物质,沉淀经分离、洗涤、干燥,得到所述大尺寸单晶氧化亚锡。本发明利用酸碱中和反应机理制备大尺寸单晶SnO,本发明的制备方法操作简单,所需原料及设备无特殊要求;并且所制得的单晶SnO尺寸大,形状规则,可以有效改善场效应晶体管的性能。

    一种少层单晶氧化亚锡及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN109402735B

    公开(公告)日:2020-12-22

    申请号:CN201811062169.4

    申请日:2018-09-12

    Abstract: 本发明属于场效应晶体管技术领域,具体涉及一种少层单晶氧化亚锡及其制备方法与应用。所述少层单晶氧化亚锡的制备方法包括以下步骤:以晶粒尺寸大于100μm的三维单晶氧化亚锡为原料,将其均匀洒在胶带的一部分上;将胶带中洒有所述三维单晶氧化亚锡的部分与空白部分对折挤压,然后撕开,重复所述对折挤压和撕开操作直至得到所述少层单晶氧化亚锡。所述少层单晶氧化亚锡可用于制备场效应晶体管。本发明采用的方法实验操作简单,所需的药品以及实验仪器都是普通常见的,不需要作特殊处理。并且所制得的少层单晶SnO不易受到污染,形状规则,可以有效改善场效应晶体管的性能。

    一种大尺寸单晶氧化亚锡及其制备方法

    公开(公告)号:CN108777250A

    公开(公告)日:2018-11-09

    申请号:CN201810527383.6

    申请日:2018-05-29

    Abstract: 本发明属于半导体器件领域,公开了一种大尺寸单晶氧化亚锡及其制备方法。将SnCl2·2H2O溶解在酸溶液中,然后滴加碱性溶液,调节溶液pH值范围为11.5~12.5,生成白色溶胶物质Sn6O4(OH)4,然后超声处理或加热处理,得到黑色沉淀物质,沉淀经分离、洗涤、干燥,得到所述大尺寸单晶氧化亚锡。本发明利用酸碱中和反应机理制备大尺寸单晶SnO,本发明的制备方法操作简单,所需原料及设备无特殊要求;并且所制得的单晶SnO尺寸大,形状规则,可以有效改善场效应晶体管的性能。

    一种少层单晶氧化亚锡及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN109402735A

    公开(公告)日:2019-03-01

    申请号:CN201811062169.4

    申请日:2018-09-12

    Abstract: 本发明属于场效应晶体管技术领域,具体涉及一种少层单晶氧化亚锡及其制备方法与应用。所述少层单晶氧化亚锡的制备方法包括以下步骤:以晶粒尺寸大于100μm的三维单晶氧化亚锡为原料,将其均匀洒在胶带的一部分上;将胶带中洒有所述三维单晶氧化亚锡的部分与空白部分对折挤压,然后撕开,重复所述对折挤压和撕开操作直至得到所述少层单晶氧化亚锡。所述少层单晶氧化亚锡可用于制备场效应晶体管。本发明采用的方法实验操作简单,所需的药品以及实验仪器都是普通常见的,不需要作特殊处理。并且所制得的少层单晶SnO不易受到污染,形状规则,可以有效改善场效应晶体管的性能。

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