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公开(公告)号:CN103887334B
公开(公告)日:2018-04-17
申请号:CN201310706281.8
申请日:2013-12-19
申请人: 安世有限公司
IPC分类号: H01L29/778 , H01L29/872 , H01L29/423 , H01L21/335 , H01L21/329 , H01L21/28
CPC分类号: H01L29/475 , H01L23/3171 , H01L23/3192 , H01L29/2003 , H01L29/401 , H01L29/42316 , H01L29/778 , H01L29/7786 , H01L29/872 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要: GaN异质结结构具有三层电介质结构。栅电极的底部和中部一起限定了栅脚,并且与两个电介质层相关联。较薄的第一电介质与栅电极底部处的栅极边缘相邻。第二电介质层与传统结构中的层相对应,并且第二电介质层与栅脚的主要部分齐平。
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公开(公告)号:CN103390639B
公开(公告)日:2018-02-23
申请号:CN201310167053.8
申请日:2013-05-08
申请人: 安世有限公司
CPC分类号: H01L29/2003 , H01L21/28575 , H01L29/452 , H01L29/66431
摘要: 本发明公开了一种半导体器件,所述半导体器件包括:衬底(10)、在所述衬底上的至少一个半导体层(12),以及在所述至少一个半导体层上的欧姆接触(20),所述半导体层包括第13族元素氮化物,所述欧姆接触包括在所述至少一个半导体层上的含硅部分(22)以及与所述含硅部分相邻并且在其上方延伸的金属部分(24),所述金属部分包括钛和另一种金属。本发明还公开了一种制造这种半导体器件的方法。
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