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公开(公告)号：CN110537148B
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN201880026076.8
申请日：2018-04-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种Z‑因子良好且能够形成图案崩塌得到抑制的图案的EUV光用感光性组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法。EUV光用感光性组合物含有规定的树脂及光产酸剂，或者含有具有含光产酸基团的重复单元的规定的树脂，且满足要件1和要件2。要件1：由式(1)求出的A值为0.14以上。式(1)：A＝([H]×0.04+[C]×1.0+[N]×2.1+[O]×3.6+[F]×5.6+[S]×1.5+[I]×39.5)/([H]×1+[C]×12+[N]×14+[O]×16+[F]×19+[S]×32+[I]×127)。要件2：EUV光用感光性组合物中的固体成分浓度为2.5质量％以下。
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公开(公告)号：CN109643063B
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN201780052943.0
申请日：2017-08-23
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种含有树脂和通过活性光线或放射线的照射产生酸的化合物的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。其中，上述树脂包含由下述通式(I‑1)表示的重复单元(a)和具有通过酸的作用包含单环的保护基脱离产生极性基的基团的重复单元(b)。式中，R11及R12分别独立地表示氢原子或烷基。R13表示氢原子或烷基、或者是单键或亚烷基，且与式中的L或Ar键合形成环。L表示单键或2价的连接基团。Ar表示芳香环。n表示2以上的整数。
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公开(公告)号：CN105008996B
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201480011597.8
申请日：2014-02-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C311/06 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，包括(i)形成含有感光化射线性或感放射线性树脂组合物的膜的步骤，所述组合物含有由特定式表示的化合物(A)，不同于化合物(A)且能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物(B)，以及不与由化合物(A)生成的酸反应且能够通过化合物(B)生成的酸的作用降低对含有机溶剂的显影剂的溶解度的树脂(P)，(ii)使膜曝光的步骤，以及(iii)通过使用含有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影从而形成负型图案的步骤；上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物；一种使用所述组合物的抗蚀剂膜。本发明的上述技术特征确保在形成超细图案时，粗糙度性能及散焦性能高且分辨率及曝光宽容度卓越。
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公开(公告)号：CN109643063A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201780052943.0
申请日：2017-08-23
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种含有树脂和通过活性光线或放射线的照射产生酸的化合物的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。其中，上述树脂包含由下述通式(I-1)表示的重复单元(a)和具有通过酸的作用包含单环的保护基脱离产生极性基的基团的重复单元(b)。式中，R11及R12分别独立地表示氢原子或烷基。R13表示氢原子或烷基、或者是单键或亚烷基，且与式中的L或Ar键合形成环。L表示单键或2价的连接基团。Ar表示芳香环。n表示2以上的整数。
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公开(公告)号：CN112020673A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201980026422.7
申请日：2019-04-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种Z‑因子良好，并且能够形成桥接缺陷得到抑制的图案的EUV光用感光性组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法。EUV光用感光性组合物含有规定的树脂及光产酸剂，或者含有具有含光产酸基团的重复单元的规定的树脂，且满足必要条件1～必要条件3。必要条件1：由式(1)求出的A值为0.14以上。式(1)：A＝([H]×0.04+[C]×1.0+[N]×2.1+[O]×3.6+[F]×5.6+[S]×1.5+[I]×39.5)/([H]×1+[C]×12+[N]×14+[O]×16+[F]×19+[S]×32+[I]×127)。必要条件2：EUV光用感光性组合物中的固体成分浓度为5.0质量％以下。必要条件3：相对于EUV光用感光性组合物中的总固体成分，光产酸剂的含量为5～50质量％。
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公开(公告)号：CN111512229A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201880082630.4
申请日：2018-10-30
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种可获得灵敏度优异的抗蚀剂膜且可获得LER性能优异的图案，并且能够抑制图案形成时的图案崩塌的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法、带抗蚀剂膜的空白掩模、光罩的制造方法以及电子元件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：树脂X，其具有以通式(I)表示的重复单元A、具有酸分解性基的重复单元B以及选自由以通式(II)表示的重复单元c1等的重复单元C；化合物Y，其为通过光化射线或放射线的照射而碱性降低的碱性化合物或铵盐化合物；及光产酸剂Z，其为化合物Y以外的化合物。
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公开(公告)号：CN110537148A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201880026076.8
申请日：2018-04-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种Z-因子良好且能够形成图案崩塌得到抑制的图案的EUV光用感光性组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法。EUV光用感光性组合物含有规定的树脂及光产酸剂，或者含有具有含光产酸基团的重复单元的规定的树脂，且满足要件1和要件2。要件1：由式(1)求出的A值为0.14以上。式(1)：A＝([H]×0.04+[C]×1.0+[N]×2.1+[O]×3.6+[F]×5.6+[S]×1.5+[I]×39.5)/([H]×1+[C]×12+[N]×14+[O]×16+[F]×19+[S]×32+[I]×127)。要件2：EUV光用感光性组合物中的固体成分浓度为2.5质量％以下。
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公开(公告)号：CN105008996A
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201480011597.8
申请日：2014-02-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C311/06 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，包括(i)形成含有感光化射线性或感放射线性树脂组合物的膜的步骤，所述组合物含有由特定式表示的化合物(A)，不同于化合物(A)且能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物(B)，以及不与由化合物(A)生成的酸反应且能够通过化合物(B)生成的酸的作用降低对含有机溶剂的显影剂的溶解度的树脂(P)，(ii)使膜曝光的步骤，以及(iii)通过使用含有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影从而形成负型图案的步骤；上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物；一种使用所述组合物的抗蚀剂膜。
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