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公开(公告)号：CN102859016B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201080066025.1
申请日：2010-12-24
申请人： 古河电气工业株式会社
IPC分类号： C22C9/06 , C22C9/00 , C22C9/01 , C22C9/02 , C22C9/04 , C22C9/05 , C22C9/10 , C22F1/08 , C22F1/00
摘要： 本发明的目的在于提供一种铜合金伸展材，该铜合金伸展材的被切削性和伸展性优异、可减轻环境负荷、并且在需要高强度和高导电性的至少一种的用途中是最合适的。本发明的铜合金伸展材含有1.5质量%～7.0质量%的Ni、0.3质量%～2.3质量%的Si、0.02质量%～1.0质量%的S，进一步根据需要含有以总量计为0.05质量%～2.0质量%的选自由Sn、Mn、Co、Zr、Ti、Fe、Cr、Al、P和Zn组成的组中的至少一种，余量由Cu和不可避免的杂质形成，其中，该铜合金伸展材中分散了有助于被切削性提高的硫化物，该硫化物的平均直径为0.1μm～10μm，该硫化物的面积率为0.1%～10%；且所述铜合金伸展材的拉伸强度为500MPa以上、导电率为25%IACS以上。
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公开(公告)号：CN102859016A
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201080066025.1
申请日：2010-12-24
申请人： 古河电气工业株式会社
IPC分类号： C22C9/06 , C22C9/00 , C22C9/01 , C22C9/02 , C22C9/04 , C22C9/05 , C22C9/10 , C22F1/08 , C22F1/00
摘要： 本发明的目的在于提供一种铜合金伸展材，该铜合金伸展材的被切削性和伸展性优异、可减轻环境负荷、并且在需要高强度和高导电性的至少一种的用途中是最合适的。本发明的铜合金伸展材含有1.5质量%～7.0质量%的Ni、0.3质量%～2.3质量%的Si、0.02质量%～1.0质量%的S，进一步根据需要含有以总量计为0.05质量%～2.0质量%的选自由Sn、Mn、Co、Zr、Ti、Fe、Cr、Al、P和Zn组成的组中的至少一种，余量由Cu和不可避免的杂质形成，其中，该铜合金伸展材中分散了有助于被切削性提高的硫化物，该硫化物的平均直径为0.1μm～10μm，该硫化物的面积率为0.1%～10%；且所述铜合金伸展材的拉伸强度为500MPa以上、导电率为25%IACS以上。
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公开(公告)号：CN102482767B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201080038093.7
申请日：2010-08-26
申请人： 古河电气工业株式会社
CPC分类号： C22F1/08 , C23C14/3414
摘要： 本发明涉及一种溅射靶用铜材料及其制造方法，该溅射靶用铜材料由纯度为99.99％以上的高纯度铜构成，进行溅射的面中的{111}面、{200}面、{220}面和{311}面的各自的X射线衍射的峰强度即I{111}、I{200}、I{220}和I{311}满足下式(1)，且晶粒的粒径为100～200μm。I{200}/(I{111}+I{200}+I{220}+I{311})≥0.4？？？？…(1)。
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公开(公告)号：CN102482767A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080038093.7
申请日：2010-08-26
申请人： 古河电气工业株式会社
CPC分类号： C22F1/08 , C23C14/3414
摘要： 本发明涉及一种溅射靶用铜材料及其制造方法，该溅射靶用铜材料由纯度为99.99％以上的高纯度铜构成，进行溅射的面中的{111}面、{200}面、{220}面和{311}面的各自的X射线衍射的峰强度即I{111}、I{200}、I{220}和I{311}满足下式(1)，且晶粒的粒径为100～200μm。I{200}/(I{111}+I{200}+I{220}+I{311})≥0.4 …(1)。
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