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公开(公告)号：CN117518719A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202311303826.0
申请日：2023-10-10
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/004
Abstract: 一种光阻组成物、形成光阻组成物的方法及极紫外线微影方法。光阻组成物包含一混合物。该混合物包含一第一感光材料及一第二感光材料。该第一感光材料为一6‑Sn氧化物簇、一12‑Sn氧化物簇或它们的一组合。该第二感光材料具有与该第一感光材料的一组成物不同的一组成物。
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