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公开(公告)号:CN114373691A
公开(公告)日:2022-04-19
申请号:CN202110710654.3
申请日:2021-06-25
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明实施例涉及晶片级测试方法及装置。本发明实施例提供一种用于测试半导体装置的方法及系统。所述方法包含:提供具有输入端子及输出端子的受测试装置DUT;在第一周期期间将具有第一电压电平的电压施加到所述DUT的所述输入端子;在所述第一周期之后的第二周期期间将应力信号施加到所述DUT的所述输入端子;响应于所述DUT的所述输出端子处的所述应力信号获得输出信号;及将所述输出信号与所述应力信号进行比较。所述应力信号包含多个序列,每一序列具有斜升阶段及斜降阶段。所述应力信号具有第二电压电平及第三电压电平。
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公开(公告)号:CN110888032B
公开(公告)日:2024-11-01
申请号:CN201910751987.3
申请日:2019-08-15
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 本发明实施例涉及晶片级测试方法和系统。本公开提供用于测试半导体装置的方法和系统。所述方法包含以下操作。提供上面形成有IC的晶片。通过使所述IC的电压在第一周期期间升高到第一电压电平来为所述IC供能。将应力信号施加到所述IC。在第一周期之后的第二周期期间,所述应力信号包含多个序列。所述序列中的每一者具有斜升阶段和斜降阶段。所述应力信号致使所述IC的所述电压在第二电压电平与第三电压电平之间变动。在施加所述应力信号之后,确定所述IC是否符合测试准则。
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公开(公告)号:CN110888032A
公开(公告)日:2020-03-17
申请号:CN201910751987.3
申请日:2019-08-15
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 本发明实施例涉及晶片级测试方法和系统。本公开提供用于测试半导体装置的方法和系统。所述方法包含以下操作。提供上面形成有IC的晶片。通过使所述IC的电压在第一周期期间升高到第一电压电平来为所述IC供能。将应力信号施加到所述IC。在第一周期之后的第二周期期间,所述应力信号包含多个序列。所述序列中的每一者具有斜升阶段和斜降阶段。所述应力信号致使所述IC的所述电压在第二电压电平与第三电压电平之间变动。在施加所述应力信号之后,确定所述IC是否符合测试准则。
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