一种晶圆级、高质量的氮化硼/石墨烯异质结薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN112159970A

    公开(公告)日:2021-01-01

    申请号:CN202011087287.8

    申请日:2020-10-12

    IPC分类号: C23C16/26 C23C16/34 C23C16/01

    摘要: 本发明公开了一种晶圆级、高质量的氮化硼/石墨烯异质结薄膜的制备方法;它的制备方法为:步骤一:通过表面催化生长方法,在金属表面制备出连续的六方氮化硼薄膜;步骤二:通过等离子体刻蚀技术,将金属箔片一侧表面处的六方氮化硼薄膜除去;步骤三:将该金属箔片折叠为袋状进行密封;步骤四:将该金属袋置于管式炉中,升高到一定温度并通入高浓度含碳气体,实现碳原子由外表面向内表面的扩散,并在降温过程中析出,在金属与六方氮化硼界面处生成石墨烯;步骤五:将该金属袋剪开并水平铺开,转移至目标衬底表面,即可得到六方氮化硼/石墨烯垂直异质结薄膜。本发明的制备工艺适用性高,工艺参数窗口较宽;相比传统通过外延或扩散方式来制备异质结的方法,本方法有效避免原子间的掺杂现象,同时可获得晶圆级,高质量的垂直氮化硼/石墨烯异质结薄膜。

    一种晶圆级、高质量的氮化硼/石墨烯异质结薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN112159970B

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202011087287.8

    申请日:2020-10-12

    IPC分类号: C23C16/26 C23C16/34 C23C16/01

    摘要: 本发明公开了一种晶圆级、高质量的氮化硼/石墨烯异质结薄膜的制备方法;它的制备方法为:步骤一:通过表面催化生长方法,在金属表面制备出连续的六方氮化硼薄膜;步骤二:通过等离子体刻蚀技术,将金属箔片一侧表面处的六方氮化硼薄膜除去;步骤三:将该金属箔片折叠为袋状进行密封;步骤四:将该金属袋置于管式炉中,升高到一定温度并通入高浓度含碳气体,实现碳原子由外表面向内表面的扩散,并在降温过程中析出,在金属与六方氮化硼界面处生成石墨烯;步骤五:将该金属袋剪开并水平铺开,转移至目标衬底表面,即可得到六方氮化硼/石墨烯垂直异质结薄膜。本发明的制备工艺适用性高,工艺参数窗口较宽;相比传统通过外延或扩散方式来制备异质结的方法,本方法有效避免原子间的掺杂现象,同时可获得晶圆级,高质量的垂直氮化硼/石墨烯异质结薄膜。

    一种高阻抗高衰减背衬材料的制备方法

    公开(公告)号:CN104194275B

    公开(公告)日:2016-03-02

    申请号:CN201410464380.4

    申请日:2014-09-12

    摘要: 一种高阻抗高衰减背衬材料的制备方法,属于材料技术领域。本发明利用CVD法,以乙醇作为碳源,通过探究生长温度、生长时间、载气的流量及退火速度等因素,以泡沫镍为催化剂及模板载体,生长出大尺寸、具有孔状多级结构的三维石墨烯。在石墨烯骨架中填充钨粉和环氧树脂复合物,利用三维石墨烯的多级孔状结构和良好的电学传质性能,改善传统背衬材料钨粉和环氧树脂复合物的吸声性能,制备出符合换能器实际应用的高阻抗高衰减的背衬材料。由于石墨烯三维连续骨架的引入,该材料具有较好的电导率和较大的共轭体系,电子可以在期间自由运动,可将声能转化为电能最终转化为热量散发掉,从而该材料具有很好的吸声效果。

    一种高阻抗高衰减背衬材料的制备方法

    公开(公告)号:CN104194275A

    公开(公告)日:2014-12-10

    申请号:CN201410464380.4

    申请日:2014-09-12

    摘要: 一种高阻抗高衰减背衬材料的制备方法,属于材料技术领域。本发明利用CVD法,以乙醇作为碳源,通过探究生长温度、生长时间、载气的流量及退火速度等因素,以泡沫镍为催化剂及模板载体,生长出大尺寸、具有孔状多级结构的三维石墨烯。在石墨烯骨架中填充钨粉和环氧树脂复合物,利用三维石墨烯的多级孔状结构和良好的电学传质性能,改善传统背衬材料钨粉和环氧树脂复合物的吸声性能,制备出符合换能器实际应用的高阻抗高衰减的背衬材料。由于石墨烯三维连续骨架的引入,该材料具有较好的电导率和较大的共轭体系,电子可以在期间自由运动,可将声能转化为电能最终转化为热量散发掉,从而该材料具有很好的吸声效果。