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公开(公告)号：CN109328315B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201780036582.0
申请日：2017-06-13
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/20 , G02B5/22 , G02B5/23 , G03F7/027 , G03F7/00 , G03F7/105 , C09B23/04 , C09B57/00 , H01L27/146 , C09B23/00 , H01L31/0216 , C09B67/00 , B32B7/023
Abstract: 本发明提供一种能够形成在源自可见光线的噪点较少的状态下能够透射红外线的膜的组合物、膜、层叠体、红外线透射滤波器、固体摄像元件及红外线传感器。组合物包含使红外线透射而遮挡可见光的色材、红外线吸收剂及树脂，红外线吸收剂包含在波长大于900nm且1000nm以下的范围内具有最大吸收波长的化合物，作为组合物的波长400～950nm的范围内的吸光度的最小值A与波长1100～1300nm的范围内的吸光度的最大值B之比的A/B为4.5以上。
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公开(公告)号：CN101925636B
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN200980103287.8
申请日：2009-01-29
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C09B67/0063 , C08G73/0206 , C08L79/02 , C09B67/009 , C09D7/45 , G02B1/04 , G02B5/201 , G02B5/223 , C08L79/00
Abstract: 本发明提供一种树脂，其具有(i)具有氮原子的主链部、和(ii)具有pKa为14以下的官能团且与存在于该主链部的氮原子键合的基团“X”，并且，在侧链具有(iii)数均分子量为500～1,000,000的低聚物链或聚合物链“Y”。
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公开(公告)号：CN102478766A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201110363278.1
申请日：2011-11-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/004 , G03F7/00 , G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种硬化灵敏度高、显影性良好、可以形成具有优良的耐热性和所需色调的着色硬化膜的着色感光性树脂组合物，使用该着色感光性树脂组合物的图案形成方法及彩色滤光片的制造方法，彩色滤光片以及具备该彩色滤光片的显示元件。本发明的着色感光性树脂组合物至少含有(A)着色剂、(B)粘合树脂、(C)聚合性化合物、(D)下述通式(I)所表示的光聚合起始剂、(E)多官能硫醇化合物及(F)溶剂。通式(I)中，R1表示含有芳香环或杂芳香环的一价的取代基，X1、X2、X3及X4分别独立表示氢原子、卤素原子或烷基，Y表示单键或羰基，Z表示甲基或苯基。
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公开(公告)号：CN113946103B
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202111230313.2
申请日：2016-10-21
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明涉及一种干膜抗蚀剂、电路布线的制造方法、电路布线、输入装置、显示装置。提供能够制造图案直线性高的电路布线的干膜抗蚀剂。一种干膜抗蚀剂、电路布线的制造方法、电路布线、输入装置、显示装置，所述干膜抗蚀剂为在临时支承体上具有抗蚀剂层的正型干膜抗蚀剂，临时支承体的总光线雾度为0.3％以下。
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公开(公告)号：CN107615171A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680029450.0
申请日：2016-05-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/40 , G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/039 , G03F7/20 , G06F3/041 , G06F3/044 , H01L21/306 , H05K3/06
CPC classification number: G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/40 , G06F3/041 , G06F3/044 , H01L21/306 , H05K3/06
Abstract: 本发明提供一种电路配线的制造方法、电路配线、输入装置及显示装置。所述电路配线的制造方法能够以1次的抗蚀膜形成而形成包含多种图案的导电层的电路配线而制造效率优异，且不需要多种图案的导电层的对位。所述电路配线的制造方法包括：工序(a)，对具有基材和第x层至第1层的导电层的电路形成基板，在第1层导电层上形成正型感光性材料；工序(b)，进行图案曝光及显影，而将正型感光性材料设为第1图案；工序(c)，对导电层的第1层至第i层进行蚀刻；工序(d)，对残留正型感光性材料进行图案曝光及显影，从而将正型感光性材料设为第2图案；工序(e)，对导电层的第1层至第j层进行蚀刻；工序(z)，去除正型感光性材料而形成包含2种以上的图案的导电层的电路配线。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101143971B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN200710154204.0
申请日：2007-09-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明可以提供一种颜料分散组合物，其即使在含有微细化的颜料粒子的情况下，也可以抑制颜料粒子的凝聚，非结晶性、流动性优异，可以适用于各种领域，且着色力优异、具有高的颜料分散性和分散稳定性。该颜料分散组合物的特征在于，含有(a)颜料、(b)溶剂、(c)具有聚酯链的分散剂和(d)酸值为65～250mgKOH/g的分散剂，其中，上述(d)分散剂优选含有由下述通式(1)表示的结构单元、且重均分子量为1000～100000的共聚物。通式(1)中，R1表示氢原子或碳原子数为1～8的烷基。通式(1)
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公开(公告)号：CN101405310A
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200780009434.6
申请日：2007-03-13
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C08F20/36 , C08F2/38 , C08F20/04 , C08F20/10 , C08F20/26 , C08F20/52 , C08F220/14 , C08F220/18 , C08F220/26 , C09B67/009 , C09B69/101 , C09B69/109 , G02B5/20 , G03C1/73 , G03C1/735 , G03F7/0007 , G03F7/032 , G03F7/033
Abstract: 本发明提供了下述通式(1)所示的高分子化合物和其制造方法、使用了该高分子化合物的颜料分散剂、颜料分散组合物、光固化性组合物、以及滤色器和其制造方法；其中，R1为(m+n)价的有机连接基团，R2为单键或2价的有机连接基团，A1为含有选自有机色素结构、杂环结构、酸性基团、具有碱性氮原子的基团、脲基、氨基甲酸酯基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基和羟基中的至少一种部位的1价有机基团，m＝1～8，n＝2～9，m+n＝3～10，P1为高分子骨架。
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公开(公告)号：CN101143971A
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：CN200710154204.0
申请日：2007-09-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明可以提供一种颜料分散组合物，其即使在含有微细化的颜料粒子的情况下，也可以抑制颜料粒子的凝聚，非结晶性、流动性优异，可以适用于各种领域，且着色力优异、具有高的颜料分散性和分散稳定性。该颜料分散组合物的特征在于，含有(a)颜料、(b)溶剂、(c)具有聚酯链的分散剂和(d)酸值为65～250mgKOH/g的分散剂，其中，上述(d)分散剂优选含有由通式(1)表示的结构单元、且重均分子量为1000～100000的共聚物。通式(1)中，R1表示氢原子或碳原子数为1～8的烷基。
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公开(公告)号：CN111902775B
公开(公告)日：2024-01-02
申请号：CN201980021987.6
申请日：2019-03-22
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种图案形成性优异并且抑制了在图案之间产生残渣的图案的制造方法、光学滤波器的制造方法、固体摄像元件的制造方法及图像显示装置的制造方法。并且，提供一种光固化性组合物及膜。图案的制造方法包括：使用含有色材和树脂，且固体成分的酸值为1～25mgKOH/g的光固化性组合物在支承体上形成光固化性组合物层的工序；将光固化性组合物层曝光成图案状的工序；及使用含有有机溶剂的显影液对未曝光部的光固化性组合物层进行处理而显影的工序。
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