一种Si衬底上的InN-ⅥA族异质结及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN114875493B

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202210467938.9

    申请日:2022-04-29

    Abstract: 本发明公开了一种Si衬底上的InN‑ⅥA族异质结及其制备方法与应用。该异质结包括Si衬底、生长在所述Si衬底上的InN纳米柱和生长在所述InN纳米柱上的ⅥA族薄膜。所述ⅥA族薄膜包括In2O3薄膜和In2Se3薄膜;所述In2O3薄膜附着在所述InN纳米柱上,所述In2Se3薄膜附着在所述In2O3薄膜上。本发明的基于Si衬底上的InN‑ⅥA族异质结能显著提高InN纳米柱的光电转换效率;同时,该制备方法工艺简单、成本低,为其它半导体复合催化材料的制备提供了一种新型的思路。最后,本发明公开的基于Si衬底上的InN纳米柱‑ⅥA族异质结具有较大的比表面积,对太阳光有较强的吸收,适用于光电解水产氢。

    一种Si衬底上的InN-ⅥA族异质结及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN114875493A

    公开(公告)日:2022-08-09

    申请号:CN202210467938.9

    申请日:2022-04-29

    Abstract: 本发明公开了一种Si衬底上的InN‑ⅥA族异质结及其制备方法与应用。该异质结包括Si衬底、生长在所述Si衬底上的InN纳米柱和生长在所述InN纳米柱上的ⅥA族薄膜。所述ⅥA族薄膜包括In2O3薄膜和In2Se3薄膜;所述In2O3薄膜附着在所述InN纳米柱上,所述In2Se3薄膜附着在所述In2O3薄膜上。本发明的基于Si衬底上的InN‑ⅥA族异质结能显著提高InN纳米柱的光电转换效率;同时,该制备方法工艺简单、成本低,为其它半导体复合催化材料的制备提供了一种新型的思路。最后,本发明公开的基于Si衬底上的InN纳米柱‑ⅥA族异质结具有较大的比表面积,对太阳光有较强的吸收,适用于光电解水产氢。

    一种基于InN/有机异质结构光电极材料及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN114921804A

    公开(公告)日:2022-08-19

    申请号:CN202210445008.3

    申请日:2022-04-26

    Abstract: 本发明公开了一种基于InN/有机异质结构光电极材料及其制备方法与应用。该光电极材料包括Si衬底、所述Si衬底上设置的InN纳米柱、所述InN纳米柱上设置的有机材料层;所述有机材料层为聚合物材料层。本发明使用有机材料PM6不仅拓宽了光电极材料的吸收光谱范围,同时与InN纳米柱形成Z型异质结构,促进了电荷载流子的解离、传输及其在电极/电解液界面发生还原反应,大大提高了光电转换效率,从而有利于实现在一定偏压下光电化学水分解制氢,为高效利用太阳能转换为氢能提供了有效策略。

    一种基于石墨烯上InGaN纳米柱光电极无偏压光电化学制氢系统与应用

    公开(公告)号:CN112760668B

    公开(公告)日:2022-05-24

    申请号:CN202011562286.4

    申请日:2020-12-25

    Abstract: 本发明公开了一种基于石墨烯上InGaN纳米柱光电极无偏压光电化学制氢系统与其应用。该体系包括光阳极、光阴极、电解液、光源、电解池,所述的光阳极结构从下至上依次为衬底、衬底上的石墨烯、生长在石墨烯上的InGaN纳米柱,所述的光阴极结构从上至下依次为衬底、生长在衬底上的InGaN纳米柱;本发明使用石墨烯不仅拓宽了衬底的选择范围,同时可以充当导电电极使用,降低了成本;石墨烯还能与纳米柱之间的形成肖特基势垒,有利于分离光生载流子,增强载流子输运性能,大幅度提高纳米柱的光电性能;同时石墨烯的透光性能够制备InGaN纳米柱集成光电极,能拓宽光谱吸收、提高水分解所需光电压,实现无偏压光电水分解产氢。

    一种退火处理的Si基InN纳米柱异质结及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN114657641A

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN202210162088.1

    申请日:2022-02-22

    Abstract: 本发明公开了一种退火处理的Si基InN纳米柱异质结及其制备方法与应用。该制备方法包括以下步骤:(1)采用分子束外延生长工艺,在Si衬底上生长InN纳米柱;(2)将步骤(1)所得InN纳米柱进行退火处理,得到Si基InN纳米柱异质结;所述退火的氛围为N2保护下的硫氛围、氧氛围或硒氛围。该InN纳米柱异质结包括衬底和生长在衬底上的InN纳米柱,其中InN纳米柱在不同氛围下退火形成异质结。本发明采用一种成本低、工艺简单的方法制备了Si基InN纳米柱异质结光电极。该异质结光电极可用于光电催化水分解制氢,大大提高了产氢效率,为利用太阳能大规模制备氢能源提供有效策略。

    一种基于MoS2上的InN纳米柱及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN114657534A

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN202210151326.9

    申请日:2022-02-18

    Abstract: 本发明公开了一种基于MoS2上的InN纳米柱及其制备方法与应用。该复合结构包括Si衬底、生长在Si衬底上的MoS2基底、MoS2基底上生长的InN纳米柱。本发明制备的基于MoS2上的InN纳米柱,MoS2边缘活性位点数目多,能增强InN纳米柱光生载流子分离与转移效率,能显著提高InN纳米柱的光电转换效率;同时,该制备方法工艺简单、成本低,为其它半导体复合催化材料的制备提供了一种新型的思路。最后,本发明公开的基于MoS2上的InN纳米柱具有较大的比表面积,对太阳光有较强的吸收,适用于光电解水产氢。

    一种基于MoS2上的InN纳米柱及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN114657534B

    公开(公告)日:2023-06-16

    申请号:CN202210151326.9

    申请日:2022-02-18

    Abstract: 本发明公开了一种基于MoS2上的InN纳米柱及其制备方法与应用。该复合结构包括Si衬底、生长在Si衬底上的MoS2基底、MoS2基底上生长的InN纳米柱。本发明制备的基于MoS2上的InN纳米柱,MoS2边缘活性位点数目多,能增强InN纳米柱光生载流子分离与转移效率,能显著提高InN纳米柱的光电转换效率;同时,该制备方法工艺简单、成本低,为其它半导体复合催化材料的制备提供了一种新型的思路。最后,本发明公开的基于MoS2上的InN纳米柱具有较大的比表面积,对太阳光有较强的吸收,适用于光电解水产氢。

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