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公开(公告)号：CN106164975B
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201480077836.X
申请日：2014-11-21
Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所 , 株式会社安川电机 , 株式会社机器人的生物学研究所
Abstract: 一种规程图制作装置，包括：初始符号配置部(12)，配置表示容纳被检体的容器的初始状态的初始符号；顺序线配置部(13)，从所述初始符起在沿第一轴的方向上配置表示对所述容器的处理顺序的顺序线；处理符号配置部(15)，沿着所述顺序线配置表示对所述容器进行的处理的处理符号，在对一个容器进行的处理有多个的情况下，沿着所述顺序线排列配置表示该处理的所述处理符号；以及分离部(22)，使针对不同容器的所述初始符号、所述顺序线以及所述处理符号的配置在沿着与所述第一轴交叉的第二轴的方向上分开。
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公开(公告)号：CN105630005A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201510818930.2
申请日：2015-11-23
Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所 , 株式会社安川电机
CPC classification number: B25J9/1628 , B25J9/1656 , B25J9/1679 , G01N35/0092 , G05B2219/40113 , G05B2219/45092
Abstract: 本发明提供动作指令生成装置(1)，其基于至少包含表示对收容有处理对象的容器的处理的处理记号的协议图，生成使至少包含机器人(3)的处理系统(200)进行的作业的集合体即动作指令，具有：处理作业生成部(14)，其基于所述处理记号，生成使所述处理系统在作业场所进行对所述容器的处理的作业；及移送作业生成部(15)，其在所述处理记号表示的处理至少不是针对同一容器的处理的情况下，生成使所述处理系统在进行了所述处理记号表示的处理之后将所述容器从所述作业场所向退避场所移送的作业。
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公开(公告)号：CN105630005B
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201510818930.2
申请日：2015-11-23
Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所 , 株式会社安川电机 , 株式会社机器人的生物学研究所
Abstract: 本发明提供动作指令生成装置(1)，其基于至少包含表示对收容有处理对象的容器的处理的处理记号的协议图，生成使至少包含机器人(3)的处理系统(200)进行的作业的集合体即动作指令，具有：处理作业生成部(14)，其基于所述处理记号，生成使所述处理系统在作业场所进行对所述容器的处理的作业；及移送作业生成部(15)，其在所述处理记号表示的处理至少不是针对同一容器的处理的情况下，生成使所述处理系统在进行了所述处理记号表示的处理之后将所述容器从所述作业场所向退避场所移送的作业。
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公开(公告)号：CN106164975A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201480077836.X
申请日：2014-11-21
Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所 , 株式会社安川电机
Abstract: 一种规程图制作装置，包括：初始符号配置部(12)，配置表示容纳被检体的容器的初始状态的初始符号；顺序线配置部(13)，从所述初始符起在沿第一轴的方向上配置表示对所述容器的处理顺序的顺序线；处理符号配置部(15)，沿着所述顺序线配置表示对所述容器进行的处理的处理符号，在对一个容器进行的处理有多个的情况下，沿着所述顺序线排列配置表示该处理的所述处理符号；以及分离部(22)，使针对不同容器的所述初始符号、所述顺序线以及所述处理符号的配置在沿着与所述第一轴交叉的第二轴的方向上分开。
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公开(公告)号：CN105630006B
公开(公告)日：2019-02-19
申请号：CN201510821392.2
申请日：2015-11-23
Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所 , 株式会社安川电机 , 株式会社机器人的生物学研究所
IPC: G05D3/12
Abstract: 本发明提供动作指令生成装置(1)，具有：执行顺序决定部(21)，其基于具有表示对处理对象的处理的多个处理记号(103)的协议图上的所述多个处理记号各自的配置位置，来决定所述多个处理记号的执行顺序；及处理记号转换部(16)，其以按照所述执行顺序决定部决定的执行顺序来执行所述多个处理记号表示的处理的方式，将所述多个处理记号分别转换成至少包含机器人(3)的处理系统(200)的作业。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105630006A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201510821392.2
申请日：2015-11-23
Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所 , 株式会社安川电机
IPC: G05D3/12
CPC classification number: B25J9/1602 , B25J9/1612 , B25J9/1656 , B25J9/1661 , G01N35/0092 , G05B2219/36025 , G05B2219/40113 , G05B2219/45092 , Y10S901/02 , G05D3/12
Abstract: 本发明提供动作指令生成装置(1)，具有：执行顺序决定部(21)，其基于具有表示对处理对象的处理的多个处理记号(103)的协议图上的所述多个处理记号各自的配置位置，来决定所述多个处理记号的执行顺序；及处理记号转换部(16)，其以按照所述执行顺序决定部决定的执行顺序来执行所述多个处理记号表示的处理的方式，将所述多个处理记号分别转换成至少包含机器人(3)的处理系统(200)的作业。
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公开(公告)号：CN113056436B
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN201980075612.8
申请日：2019-11-11
Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所
Abstract: 本发明对液体操作装置提高了液体尤其是液滴的控制性能以及提高了制造效率。一种液体操作装置包括：以具有柔性的方式形成为片状或膜状的基板(1、11)，配置于基板的表面(1b、11b)上的多个电极(2)以及以覆盖多个电极的方式配置于基板的表面上的绝缘膜(3)；利用通过对至少一个电极施加电压而产生的静电力，使液体(L)在绝缘膜的表面(3b)上移动。在该液体操作装置中，绝缘膜具有多个凹坑(4)，该多个凹坑位于与多个电极分别对应的位置，并且以在从绝缘膜的表面朝向背面(3a)的凹方向上凹陷的方式弯曲，各电极具有凹坑对应部(5)，该凹坑对应部跟位于与各电极对应的位置的凹坑一起以在凹方向上凹陷的方式弯曲。
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公开(公告)号：CN113474080A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202080016281.3
申请日：2020-02-07
Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所
Abstract: 在本发明的一种开放空间型液体操作装置中，能够有效地分离液体尤其是液滴。本发明的开放空间型液体操作装置具备基板(1、11、21)、配置于所述基板的表面(1b、11b、21b)上的至少三个电极(2、12、13、22、23)、以覆盖所述至少三个电极的方式配置于所述基板的表面上的绝缘膜(3、14、24)，其形成有从所述绝缘膜的表面(3b、14b、24b)朝向所述绝缘膜的背面(3a、14a、24a)的方向凹陷的槽(4、15、25)，所述槽以跨越所述至少三个电极的方式延伸；利用通过使得针对电极(2、12、13、22、23)施加的电压变化而产生的静电力的变化，在绝缘膜(3、14、24)的表面(3b、14b、24b)上控制液体(L)。
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公开(公告)号：CN113474080B
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202080016281.3
申请日：2020-02-07
Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所
Abstract: 在本发明的一种开放空间型液体操作装置中，能够有效地分离液体尤其是液滴。本发明的开放空间型液体操作装置具备基板(1、11、21)、配置于所述基板的表面(1b、11b、21b)上的至少三个电极(2、12、13、22、23)、以覆盖所述至少三个电极的方式配置于所述基板的表面上的绝缘膜(3、14、24)，其形成有从所述绝缘膜的表面(3b、14b、24b)朝向所述绝缘膜的背面(3a、14a、24a)的方向凹陷的槽(4、15、25)，所述槽以跨越所述至少三个电极的方式延伸；利用通过使得针对电极(2、12、13、22、23)施加的电压变化而产生的静电力的变化，在绝缘膜(3、14、24)的表面(3b、14b、24b)上控制液体(L)。
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公开(公告)号：CN113056436A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN201980075612.8
申请日：2019-11-11
Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所
Abstract: 本发明对液体操作装置提高了液体尤其是液滴的控制性能以及提高了制造效率。一种液体操作装置包括：以具有柔性的方式形成为片状或膜状的基板(1、11)，配置于基板的表面(1b、11b)上的多个电极(2)以及以覆盖多个电极的方式配置于基板的表面上的绝缘膜(3)；利用通过对至少一个电极施加电压而产生的静电力，使液体(L)在绝缘膜的表面(3b)上移动。在该液体操作装置中，绝缘膜具有多个凹坑(4)，该多个凹坑位于与多个电极分别对应的位置，并且以在从绝缘膜的表面朝向背面(3a)的凹方向上凹陷的方式弯曲，各电极具有凹坑对应部(5)，该凹坑对应部跟位于与各电极对应的位置的凹坑一起以在凹方向上凹陷的方式弯曲。
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