公开(公告)号：CN114008510A

公开(公告)日：2022-02-01

申请号：CN202080044303.7

申请日：2020-06-09

申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明人： H.M.斯蒂潘 ,  T.格鲁纳

IPC分类号： G02B26/08 ,  G03F7/20

摘要： 本发明关于反射镜，尤其是用于微光刻投射曝光装置。根据一方面，根据本发明的反射镜具有光学有效表面(11,31)、反射镜基板(12,32)、用以反射入射在光学有效表面上的电磁辐射的反射层系统(21,41)、以及至少一个压电层(16,36)，其中压电层布置在反射镜基板和反射层系统之间，且通过位于面向反射层系统的压电层的一侧上的第一电极配置，以及通过位于面向反射镜基板的压电层的一侧上的第二电极配置，能够施加用以产生局部可变变形的电场至压电层，其中该电极配置中的一个分配有中介层(17,37,51,52,53,71)，用于设定沿相应电极配置的电位的至少区域性连续的轮廓；以及其中该中介层具有至少两个相互电绝缘的区域(17a,17b,17c,…；37a,37b,37c,…)。

公开(公告)号：CN114631042A

公开(公告)日：2022-06-14

申请号：CN202080072750.3

申请日：2020-10-08

申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明人： H.M.斯蒂潘 ,  T.蒙兹 ,  J.卡勒 ,  U.勒林

IPC分类号： G02B5/08 ,  G03F7/20 ,  G01M11/00 ,  G01B11/24 ,  G01B9/02

摘要： 本发明涉及一种光学元件的制造方法，其中，光学元件(2、52、61)具有的主体(18)具有基板(19、53、64)和反射表面(20、54、62)，并且其中，用于接收冷却剂(22)的至少一个冷却通道(21、45、46、47、56、57、58、59)形成在基板(19、53、64)中，并且其中，冷却通道(21、45、46、47、56、57、58、59)通过切割制造过程和/或通过蚀刻过程形成。

公开(公告)号：CN114502914A

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202080068030.X

申请日：2020-08-13

申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明人： A.温克勒 ,  M.谢德 ,  H.M.斯蒂潘 ,  J.赫茨勒 ,  F.埃泽特

IPC分类号： G01B11/06 ,  G01B11/24 ,  G01B9/02 ,  G01M11/00 ,  G01Q60/24 ,  G02B5/18 ,  G03H1/30

摘要： 本发明涉及一种用于测量光学表面(102)的形状的测试干涉仪(100)的衍射光学元件(10)，其包括：衍射形状测量结构(16)，其布置在衍射光学元件的使用表面(14)上并且被配置为当衍射光学元件布置在测试干涉仪中时生成用于照射待测量的光学表面的测试波(122)；以及至少一个测试场(18)，被配置为用于测量定位在测试场内的测试结构的多个轮廓性质，轮廓性质表征相对于使用表面横向延伸的测试结构的轮廓并且包括测试结构的轮廓的侧翼角、测试结构的轮廓深度、和在测试结构的沟槽形状的轮廓的基部区域中出现的微沟槽的深度。测试场布置在使用表面的一个位置处而不是衍射形状测量结构，使得测试场由多个衍射形状测量结构围绕。