基于全内反射及光学相干层析的亚表面测量装置及方法

    公开(公告)号:CN105092585A

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201410185995.3

    申请日:2014-05-05

    IPC分类号: G01N21/88

    摘要: 本发明公开了一种基于全内反射及光学相干层析的亚表面测量装置及方法。该装置包括依次设置的光源系统、待测台和显微分析系统,其中光源系统包括顺次设置的激光器、偏振片、诺马斯基棱镜、准直透镜、第一反射镜和第二反射镜,待测台包括直角棱镜、折射率液和待测件,显微分析系统包括高倍物镜、第三反射镜、诺马斯基干涉仪成像系统、第四反射镜、第五反射镜和光学相干层析系统,多维精密电控调整系统包括支撑台、显微系统支架、三维微位移部件、驱动电机和计算机。所述诺马斯基干涉仪显微成像系统和光学相干层析系统均置于显微系统支架上,分别进行全内反射粗定位过程和光学相干层析过程,即将两者相结合对元件检测,检测速度快、可靠性强、精度高。

    基于全内反射及光学相干层析的亚表面测量装置及方法

    公开(公告)号:CN105092585B

    公开(公告)日:2018-01-05

    申请号:CN201410185995.3

    申请日:2014-05-05

    IPC分类号: G01N21/88

    摘要: 本发明公开了一种基于全内反射及光学相干层析的亚表面测量装置及方法。该装置包括依次设置的光源系统、待测台和显微分析系统,其中光源系统包括顺次设置的激光器、偏振片、诺马斯基棱镜、准直透镜、第一反射镜和第二反射镜,待测台包括直角棱镜、折射率液和待测件,显微分析系统包括高倍物镜、第三反射镜、诺马斯基干涉仪成像系统、第四反射镜、第五反射镜和光学相干层析系统,多维精密电控调整系统包括支撑台、显微系统支架、三维微位移部件、驱动电机和计算机。所述诺马斯基干涉仪显微成像系统和光学相干层析系统均置于显微系统支架上,分别进行全内反射粗定位过程和光学相干层析过程,即将两者相结合对元件检测,检测速度快、可靠性强、精度高。