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公开(公告)号：CN108411258A
公开(公告)日：2018-08-17
申请号：CN201810528013.4
申请日：2018-05-29
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
CPC分类号： C23C14/32 , C23C14/022 , C23C14/025 , C23C14/0605
摘要： 一种超厚无氢类金刚石薄膜及其制备方法，金属基体上部涂覆Cr粘结层，Cr粘结层上部为C/C多层复合膜，C/C多层复合膜是由软C膜和硬C膜交替沉积构成。制备方法，包括以下步骤：（1）工件预处理；（2）离子清洗；（3）Cr粘结层的制备；（4）C/C多层复合膜的制备。本发明用真空离子镀技术通过控制基体偏压制备了软硬交替的C/C多层膜，各层界面相互匹配，薄膜具有较好的结合力和韧性，高偏压下离子轰击产生的诱导效应导致薄膜中的SP2键向sp3键转变，增强了类金刚石薄膜的耐磨性能。这种同质多层结构，使薄膜的硬度高达40GPa，摩擦系数低于0.15，并具有良好耐久性，因此扩大了类金刚石薄膜工程化应用范围。
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公开(公告)号：CN104404449A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201410730511.9
申请日：2014-12-05
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
IPC分类号： C23C14/22
CPC分类号： C23C14/22
摘要： 本发明公开了真空镀膜设备真空腔室快速冷却系统，包括真空腔室、挡板阀A、冷却装置、挡板阀B、气体降温管道、罗茨泵、冷气充入管道及机械泵,所述真空腔室右侧连接挡板阀A，所述真空腔室通过挡板阀B连接冷却装置，所述冷却装置一端通过气体降温管道与罗茨泵相连，所述罗茨泵一端连接冷气冲入管道，所述冷气冲入管道通过挡板阀连接真空腔室，所述冷气冲入管道下方还安装有机械泵。本发明能实现自动控制快速冷却的目的，并具有通用性好，使用安全、方便和成本低廉的显著有益效果。
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公开(公告)号：CN207193381U
公开(公告)日：2018-04-06
申请号：CN201720926190.9
申请日：2017-07-28
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
摘要： 真空镀膜降温控制系统，真空炉的炉壁上安装真空规和热电偶，真空炉内设有加热器，真空炉下部通过管路连接氮气罐，氮气罐与真空炉之间的管路上设有氮气阀，真空泵通过管路连接真空炉，真空泵与真空炉之间的管路上设有阀门。本实用新型的真空镀膜降温控制系统，通过氮气降温，可以使炉内温度迅速下降，大大提升了真空炉降温的效率，从而提升镀膜整体效率。
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公开(公告)号：CN204369969U
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201420755357.6
申请日：2014-12-05
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
IPC分类号： C23C14/22
摘要： 本实用新型公开了真空镀膜设备真空腔室快速冷却系统，包括真空腔室、挡板阀A、冷却装置、挡板阀B、气体降温管道、罗茨泵、冷气充入管道及机械泵,所述真空腔室右侧连接挡板阀A，所述真空腔室通过挡板阀B连接冷却装置，所述冷却装置一端通过气体降温管道与罗茨泵相连，所述罗茨泵一端连接冷气冲入管道，所述冷气冲入管道通过挡板阀连接真空腔室，所述冷气冲入管道下方还安装有机械泵。本实用新型能实现自动控制快速冷却的目的，并具有通用性好，使用安全、方便和成本低廉的显著有益效果。
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公开(公告)号：CN208218947U
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201820808503.5
申请日：2018-05-29
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
摘要： 一种超厚无氢类金刚石薄膜，金属基体上部涂覆Cr粘结层，Cr粘结层上部为C/C多层复合膜，C/C多层复合膜是由软C膜和硬C膜交替沉积构成。本实用新型用真空离子镀技术通过控制基体偏压制备了软硬交替的C/C多层膜，各层界面相互匹配，薄膜具有较好的结合力和韧性，高偏压下离子轰击产生的诱导效应导致薄膜中的SP2键向sp3键转变，增强了类金刚石薄膜的耐磨性能。这种同质多层结构，使薄膜的硬度高达40GPa，摩擦系数低于0.15，并具有良好耐久性，因此扩大了类金刚石薄膜工程化应用范围。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN205839123U
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201620751949.X
申请日：2016-07-18
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
IPC分类号： C23C14/54
摘要： 本实用新型公开了一种镀膜机真空室恒压自动控制系统，所述PLC控制器包括第一PID控制器、第二PID控制器、D/A模块、A/D模块、第一定位模块和第二定位模块，所述第一PID控制器的输出端与D/A模块的输入端信号连接，所述D/A模块的输出端与质量流量计数器信号连接，所述质量流量计数器与压力控制器电性连接，所述压力控制器与真空规管检测元件的输入端信号连接，所述真空规管检测元件的输出端与A/D模块的输入端信号连接，在抽速恒定的情况下，改变流量计的充气量来恒定某一个压强；在充气量恒定的情况下，改变抽速来恒定某一个压强；针对不同的工具涂层来制定不同的系统。
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公开(公告)号：CN207243979U
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201720917711.4
申请日：2017-07-27
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
IPC分类号： C23C14/00
摘要： 真空镀膜设备主轴结构，主轴安装传动轴承座，传动轴承座内安装滚子轴承，传动轴承座上设有冷却水嘴，冷却水嘴连接传动轴承座内的冷却水通道；主轴上位于传动轴承座上部安装定位座，定位座上部安装转盘座，转盘座顶部安装转盘；主轴上位于传动轴承座下部安装碳刷座，碳刷座上安装碳刷。本实用新型的真空镀膜设备主轴结构，采用高温双列圆锥滚子轴承再加上带水冷的传动轴承座焊接，使此机构的真空室内部可加热至500℃的高温时，主轴机构仍可以连续正常运转，并且此主轴机构可承重500Kg，实现高温、大载荷连续工作；整体结构简单、便于加工、制造；通用性好，使用安全、便于维护、成本较低的显著有益效果。
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公开(公告)号：CN204369975U
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201420755131.6
申请日：2014-12-05
申请人： 大连维钛克科技股份有限公司
IPC分类号： C23C14/35
摘要： 本实用新型公开了一种阴极电弧源，包括溅射靶材、阴极体、永磁铁、可调电磁铁、辅助阳极、冷却水装置，所述溅射靶材与阴极体相接触连接，所述阴极体右侧安装有永磁铁，所述永磁铁一端设有线圈，所述永磁铁右侧设有可调磁铁，所述冷却水装置环绕所述阴极体。多弧离子镀技术是离子镀技术的一种改进方法，它是把弧光放电作为金属蒸发源的表面涂层技术。多弧离子镀蒸发源是由水冷阴极；磁场；引弧电级等组成。本设计通过对多弧离子蒸发源的各结构件改进设计再组合从而达到改善膜层质量、提高弧斑运动稳定性，提高靶材利用率的作用。
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