一种蜂窝盒体式曝光机
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118483877A

    公开(公告)日:2024-08-13

    申请号:CN202410637763.0

    申请日:2024-05-22

    Abstract: 本发明公开一种蜂窝盒体式曝光机,涉及半导体制造技术领域,包括第二平台,所述第二平台的上转动连接有从旋转平台,所述从旋转平台上环形分布有多个用于承载光掩模板的蜂窝盒体,所述从旋转平台的下方具有驱动其旋转的主旋转平台,所述主旋转平台设于升降平台上,并与旋转电机相接,所述升降平台底部具有驱动其上行和下行的升降电机,所述蜂窝盒体包括设于两相对侧的导轨入口和导轨出口,所述蜂窝盒体内设置有电磁对准系统。本发明利用多个蜂窝盒体几何中心不变的特性,通过旋转的方式完成光掩模板的对准,解决了传统机械臂夹带方式的不精准问题,提高了对准精度和准确性,同时大幅减少对准的时间和成本。

    一种美瞳移印钢板旋涂机

    公开(公告)号:CN220759664U

    公开(公告)日:2024-04-12

    申请号:CN202322291547.9

    申请日:2023-08-25

    Abstract: 本实用新型公开了一种美瞳移印钢板旋涂机,涉及美瞳移印钢板旋涂技术领域,包括支撑框,支撑框的内部设置有旋涂机构和调节机构,旋涂机构包括废液缸、两个喷管和两个HeNe激光束反射信号处理器,两个喷管均与支撑框滑动连接,两个HeNe激光束反射信号处理器均与支撑框固定连接。本实用新型通过支撑框、旋涂机构和调节机构之间的配合设置,能够使用范德华力吸盘代替真空装置对移印钢板进行固定,解决在旋涂过程中光刻胶容易滴入真空管道的问题,避免影响对移印钢板的吸附,并且实现了对不同尺寸的方形移印钢板的准确定位,使得旋涂更加均匀,同时可在旋涂完成后直接进行化学去边胶处理,节省工艺,避免涂布不均匀在后续工艺中的影响。

    一种地膜覆盖机
    3.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219877039U

    公开(公告)日:2023-10-24

    申请号:CN202321708577.9

    申请日:2023-07-03

    Abstract: 本实用新型公开一种地膜覆盖机,包括支架,支架底部一端安装有铧式犁,另一端安装有后轮,支架上固接有一对支撑板,两支撑板之间固接有打孔器,支撑板底部固接有切板,切板底面固接有抽拉盒,抽拉盒侧壁固接有连接板,连接板远离抽拉盒的一端安装有第三滚轮,两支撑板底部分别安装有第一滚轮和第二滚轮,第一滚轮和第二滚轮均与切板贴合,第一滚轮上方设有膜辊,膜辊与支撑板转动连接,支架上安装有铰接架,铰接架底部转动连接有压膜辊,支架上固接有空心箱,空心箱内固接有滑动组件,滑动组件底部固接有覆土组件。本实用新型便于调节,提高了适用范围,并且通过覆土组件能够使地膜形成一定供度,提高地膜的通透性。

    一种旋转式湿法刻蚀机
    4.
    实用新型

    公开(公告)号:CN221149947U

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202322584999.6

    申请日:2023-09-22

    Abstract: 本实用新型公开一种旋转式湿法刻蚀机,壳体内的中心固定连接有第一隔板,第一隔板将壳体分隔成刻蚀腔和清洗腔,刻蚀腔与清洗腔通过第一隔板上部开设的第二通孔连通,刻蚀腔中部固定连接有第二隔板,第二隔板将刻蚀腔分隔成工作室与储液室,工作室设置在储液室的上方,工作室内设置有传送装置和刻蚀组件,刻蚀组件内设置有旋转装置,传送装置与壳体的顶面固定连接,第二隔板的顶面中心与刻蚀组件固定连接;清洗腔中部设置有清洗装置。本实用新型通过刻蚀组件改变刻蚀方式,减少了需要注满药液的体积,同时也减少了药液的挥发,有效提高了药液的利用率,并提高了刻蚀的质量。

Patent Agency Ranking