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公开(公告)号：CN104451542A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201410729310.7
申请日：2014-12-05
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
CPC分类号： C23C14/0623 , C23C14/0036 , C23C14/0617 , C23C28/04
摘要： 本发明公开了一种耐高温高硬度低摩擦系数的多层涂层及其制备方法，所述纳米多层涂层由多个CrAlN纳米层和WS2纳米层构成,各CrAlN纳米层和WS2纳米层通过多弧离子镀的方式交替溅射沉积积在基体上形成纳米量级多层结构，所述纳米多层涂层的总厚度约为2.0-4.5μm；每一CrAlN纳米层的厚度约为5.0nm；每一WS2纳米层的厚度为0.2～1.4nm；所述纳米多层涂层的制备方法为首先将基体表面抛光处理，经超声波清洗和离子清洗后，再采用反应溅射法在基体上交替溅射CrAlN纳米层和WS2纳米层。本发明用于高温环境且要求高硬度、又具有高耐摩擦性能的服役场合，其制备方法具有工艺简单、沉积速度快、生产效率高、生产成本低的特点。
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公开(公告)号：CN104404455A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201410730485.X
申请日：2014-12-05
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
IPC分类号： C23C14/32
摘要： 本发明公开了一种真空离子镀膜设备的新型磁场结构，包括靶座、磁铁座和内设的冷却装置，所述靶座顶端设有用于容纳固定靶材的靶材凹槽，靶材两端均设有突出辅助阳极，靶材底部安装于阴极体凹槽内；所述阴极体与铝板之间设有永磁体，且永磁体紧贴于铝板顶部表面；靶座底部通过螺纹与支架旋接；所述铝板下方设置一带有线圈护罩并由线圈骨架支撑的电磁线圈；靶座底部通过螺纹与支架旋接；所述冷却装置为固定与弧离子镀膜装置中心的水道，其中设置了电磁线圈和永磁体或碳素钢共同对弧靶表面磁场产生作用，调整极为方便，产生的磁场形状较好，可以有效提高靶材烧蚀效率，改善成膜质量。
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公开(公告)号：CN104404455B
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201410730485.X
申请日：2014-12-05
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
IPC分类号： C23C14/32
摘要： 本发明公开了一种真空离子镀膜设备的新型磁场结构，包括靶座、磁铁座和内设的冷却装置，所述靶座顶端设有用于容纳固定靶材的靶材凹槽，靶材两端均设有突出辅助阳极，靶材底部安装于阴极体凹槽内；所述阴极体与铝板之间设有永磁体，且永磁体紧贴于铝板顶部表面；靶座底部通过螺纹与支架旋接；所述铝板下方设置一带有线圈护罩并由线圈骨架支撑的电磁线圈；所述冷却装置为固定于弧离子镀膜装置中心的水道，其中设置了电磁线圈和永磁体或碳素钢共同对弧靶表面磁场产生作用，调整极为方便，产生的磁场形状较好，可以有效提高靶材烧蚀效率，改善成膜质量。
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公开(公告)号：CN105441889A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201510966434.1
申请日：2015-12-22
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
CPC分类号： C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/3452
摘要： 本发明提供了一种离子源磁场分布结构，包括外磁钢、阳极、靶材、内磁钢、磁钢座、阴极和靶座构成，所述外磁钢及内磁钢安装于磁钢座内部，整体安装于靶座上，所述靶材安装于磁钢座上，由阴极充入冷却水冷却磁钢及靶材，同时通入负电压，由阳极通入正电压且与阴极绝缘，同时通入气体，阴极为纯铁或纯石墨。本发明气体由内外阴极间的狭缝通过时，迅速被聚在拱形磁场中间并被离化，通过这样的方式，实现离化率高的同时阴极极少溅射的目的，并具有通用性好，使用安全、方便和成本较低的显著有益效果。
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公开(公告)号：CN205590789U
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201521073448.2
申请日：2015-12-22
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
摘要： 本实用新型提供了一种离子源磁场分布结构，包括外磁钢、阳极、靶材、内磁钢、磁钢座、阴极和靶座构成，所述外磁钢及内磁钢安装于磁钢座内部，整体安装于靶座上，所述靶材安装于磁钢座上，由阴极充入冷却水冷却磁钢及靶材，同时通入负电压，由阳极通入正电压且与阴极绝缘，同时通入气体，阴极为纯铁或纯石墨。本实用新型气体由内外阴极间的狭缝通过时，迅速被聚在拱形磁场中间并被离化，通过这样的方式，实现离化率高的同时阴极极少溅射的目的，并具有通用性好，使用安全、方便和成本较低的显著有益效果。
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公开(公告)号：CN205443440U
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201521109816.4
申请日：2015-12-29
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
IPC分类号： C23C14/54
摘要： 本实用新型公开了一种镀膜机真空室温度自动控制装置，包括镀膜机真空室壳体，所述镀膜机真空室壳体的底端连接有底座，所述镀膜机真空室壳体的内腔中设有一空腔，该空腔中安装有控制器和温度传感器，且温度传感器电连接控制器，所述镀膜机真空室壳体的内腔中由下至上分别设有第一加热器、第二加热器和第三加热器。该镀膜机真空室温度自动控制装置通过在每个第一加热器、第二加热器、第三加热器和转架上都安装有热偶温度检测装置，使得控制器能自动控制加热器的加热效率，从而对工件的不同温度进行调控。
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公开(公告)号：CN204939601U
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201520710802.1
申请日：2015-09-15
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
IPC分类号： C23C14/34
摘要： 本实用新型公开了一种真空镀膜设备电弧阴极翻转机构，包括接线柱，所述接线柱通过接线螺母固定在电弧阴极体上，所述电弧阴极体设置在密封压板上，所述密封压板的一端设有翻转板、紧定螺钉和轨道板，所述翻转板通过紧定螺钉固定在轨道板上，所述密封压板的另一端设有把手、弹簧压紧手柄、电弧阴极体固定板和O型密封圈，所述把手设置在密封压板上，所述弹簧压紧手柄设置在密封压板的最外端，所述电弧阴极体固定板的外边侧设有O型密封圈，所述翻转板上设有圆柱销和轴套，所述轴套设置在圆柱销的外表面，该真空镀膜设备电弧阴极翻转机构设计合理，体积小，且便于加工。
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公开(公告)号：CN204939551U
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201520710595.X
申请日：2015-09-15
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
IPC分类号： C21D9/24
摘要： 本实用新型提供了一种新型带锯条连续热处理加热系统，包括电机、热处理炉体、搅风叶片、引流腔、加热体，所述电机的底部设置有电机架，所述电机架安装于热处理炉体顶部，所述电机连接搅风叶片，所述搅风叶片设于引流腔上部，所述引流腔内安装加热体，所述热处理炉体内并列设置有马弗管托架，所述马弗管托架上设置有马弗管，本实用新型在热处理炉腔体过大或马弗管数量较多的情况下，能够使热处理炉内所有马弗管受热均匀。
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公开(公告)号：CN205263619U
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201521109817.9
申请日：2015-12-29
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
IPC分类号： G05B19/414
摘要： 本实用新型公开了一种工具镀控制系统，包括人机界面单元和主控制器，所述人机界面单元和主控制器双向电连接，所述主控制器的输入端还电性连接有真空计和传感器模块，所述主控制器的输出端分别电性连接有弧靶电源模块、气体流量模块、温度控制模块、驱动控制模块和故障报警器模块，该工具镀控制系统通过设置水流检测传感器、温度检测传感器、限位检测传感器、定位检测传感器和过载检测传感器，使得该控制系统可对生产线上的断水、限位、过载、短路、缺相和无电流等情况进行检测，从而使得断水、限位、过载、短路、缺相和无电流等故障得到解决。
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公开(公告)号：CN205047457U
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201520710801.7
申请日：2015-09-15
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
摘要： 本实用新型提供了一种真空烧结炉冷却风机，包括一号水嘴、O型圈、固定法兰、二号水嘴、轴密封座、磁流体密封组、防尘组装、电机轴、压紧螺母、角接触球轴承构成，所述一号水嘴对O型圈进行水冷，所述二号水嘴对磁流体密封组和角接触球轴承进行水冷，所述磁流体密封组具有良好的密封性能，同时在磁流体密封组的前面设置防尘组装，所述角接触球轴承设有两个且对向安装。本实用新型整体结构简单，外观简洁，通用性好，具有使用安全、便于维护、成本较低的显著效果，同时能够保证真空烧结工艺及性能质量的要求，使冷却风机运行平稳、可靠。
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