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    电解铜箔、锂离子二次电池用负极以及锂离子二次电池
    1.
    发明公开
    电解铜箔、锂离子二次电池用负极以及锂离子二次电池 审中-实审

    公开(公告)号：CN116018429A

    公开(公告)日：2023-04-25

    申请号：CN202180054656.X

    申请日：2021-08-26

    申请人： 古河电气工业株式会社

    发明人： 高泽亮二

    IPC分类号： C25D1/00

    摘要： 提供一种不易发生断裂的电解铜箔。在将电解铜箔的箔厚设为t(单位为μm)、将相对于电解析出结束面沿着长度方向以入射角60°照射光而测定的电解析出结束面的光泽度设为Gs(单位为％)、将沿着长度方向拉伸而测定的伸长率设为E(单位为％)时，箔厚t为10以上且20以下，光泽度Gs除以箔厚t的Gs/t为10以上且40以下，伸长率E除以箔厚t的E/t为0.9以上且1.8以下。

    粗糙化处理铜箔、覆铜层叠板以及印刷布线板
    3.
    发明公开
    粗糙化处理铜箔、覆铜层叠板以及印刷布线板 审中-实审

    公开(公告)号：CN116670336A

    公开(公告)日：2023-08-29

    申请号：CN202180079134.5

    申请日：2021-11-15

    申请人： 古河电气工业株式会社

    发明人： 片平周介 ,  筱崎淳 ,  笠原正靖 ,  佐野惇郎 ,  高泽亮二 ,  中崎竜介

    IPC分类号： C25D5/16

    摘要： 本发明提供一种粗糙化处理铜箔，其能够制造与树脂的密合性优异、传输损耗小、并且不易发生由迁移引起的短路的印刷布线板等。粗糙化处理铜箔在至少一个面上具有形成有多个粗糙化粒子(1)的粗糙化处理面，在粗糙化粒子(1)的表面形成有凹凸。另外，使用三维白色光干涉型显微镜测定的粗糙化处理面的界面的展开面积率Sdr为1000％以上且5000％以下，并且粗糙化处理面的算术平均粗糙度Sa为0.04μm以上且0.6μm以下。