光学元件制作方法与用于此的沉积液及光学元件制造装置

    公开(公告)号:CN1299135C

    公开(公告)日:2007-02-07

    申请号:CN03109377.9

    申请日:2003-04-08

    Abstract: 于薄膜的面内、膜厚方向,可容易保持机能性材料的连续浓度阶调的一种光学元件制作方法,及其使用的电沉积液与制造装置。关于使用含有机能性材料的电沉积液,利用光电沉积法或电沉积,于光学元件制作基板上制作光学元件的方法。含有于光学元件制作基板近旁,通过使电沉积液中的机能性材料的浓度变化,含于其中的机能性材料在薄膜厚方向与/或薄膜的面内方向,有浓度阶调的薄膜制作步骤的光学元件制作方法。设置有通过变化pH值,使对于水性溶液的溶解性与分散性降低、有疏水性基与亲水性基,疏水性基的数量为亲水性基与疏水性基总量的30%到80%的范围,含有形成薄膜的高分子材料与机能性材料的电沉积液,以及电沉积或光电沉积的薄膜形成装置,设置有为了使对光学元件制作基板形成电沉积液的流动的液流形成机构的光学元件制造装置。

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