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公开(公告)号：CN116954037A
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202311084969.7
申请日：2023-08-25
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种曝光机，包括：曝光装置，所述曝光装置包括：两个曝光组件，两个所述曝光组件沿第一方向相对设置，两个所述曝光组件对料带同步进行双面曝光；传输装置，所述传输装置包括：至少两个第一滚轮，至少两个所述第一滚轮沿高度方向间隔设置且分别位于两个所述曝光组件的上下两侧，以用于输送所述料带在两个所述曝光组件之间沿高度方向运动。其中，料带在两个曝光组件之间沿高度方向运动，避免料带悬空因重力变形，导致曝光组件离焦；两个曝光组件对料带在第一方向的两个侧面进行双面同步曝光。
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公开(公告)号：CN116893581A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202310889583.7
申请日：2023-07-19
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种曝光机，包括：壳体、驱动系统、吸附系统、曝光系统和数据处理系统，壳体上设有容纳空间；驱动系统设于容纳空间内；吸附系统用于吸附基板，吸附系统设于驱动系统的自由端；曝光系统与基板相对设置，曝光系统设于驱动系统上；数据处理系统与驱动系统连接，数据处理系统用于控制驱动系统上吸附系统和曝光系统的相对位置以实现对于基板的曝光处理。这样，在曝光机的工作过程中，能够直接通过数据处理系统控制驱动系统的使用以实现对于基板曝光处理，能够在曝光机的结构中节省掩膜板的设置，从而简化曝光机的结构，降低曝光机的生产成本。
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公开(公告)号：CN116430684A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310436374.7
申请日：2023-04-19
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种曝光设备，曝光设备包括：工作台；曝光支架，曝光支架可移动地安装于工作台，多个上曝光头组件和多个下曝光头组件，多个上曝光头组件安装于上支臂，多个下曝光头组件安装于下支臂；标定支撑架，标定支撑架安装于工作台且部分位于上曝光头组件和下曝光头组件之间；水平标定组件，水平标定组件安装于标定支撑架，多个上曝光头组件和多个下曝光头组件在水平标定组件处校准多个上曝光头组件相对位置以及多个下曝光头组件相对位置；竖直标定组件，竖直标定组件安装于标定支撑架，竖直标定组件用于校准上曝光头组件和下曝光头组件之间的相对位置。根据本发明实施例的曝光设备，具有标定准确、操作方便、有利于实现自动化等优点。
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公开(公告)号：CN115327863A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202211062192.X
申请日：2022-08-31
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种吸盘平面度调节装置和吸盘平面度调节装置的控制方法，所述吸盘平面度调节装置包括：安装座；至少一个测距模块，所述测距模块位于吸盘的上方，用于检测所述吸盘至少三个检测点在所述吸盘的轴向上的台面高度；控制模块，所述控制模块与所述测距模块连接，用于根据至少三个所述检测点在所述吸盘的轴向上的台面高度获得高度差；高度调节模块，所述高度调节模块设于所述安装座上且与所述吸盘的背面、所述控制模块连接，用于根据所述高度差调节至少三个所述检测点在所述吸盘的轴向上的台面高度。采用该吸盘平面度调节装置可以实现自动调节吸盘的平面度，提高工作效率。
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公开(公告)号：CN115113492A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210808510.6
申请日：2022-07-11
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种卷对卷曝光机和用于卷对卷曝光机的控制方法，卷对卷曝光机包括：用于提供料带的放料装置和用于卷收料带的收料装置；曝光装置，曝光装置位于放料装置与收料装置之间，曝光装置沿第一方向依次设置有对位组件、曝光机构和多个精密运动平台；曝光机构包括两个曝光组件，两个曝光组件沿与第一方向垂直的第二方向相对设置，用于在料带悬空于两个曝光组件之间时，对料带同步进行双面曝光；多个精密运动平台交替夹持料带，以沿第一方向匀速拉动料带，并根据对位孔位置信息对料带进行纠偏，以校准料带的对位孔。采用该卷对卷曝光机可以实现连续不断地对料带的双面同时进行曝光，提高曝光效率，解决曝光产品双面对位精度的问题。
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公开(公告)号：CN116989666A
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN202310953839.6
申请日：2023-07-28
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
IPC分类号： G01B9/02055 , G01B9/02056 , G01B9/02061
摘要： 本发明公开了一种激光干涉仪系统的装调及误差补偿方法，包括：工件台组件、干涉仪组件和控制器，执行以下步骤：控制工件台组件和设于工件台组件上的测距仪调整工件台吸盘的旋转角及平面度；将标定板放置在工件台吸盘上，且根据光栅尺坐标与标定板坐标差补偿工件台组件的机械误差；根据光栅尺反馈控制工件台纵轴和横轴的移动，以对激光干涉仪组件光路准直；根据光栅尺的反馈控制工件台纵轴和横轴移动，通过干涉仪检测干涉仪组件的平面反射镜在工件台组件的安装状态，并调整平面镜的俯仰和偏摆角度；控制工件台光栅尺原点与干涉仪原点一致；将工件台位置反馈由光栅尺反馈切换为干涉仪，通过标定板补偿干涉仪组件的安装残余误差。
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公开(公告)号：CN116774526A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202310524163.9
申请日：2023-05-09
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及直写光刻技术领域，具体公开了一种直写曝光机的吸盘系统，包括用于吸附待加工面板的吸附模块，另外还包括顶升模块、支撑组件以及定位模块。本发明通过顶升模块将面板平稳放置到吸附模块上吸附面，定位模块将面板定位到吸附模块的中央位置，从而通过吸附模块支撑待加工面板完成直写光刻机的曝光操作，由于是可整体做升降运动的顶升模块，无需多个电机分别控制顶升动作，解决了现有第六代TFT‑LCD生产线的直写曝光机的吸盘顶升大多采用多个电机控制顶升板，存在易造成面板破碎的问题，从而提高了实用性。
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公开(公告)号：CN118466129A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410677244.7
申请日：2024-05-29
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
摘要： 本发明公开一种显示面板边缘曝光打码的设备及方法，包括基座和沿基座长度方向轴向运动的Y轴运动平台，沿基座长度方向设置有上料位，具有可悬浮支撑玻璃基板的气浮系统；边缘曝光位，具有对玻璃基板边缘进行曝光的边曝系统，边曝系统包括X1轴驱动组件和边曝组件，X1轴驱动组件驱动边曝组件沿基座的宽度方向作直线运动；打码曝光位，具有对玻璃基板进行编码的打码系统，打码系统包括X2轴驱动组件和打码组件，X2轴驱动组件驱动打码组件沿基座的宽度方向作直线运动；以及下料位，通过Y轴运动平台输送玻璃基板从上料位至下料位。通过气浮系统实现玻璃面板在曝光过程中悬浮支撑，同时玻璃面板可90°旋转，实现玻璃面板无摩擦运动定位，提高了生产质量。
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公开(公告)号：CN220795641U
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202322320777.3
申请日：2023-08-25
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本实用新型公开了一种曝光机，包括：曝光装置，所述曝光装置包括：两个曝光组件，两个所述曝光组件沿第一方向相对设置，两个所述曝光组件对料带同步进行双面曝光；传输装置，所述传输装置包括：至少两个第一滚轮，至少两个所述第一滚轮沿高度方向间隔设置且分别位于两个所述曝光组件的上下两侧，以用于输送所述料带在两个所述曝光组件之间沿高度方向运动。其中，料带在两个曝光组件之间沿高度方向运动，避免料带悬空因重力变形，导致曝光组件离焦；两个曝光组件对料带在第一方向的两个侧面进行双面同步曝光。
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