公开(公告)号：CN102314096B

公开(公告)日：2014-05-21

申请号：CN201110264583.5

申请日：2007-02-16

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： O.伍尔夫 ,  H.西克曼 ,  E.卡尔切布莱纳 ,  S.雷南 ,  J.旺格勒 ,  A.布雷桑 ,  M.格哈德 ,  N.哈弗坎普 ,  A.舍尔茨 ,  R.沙恩韦伯尔 ,  M.莱 ,  S.布尔卡特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F7/70075 ,  Y10T83/0304 ,  Y10T83/04

Abstract: 一种制造用于微光刻投影曝光设备中的照射系统的长的微透镜阵列的方法，所述方法包括下述步骤：a)提供衬底(30)；b)提供包括切割刃(24)的切割工具(22)；c)在快速切割工艺中相对于所述衬底(30)重复移动所述切割工具(22)，从而使得所述切割刃能够切割入所述衬底(30)；d)在步骤c)中沿着平行于所述微透镜的纵向轴的纵向方向(X)移动所述衬底(30)；e)至少基本垂直于所述纵向方向(X)移动所述衬底(30)；f)重复所述步骤c)和d)。

公开(公告)号：CN102314096A

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：CN201110264583.5

申请日：2007-02-16

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： O.伍尔夫 ,  H.西克曼 ,  E.卡尔切布莱纳 ,  S.雷南 ,  J.旺格勒 ,  A.布雷桑 ,  M.格哈德 ,  N.哈弗坎普 ,  A.舍尔茨 ,  R.沙恩韦伯尔 ,  M.莱 ,  S.布尔卡特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F7/70075 ,  Y10T83/0304 ,  Y10T83/04

Abstract: 一种制造用于微光刻投影曝光设备中的照射系统的长的微透镜阵列的方法，所述方法包括下述步骤：a)提供衬底(30)；b)提供包括切割刃(24)的切割工具(22)；c)在快速切割工艺中相对于所述衬底(30)重复移动所述切割工具(22)，从而使得所述切割刃能够切割入所述衬底(30)；d)在步骤c)中沿着平行于所述微透镜的纵向轴的纵向方向(X)移动所述衬底(30)；e)至少基本垂直于所述纵向方向(X)移动所述衬底(30)；f)重复所述步骤c)和d)。