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公开(公告)号：CN105843016B
公开(公告)日：2019-05-14
申请号：CN201510570442.4
申请日：2015-09-09
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G03G15/10
Abstract: 本发明公开一种色调剂调整机构和图像形成装置。所述色调剂调整机构包括：储存部分，其中储存有液体显影剂；供给部分，其使储存在所述储存部分中的液体显影剂以预定的流速流动，以便将液体显影剂供给至显影剂槽；循环部分，其使从所述储存部分排出的液体显影剂以比在所述供给部分中流动的液体显影剂的流速快的流速流动并循环；检测部分，其检测在所述循环部分中流动的液体显影剂的色调剂浓度；以及添加部分，其向储存在所述储存部分中的液体显影剂添加调整液体显影剂的色调剂浓度的调整剂。
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公开(公告)号：CN101093263A
公开(公告)日：2007-12-26
申请号：CN200710084794.4
申请日：2007-02-28
Applicant: 富士施乐株式会社
Abstract: 本发明提供了一种光波导及其制造方法以及光通信模块。该光波导包括：下基板；波导芯，该波导芯形成在所述下基板上；包壳，该包壳被形成为包围所述波导芯的周边；以及上基板，该上基板与所述下基板相对，其中所述波导芯、所述下基板以及所述上基板包围沿所述波导芯延伸的空腔。
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公开(公告)号：CN1380681A
公开(公告)日：2002-11-20
申请号：CN02105336.7
申请日：2002-02-25
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: H01L21/02686 , C23C14/083 , C23C14/58 , H01L21/02565 , H01L21/2022
Abstract: 一种在基底材料上形成结晶半导体薄膜的方法,采用低温及简单的步骤和装置,包含以下步骤:在真空或还原性气氛中,保持温度在不低于25℃和不高于300℃情况下,施加紫外线到基底材料上的非晶质半导体薄膜。一种在其基底材料上形成有结晶半导体薄膜的衬底。一种形成滤色器的衬底和一种使用上述衬底的滤色器。
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公开(公告)号：CN107300905A
公开(公告)日：2017-10-27
申请号：CN201710009661.4
申请日：2017-01-06
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G05B23/02
CPC classification number: G07C5/0841 , G07C5/008 , G07C5/085 , H04L67/12 , H04W4/046 , G05B23/0264 , G05B2219/24065
Abstract: 移动体控制设备和移动体控制方法。提供一种移动体控制装置，该移动体控制装置包括：收集单元，其收集移动体的日期和时间数据、位置数据和第一操作数据；以及控制器，其基于与日期和时间数据以及位置数据相对应的参考操作数据与第一操作数据之间的比较的结果来控制移动体，其中，当事故情况下的第二操作数据与没有事故情况下的第三操作数据之间的差满足预定条件时，基于第三操作数据生成参考操作数据。
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公开(公告)号：CN101093263B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200710084794.4
申请日：2007-02-28
Applicant: 富士施乐株式会社
Abstract: 本发明提供了一种光波导及其制造方法以及光通信模块。该光波导包括：下基板；波导芯，该波导芯形成在所述下基板上；包壳，该包壳被形成为包围所述波导芯的周边；以及上基板，该上基板与所述下基板相对，其中所述波导芯、所述下基板以及所述上基板包围沿所述波导芯延伸的空腔。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101650452B
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN200910004482.7
申请日：2009-03-04
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G02B6/1221 , G02B6/138
Abstract: 本发明提供具有位置识别标记的光波导及其制造方法。所述光波导包括：光通过其传播的芯部；沿着光传播的方向包围芯部的包覆部；以及用于进行位置识别标记的有色树脂，所述光波导具有包括其主面的基本平面状的外表面，并且所述有色树脂嵌入在所述光波导中的在从与所述光波导的主面垂直的方向上观看时与该芯部基本不交叠并且基本不接触该芯部的位置。
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公开(公告)号：CN101650452A
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：CN200910004482.7
申请日：2009-03-04
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G02B6/1221 , G02B6/138
Abstract: 本发明提供具有位置识别标记的光波导及其制造方法。所述光波导包括：光通过其传播的芯部；沿着光传播的方向包围芯部的包覆部；以及用于进行位置识别标记的有色树脂，所述光波导具有包括其主面的基本平面状的外表面，并且所述有色树脂嵌入在所述光波导中的在从与所述光波导的主面垂直的方向上观看时与该芯部基本不交叠并且基本不接触该芯部的位置。
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公开(公告)号：CN1299135C
公开(公告)日：2007-02-07
申请号：CN03109377.9
申请日：2003-04-08
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B82Y20/00 , C09D5/44 , C09D5/448 , C25D1/12 , C25D1/22 , C25D5/08 , C25D5/54 , C25D13/00 , G02F1/065 , G02F2202/36
Abstract: 于薄膜的面内、膜厚方向，可容易保持机能性材料的连续浓度阶调的一种光学元件制作方法，及其使用的电沉积液与制造装置。关于使用含有机能性材料的电沉积液，利用光电沉积法或电沉积，于光学元件制作基板上制作光学元件的方法。含有于光学元件制作基板近旁，通过使电沉积液中的机能性材料的浓度变化，含于其中的机能性材料在薄膜厚方向与/或薄膜的面内方向，有浓度阶调的薄膜制作步骤的光学元件制作方法。设置有通过变化pH值，使对于水性溶液的溶解性与分散性降低、有疏水性基与亲水性基，疏水性基的数量为亲水性基与疏水性基总量的30%到80%的范围，含有形成薄膜的高分子材料与机能性材料的电沉积液，以及电沉积或光电沉积的薄膜形成装置，设置有为了使对光学元件制作基板形成电沉积液的流动的液流形成机构的光学元件制造装置。
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公开(公告)号：CN107364435A
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：CN201611128899.0
申请日：2016-12-09
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: B60T8/172
CPC classification number: G05D1/0088 , G05D1/0221 , G05D2201/02 , G06F17/30241 , G06F17/30598 , G06N99/005 , B60T8/172 , B60T2210/30
Abstract: 操作模型构建系统和操作模型构建方法。一种操作模型构建系统包括：数据获取单元，该数据获取单元获取移动体的操作数据和外部环境数据；关联数据累积单元，该关联数据累积单元累积通过将所述外部环境数据分类为多个项目并且使所述操作数据与相应的项目关联而获得的关联数据；以及操作模型构建单元，该操作模型构建单元基于所述关联数据来构建用于操作所述移动体的多个操作模型。
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公开(公告)号：CN107300915A
公开(公告)日：2017-10-27
申请号：CN201710006592.1
申请日：2017-01-05
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G05D1/02
CPC classification number: G08G1/166 , G08C17/02 , G08G1/162 , G08G1/164 , G08G5/0008 , G08G5/0013 , G08G5/0021 , G08G5/0026 , G08G5/0078 , G08G5/0082 , G08G5/045 , G05D1/0287
Abstract: 碰撞避免系统和方法、信息处理设备和方法。提供一种碰撞避免系统，该碰撞避免系统包括：数据获取单元，其获取第一移动体的第一位置数据和操作数据以及第二移动体的第二位置数据；碰撞范围指定单元，其基于第一位置数据和操作数据，指定第一移动体可能引起碰撞的范围；以及控制指示单元，其基于第二位置数据来确定第二移动体是否存在于所述范围内，并且当确定第二移动体存在于所述范围内时，向第二移动体做出使第二移动体移出范围的控制指示。
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