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公开(公告)号：CN111694226B
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN202010449731.X
申请日：2020-05-25
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提出了一种水平度测量方法和直接式成像设备，该方法包括：控制直接式成像设备的移动平台沿竖直方向移动，并在移动平台的原点位置处聚焦成清晰图像，获取移动平台对应所述原点位置的第一焦面高度值；控制移动平台在与竖直方向垂直的水平面移动至少一个测量位置，并在移动平台的至少一个测量位置处聚焦成清晰图像时，获取移动平台对应每个测量位置的第二焦面高度值；根据第二焦面高度值与第一焦面高度值确定所述移动平台的水平度。本发明的水平度测量方法通过控制移动平台运动，获取移动平台竖直方向移动距离，确定第一焦面高度和第二焦面高度，来实现移动平台水平度的测量。
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公开(公告)号：CN111694226A
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN202010449731.X
申请日：2020-05-25
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提出了一种水平度测量方法和直接式成像设备，该方法包括：控制直接式成像设备的移动平台沿竖直方向移动，并在移动平台的原点位置处聚焦成清晰图像，获取移动平台对应所述原点位置的第一焦面高度值；控制移动平台在与竖直方向垂直的水平面移动至少一个测量位置，并在移动平台的至少一个测量位置处聚焦成清晰图像时，获取移动平台对应每个测量位置的第二焦面高度值；根据第二焦面高度值与第一焦面高度值确定所述移动平台的水平度。本发明的水平度测量方法通过控制移动平台运动，获取移动平台竖直方向移动距离，确定第一焦面高度和第二焦面高度，来实现移动平台水平度的测量。
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公开(公告)号：CN116989666A
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN202310953839.6
申请日：2023-07-28
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
IPC分类号： G01B9/02055 , G01B9/02056 , G01B9/02061
摘要： 本发明公开了一种激光干涉仪系统的装调及误差补偿方法，包括：工件台组件、干涉仪组件和控制器，执行以下步骤：控制工件台组件和设于工件台组件上的测距仪调整工件台吸盘的旋转角及平面度；将标定板放置在工件台吸盘上，且根据光栅尺坐标与标定板坐标差补偿工件台组件的机械误差；根据光栅尺反馈控制工件台纵轴和横轴的移动，以对激光干涉仪组件光路准直；根据光栅尺的反馈控制工件台纵轴和横轴移动，通过干涉仪检测干涉仪组件的平面反射镜在工件台组件的安装状态，并调整平面镜的俯仰和偏摆角度；控制工件台光栅尺原点与干涉仪原点一致；将工件台位置反馈由光栅尺反馈切换为干涉仪，通过标定板补偿干涉仪组件的安装残余误差。
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公开(公告)号：CN109581824B
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN201811417241.0
申请日：2018-11-26
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
发明人： 李智
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种直写式光刻机光均匀性标定方法及系统，属于光刻机光学调制技术领域，包括其用于对图形发生器与光路系统以及移动平台之间的光均匀性误差进行标定，光路系统的光路上布置CCD相机，包括如下步骤：制作用于DMD曝光的单位图形，该单位图形包括标尺图和全白图；对单位图形进行曝光处理，得到初始曝光图形；对初始曝光图形进行整合处理，得到光均匀性灰度模板；利用所述光均匀性灰度模板实现投放任意单位图。本发明通过标定光均匀性灰度模板，并将其加载到曝光系统中，使得最终曝光的图形的光均匀性得到了明显的改善。
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