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公开(公告)号：CN107210215A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680006546.5
申请日：2016-02-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/308
CPC classification number: H01L21/304 , C07C321/04 , C07C321/22 , C07C321/26 , C07C323/12 , C07C323/52 , C07C323/58 , C07D213/70 , C07D239/40 , C07D249/12 , C22B30/04 , C22B58/00 , H01L21/02052 , H01L21/02057 , H01L21/3081 , H01L21/31111 , Y02P20/582
Abstract: 本发明提供一种含有酸与巯基化合物的III‑V族元素的氧化物的去除液、抗氧化液或处理液及使用这些的方法、以及含有酸与巯基化合物的半导体基板的处理液及使用该处理液的半导体基板产品的制造方法。
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公开(公告)号：CN104487875A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201380038638.8
申请日：2013-07-26
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B1/04 , G02B5/201 , G02B5/208 , G02B5/223 , G02B13/001 , H04N5/2254 , H04N5/2257 , H04N5/33 , Y10T428/24942 , Y10T428/31663 , C09K3/00 , H01L27/14 , H04N5/335
Abstract: 本发明提供一种耐光性优异，并且抑制非均匀性产生的近红外吸收组合物。该近红外吸收组合物包含在近红外吸收区域中具有最大吸收波长的铜配合物以及表面活性剂。
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公开(公告)号：CN104487875B
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201380038638.8
申请日：2013-07-26
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B1/04 , G02B5/201 , G02B5/208 , G02B5/223 , G02B13/001 , H04N5/2254 , H04N5/2257 , H04N5/33 , Y10T428/24942 , Y10T428/31663
Abstract: 本发明提供一种耐光性优异，并且抑制非均匀性产生的近红外吸收组合物。该近红外吸收组合物包含在近红外吸收区域中具有最大吸收波长的铜配合物以及表面活性剂。
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公开(公告)号：CN104583819A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201380043244.1
申请日：2013-07-10
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B1/04 , C08F222/1006 , C09B57/10 , G02B1/12 , G02B5/208 , G02B5/223 , H04N5/2254 , H04N5/2257 , H04N5/33
Abstract: 本发明提供一种近红外线吸收性组合物，其即便为薄膜，近红外线遮蔽性也优异，能够进行涂布，即使增加铜配合物的固体成分比例，也可抑制可见光线的透过率及后烘烤后的透过率减少。一种近红外线吸收性组合物，其为含有铜配合物、多官能聚合性化合物及溶剂的近红外线吸收性组合物，所述近红外线吸收性组合物的固体成分为35～90质量％。
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公开(公告)号：CN107210215B
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN201680006546.5
申请日：2016-02-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/308
Abstract: 本发明提供一种含有酸与巯基化合物的III‑V族元素的氧化物的去除液、抗氧化液或处理液及使用这些的方法、以及含有酸与巯基化合物的半导体基板的处理液及使用该处理液的半导体基板产品的制造方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104937453A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201480004195.5
申请日：2014-02-03
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B5/208 , C07F1/08 , C08F2/44 , C08K5/0091 , C08K5/42 , C08L63/00 , C09D5/32 , G02B5/22 , G02B5/223 , H01L27/14618 , H01L27/14625 , H01L2224/11 , H04N5/2254 , H04N5/332
Abstract: 本发明的课题在于提供一种在制成硬化膜时维持高的近红外线遮蔽性、且可形成耐热性优异的硬化膜的近红外线吸收性组合物。本发明的近红外线吸收性组合物含有铜络合物及溶剂，上述铜络合物是使两种以上的下述通式(I)所表示的磺酸或其盐与铜成分反应而成。(通式(I)中，R1表示有机基)。
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公开(公告)号：CN104272146A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201380024372.1
申请日：2013-05-07
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种可以通过涂布形成为层并且近红外遮蔽性能优异的近红外吸收液体组合物。一种近红外吸收液体组合物，所述近红外吸收液体组合物包含铜化合物、具有可聚合基团的化合物和50至80质量％的溶剂。
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公开(公告)号：CN104903759B
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：CN201480004115.6
申请日：2014-02-13
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B5/208 , G02B1/04 , G02B13/003 , G03B11/00 , H01L27/14621 , H01L27/14638 , H01L27/14685 , H04N5/2254 , H04N5/33 , H04N5/335 , C08L63/00 , C08L101/14
Abstract: 本发明提供一种近红外线吸收性组合物、近红外线截止滤波器及其制造方法、以及照相机模块及其制造方法。本发明的近红外线截止滤波器含有近红外线吸收物质，膜厚为300μm以下，且波长450nm～550nm的范围内的可见光透射率为85％以上。因此，本发明的近红外线截止滤波器可实现高的近红外线遮蔽性、可减小膜厚而可见光透射率高。
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公开(公告)号：CN104937453B
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：CN201480004195.5
申请日：2014-02-03
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B5/208 , C07F1/08 , C08F2/44 , C08K5/0091 , C08K5/42 , C08L63/00 , C09D5/32 , G02B5/22 , G02B5/223 , H01L27/14618 , H01L27/14625 , H01L2224/11 , H04N5/2254 , H04N5/332
Abstract: 本发明的课题在于提供一种近红外线吸收性组合物及其应用、照相机模块及其制造方法、磺酸铜络合物及其混合物，所述近红外线吸收性组合物在制成硬化膜时维持高的近红外线遮蔽性、且可形成耐热性优异的硬化膜。本发明的近红外线吸收性组合物含有铜络合物及溶剂，上述铜络合物是使两种以上的下述通式(I)所表示的磺酸或其盐与铜成分反应而成。通式(I)中，R1表示有机基。
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公开(公告)号：CN104903759A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201480004115.6
申请日：2014-02-13
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B5/208 , G02B1/04 , G02B13/003 , G03B11/00 , H01L27/14621 , H01L27/14638 , H01L27/14685 , H04N5/2254 , H04N5/33 , H04N5/335 , C08L63/00 , C08L101/14
Abstract: 本发明的近红外线截止滤波器含有近红外线吸收物质，膜厚为300μm以下，且波长450nm～550nm的范围内的可见光透射率为85％以上。
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